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"E-beam Evaporator" 검색결과 81-100 / 202건

  • 반도체 공정의 이해
    액체를 젤로 다시 젤을 고체물질로 변화시켜 막을 형성 Sputtering( DC/RF/magnetron ) Evaporation( Thermal/E-beam ) LPCVD( Low ... Evaporation ( 진공증착 ) : 고진공상태에서 기판에 증착하고자 하는 물질의 소스를 전기저 항을 이용해 가열 또는 e-beam 을 쪼여 고체상태의 원자를 기체 상태의 원자로 ... 만들어 증착시키는 방법 .진공 챔버 기판 형성된 박막 E-beam 가열 저항가열 material Evaporation flow Substrate heater Thin Film 형성공정
    리포트 | 29페이지 | 3,500원 | 등록일 2011.11.18
  • 산화층 두께에 따른 MOS Capacitor의 C-V 및 I-V 그래프 변화 분석
    Thermal&E-beam 장치의 내부먼저 오른쪽 그림의 장치 내부사진을살펴보면 내부의 왼쪽이 thermal evaporator이고, 오른쪽이 E-beamEvaporat절연체는 Tunneling ... Thermal&E-beam controller그림12. ... E-beam은 불균일한 막을 형성하며, 잔존가스, 열, 도가니에 의해 오염이 일어날 수 있다.
    리포트 | 16페이지 | 2,000원 | 등록일 2013.12.31 | 수정일 2014.04.10
  • [기계공학실험] 마이크로 표면 측정
    종류를 살펴보면 스퍼터링 (Sputtering), 전자빔 증착 법(E-beam evaporation), 열 증착 법 (Thermal evaporation), 레이저 분자 빔 증착 법 ... (L-MBE, Laser Molecular Beam Epitax. ... 금속의 증기를 사용하는 증발(evaporation) 증착법과 물질에 물리적인 충격을 주는 방법인 Sputtering 증착 법으로 나뉠 수 있다.
    리포트 | 10페이지 | 2,500원 | 등록일 2013.09.06
  • 증착결과 보고서
    다만 CVD는 PVD보다 일반적으로 훨씬 고온의 환경을 요구한다.PVD에 해당하는 증착법에는 스퍼터링 (Sputtering), 전자빔증착법 (E-beam evaporation), 열증착법 ... (Thermal evaporation), 레이저분자빔증착법 (L-MBE, Laser Molecular Beam Epitaxy), 펄스레이저증착법 (PLD, Pulsed Laser ... 분자들과 부딪혀서 기판에 닿지 못하거나 중간에 열을 잃어버려서 고체로 변해버리는 문제를 막기 위해 진공 환경에서 실험해야 하는 것이다.CVD에 해당하는 증착법에는 MOCVD (Metal-Organic
    리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.11.06
  • 재공실 - sputtering 결과보고서
    실험이 진행될 Chamber와 높은 에너지로 인해 가열되어있는 Chamber를 식혀주는 역할을 하는 Chiller, 이 모든 과정을 제어해주는 제어부분(Front panel), e-gun에 ... 사용하는 ECR 스퍼터(ECR sputtering), 가스압이 보통 냉음극 직류 글로우 방전 유지 영역인 10-1~10-2Torr보다 낮은 경우 낮은 가스압 스퍼터(low pressure ... 이온원을 열음극형 카우프만 이온원을 사용하는 이온빔 스퍼터(ion beam sputter), 전자 사이클로트론 공명(electron cyclotron resonance)형 이온형을
    리포트 | 3페이지 | 2,000원 | 등록일 2013.10.29
  • PVD 증착
    Evaporation E-Beam Evaporation DC Sputtering RF Sputtering Magnetron Sputtering PVD ┃ IntrodutionPVD ... Beam) 의 개략도 PVD ┃ EvaporationElectron-Beam Evaporation 장점 : 증착 속도 가 빠르다 .(50Å/sec 가능 ) 고융점 재료의 증착이 가능 ... Beam Epitaxy )PVD ┃ IntrodutionEvaporation Sputtering Ion Plating M.B.E (Molecular Beam Epitaxy ) Thermal
    리포트 | 46페이지 | 4,000원 | 등록일 2010.07.29
  • [LCD실험] Color filter 제작 및 분석
    : evaporation의 방법으로는 thermal evaporation과 e-beam evaporation, 그리고 이 둘을 조합하는 방법이 있다. ... 또한, 유기 재료를 사용하는 경우 BM-on-TFT 어레이 구조가 가능하여 고개구율 화소 설계가 가능하다.CF (Color filter)일반적인 color filter의 경우, 즉 ... UV-VIS 스펙트로 스코피는 이러한 원리를 이용한 것으로 물질이 빛을 흡수하는 파장을 알아내는 것이다.
    리포트 | 9페이지 | 10,000원 | 등록일 2013.06.14
  • 박막증착
    Physical Vapor Deposition주요한 PVD 기술은 Sputtering, E-Beam, Evaporation 그리고 Thermal Evaporation이다.1) Sputtering모든 ... 비균형적인 스퍼터링이 불리한전도 plasma의 밀도가 낮아서 target의 효율과 sputter rates가 낮아진다는 것이다.(5) E-Beam 일반적인 증착 /반응적 증착E-Beam ... 정규적인 E-baem 증착에서, 실험실의 압력은 매우 낮아서 다량의 증착 물질이나 박막과의 화학적 반응을 방지할 수 있다.
    리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.06.05 | 수정일 2013.12.01
  • Alq3의 발광 박막의 제조
    micron) 두께로 특정 기판 상에 올리는 과정 thermal evaporation( 열 증착 ) e-beam evaporation(e-beam 증착 ) Sputtering CVD ... stretch C-N stretch Al-O stretch실험 결과실험 결과실험 결과 393nm실험 결과 510nm고찰 박막 제조에서 스핀 코팅 시 기포 발생 이유 Wafer 세정 ... (chemical vapor deposition) MOCVD (metal-organic chemical vapor deposition) MBE Thin film deposition(
    리포트 | 16페이지 | 4,000원 | 등록일 2011.05.28
  • Al2O3 절연체 두께에 따른 MOS Capacitor의 전기적 특성 분석
    Thomas Schroder, IHP – Microelectronics 6) 이후정교수님 ‘반도체공학개론’ 강의자료 7) http://www.docstoc.com/docs/21091153/E-beam-Evaporator-Manual ... C-V Results Analysis C-V graph by thicknessd C-V curve analysis 2. ... I-V Results Analysis 6nm , 12nm and 18nm I-V graphsd Leakage current-V curve 1.
    리포트 | 24페이지 | 2,000원 | 등록일 2013.12.30
  • 진공(vacuum) 진공펌프(vacuum pump) 진공게이지(vacuum gauge) 조사
    발생한다.- e-beam source 위에 원자의농도가 크므로 와류 또는 discharge가심하다.3. ... 등과, 용융점이 넓은 재료의 evaporation에 적합한 electron beam이 있다. ... Electron Beam Evaporation전자 beam을 이용한 증착방법은 증착재료의 용융점이 넓은 경우(ex:W, Nb, Si)에 주로 사용된다.
    리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.03.26
  • 다층 박막 분석 및 평가
    재료설계 및 평가실험 ⅡTi/Si 다층박막의 열처리에 따른형성 평가 및 분석 실험1.실험목적-PVD(Physical Vapor Deposition) 방법 중의 하나인 E-Beam Evaporation의 ... 그리고 시료훼손이 적으며 다양한 시료의 측정이 가능하다.3.실험방법1)E-beam Evaporation: ?(Si 100nm, Ti 50nm) 1회 증착한다.? ... Evaporator-텅스텐 필라멘트에 전압을 가하여 가열을 시키면 열전자로 인해 electron beam이 발 생한다.Electron beam이 자기장에 의해서 증착하고자 하는 물질이
    리포트 | 6페이지 | 2,000원 | 등록일 2010.12.17
  • MOSFET/Capacitor/반도체 신소재실험보고서
    PVD에 해당하는 증착법에는 Sputtering, 전자빔증착법(E-beam evaporation), 열증착법(Thermal evaporation) 등이 있다. ... 25.47E-11F4.94E-11F4.46E-08m1.46E-08mCell 35.42E-11F4.93E-11F4.50E-08m1.37E-08mCell 45.34E-11F4.89E- ... 11F4.57E-08m1.28E-08mCell 55.47E-11F4.95E-11F4.46E-08m1.43E-08m평균5.45E-11F4.95E-11F4.48E-08m1.39E-08mp-type
    리포트 | 23페이지 | 2,500원 | 등록일 2013.12.03 | 수정일 2013.12.05
  • 리소그라피와 패터닝
    하기 쉬움 재료의 선택에 따라 각종 박막형성 가능 , 대량처리 가능 Chemical Vapor Deposition(CVD)CVD 에 비해 작업조건이 깨끗 진공상태에서 저항열이나 e-beam ... 변화Thermal-evaporator 란 ? ... 문제점해결방안 3A1 A2 A3 A4 A5 B1 C1 D1 E1 F1 G1 H1 I1 문제점해결방안 3- 구조Substrate 문제점해결방안 3- 구조모든 나노 구조체를 만들기 위해
    리포트 | 24페이지 | 2,000원 | 등록일 2010.06.05
  • 박막증착 공정과 식각 공정 자료입니다.
    A common method for accomplishing this is electron beam (e-beam) evaporation. ... rod of material held perature at the end of the rod and creating an atomic beam.In most e-beam evaporators ... It is also difficult to produce well-controlled alloys by evaporation.
    리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.06.23
  • 나노 구조 제작 방법
    하기 쉬움 재료의 선택에 따라 각종 박막형성 가능 , 대량처리 가능 Chemical Vapor Deposition(CVD)CVD 에 비해 작업조건이 깨끗 진공상태에서 저항열이나 e-beam ... 변화Thermal-evaporator 란 ? ... DC or RF sputtering Pulsed Laser Depostion Ion Beam sputtering Molecular beam epitaxy CVD : Chemical
    리포트 | 19페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.06.03
  • Thin –Film Evaporation Processes
    Torr 이하로 유지 종류 : Thermal evaporation, e-beam evaporation 등 장점 : 공정이 단순, 증착률이 높으며 속도가 빠름장치 구성이 간단 ( ... Introduction Evaporation: 액체 표면으로부터 원자와 분자가끓는점 미만에서 기화하는 현상 Vacuum Evaporation: 진공으로 된 용기 내 증착하고자하는 ... 가해서 고체 또는액체로부터 증기를 발생시켜 발생된증기를 기판에 증착 시키는 과정(고진공, 직진성을 가짐)• 기판과 소스 거리 : 10~100cm 이내• 증기용기 내 압력 : 10-5
    리포트 | 22페이지 | 1,500원 | 등록일 2010.05.11
  • 메모리 반도체 제작 과정 및 이론 설명 ppt
    (436nm) J-line (365nm) Krf (248nm) Arf (193nm) 광노광 장치 : 접촉형 , 근접형 투시형 , 투사반복형 비광학 노광 장치 : E-beam X-ray ... FRAM결정성장 PVD : Physical Vapor Depostion CVD : Chemical Vapor Deposition Thermal evaporation DC or RF ... sputtering Pulsed Laser Depostion Ion Beam sputtering Thermal CVD Plasma enhanced CVD Metal-organic CVD
    리포트 | 72페이지 | 10,000원 | 등록일 2013.04.22 | 수정일 2023.04.24
  • [LCD실험]Color Filter 제작 및 광학적 특성 평가
    방법으로는 thermal evaporation과 e-beam evaporation, 그리고 이 둘을 조합하는 방법이 있다. ... 제작한 Color filter의 경우 spectarget으로부터 입자를 떼어내어 특정 기판상에 옮겨 붙이는 공정이다. eq \o\ac(○,2) Evaporation: evaporation의 ... Evaporation 방법은 공정이 단순하고 증착 속도가 빠르며 장비의 가격이 저렴한 장점이 있는 반면 film quality가 나쁘다.
    리포트 | 10페이지 | 6,000원 | 등록일 2012.07.11
  • 반도체 솔라셀 기말발표
    주요한 PVD 기술은 Sputtering , E-Beam, Evaporation 그리고 Thermal Evaporation 이다 . 1) Sputtering 박막 증착에서 sputtering ... 이러한 Sputtering 현상을 이용하여 wafer 표면에 금속막 , 절연막 등을 형성한다 .2) 열 증착법 (Thermal evaporation) 열 증착법은 진공증착이라고 표현하기도 ... Hard bake - 10-30 분 정도 100-140 ℃ 를 유지함 남아있는 Solvent 를 제거하여 PR 을 건조시키며 기판에 대한 PR 의 접착도 증가 .
    리포트 | 32페이지 | 1,000원 | 등록일 2013.01.23
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2024년 09월 15일 일요일
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방송통신대학 관련 적절한 예)
- 국내의 사물인터넷 상용화 사례를 찾아보고, 앞으로 기업에 사물인터넷이 어떤 영향을 미칠지 기술하시오
5글자 이하 주제 부적절한 예)
- 정형외과, 아동학대