"Soft-lithography" 검색결과 81-100 / 115건

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  신소재개론 기말

  - 종류 : EUV, X-ray, E-beam lithography- 장점 : 을 증가시키기 위함인데 Soft Bake, Hard Bake, Post Bake가 있다.Soft Bake ... 비해 서 정밀도도 높고 particle도 튀지 않아 정밀한 작업이 가능Photo Lithography- 빛을 이용한 전통적인 리소그래피- ‘50nm 장벽’을 극복하기 위한 리소그래피 ... Align) 및 노광(Exposure)후 현상액을 이용하여 필요한 곳과 필요없는 부분을 구분 하여 상을 형성하기 위해 일정부위의 PR을 제거하는 것.Nano LithographySoft Lithography의

  리포트 | 14페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.10.29

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  Lithography 및 PR, etchant

  LithographyPhoto lithography와 Soft lithography 두종류로 나뉘며, Soft lithography는 고해상도로 가기위해 새로개발한 방법이다.1-1. ... Ion Beam LithographyIon Beam Lithography는 Electron Beam이나 X-Ray Lithography 보다는 소수의 Group이 연구해왔으나 이론적으로는 ... 이 기술이 조금 더 발전하여 Mask와 Wafer간의 Gap을 줄여 해상력을 높였는데 Gap의 차이에 따라 Soft Contact, Hard Contact(10∼20㎛ 이하) 그리고

  리포트 | 6페이지 | 2,000원 | 등록일 2007.11.06

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  MOS소자 형성 및 c-V특성 평가

  . (100nm ->5초, 500rpm )3) Soft-baking공정( 40˚c에서 3분간 baking )4)uv도광기를 이용해 40초 동안 UV를 쐬준다.4) 현상액(KOH)에 ... 빛은 생성된 Ar이 target을 때리면 부스러기가 만들어지고 시간이 지나면 target이 안정한 상태로 돌아가려는 중에 에너지가 빛으로 나오게 되어 생성된다.lift-offPhoto-lithography로 ... , 35min(3) Photo-lithography1)80˚c에서 2~3분간 열처리2)산화 막이 형성된 Wafer에 PR(Photo Resist)를 SpinCoater를 이용해 Coating한다

  리포트 | 9페이지 | 2,000원 | 등록일 2011.05.17

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  리소그라피(lithography)에 대한 조사

  실제로 노광에 이용되는 것은 연 X-선(Soft X-ray)이라 불리는 파장이 4~50의 X-선이고, 원리적으로는 밀착 노광 방식의 자외선을 X-선으로 광원을 바꾼 것이라고 생각할 ... Lithography)이온빔 노광기술은 전자빔 및 X-선 노광과 비교하여 초미세 패턴형성용 노광 기술이다. ... 노광기술(X-ray Lithography)X-선 노광기술은 깊은 초점심도 및 일괄전사에 의한 높은 생산성을 기대할 수 있으므로 차세대 노광 기술로 매우 유망한 기술이다.

  리포트 | 3페이지 | 3,000원 | 등록일 2008.04.03 | 수정일 2017.03.21

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  MOS소자

  ILD, IMD④ 소자간의 격리 - LOCOS, STI⑤ 열주기 동안 불순물 주입 mask layer⑥ Gate capacitor, MOSFET에서의 유전체(3) 사진식각공정(Photo-lithography ... ) Cleaning1) Piranha cleaning2) HF cleaning(2) Thermal oxidation: furnace를 이용하여 oxide를 성장시킴(3) Photo-lithography ... etching) 하는 과정에서 패턴을 만들게 되는데, 사진 공정으로 형성된 PR 패턴을 매개 층으로 하여 부분적인 주입 및 식각을 수행할 수 있게 된다.(4) Baking의 역할① Soft

  리포트 | 7페이지 | 1,500원 | 등록일 2010.05.12

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  Photo-lithography & Sputtering

  -Photo-lithography & Sputtering?? 제조공정1. ... 회전을 하면서 PR코팅을 Glass 위에 균일한 두께로 코팅하는 모습을 직접 볼 수 있었습니다.ⅳ)Soft-bake-PR에 남은 용제를 Hot Plate 위에 올려놓아서 제거함으로써 ... 장비사진-PR Coater-Stepper 4. 실험결과☞ 이번 실험은 직접 그동안 배운 이론들을 직접 실험실에 들어가서 실험복을 입고 실험을 하였습니다.

  리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.05.10

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  mos (Metal-Oxide-Semiconductor)작동원리 이해

  Soft bake: 감광막내의 잔여 solvent 제거하여 감광막 성질을 유지After spinning; 15% solvent & Built-in stress- 감광막의 건조- 접착력 ... *Sputter의 종류- DC Sputt 면 의 매 우 가 까 운 곳 에 유 지 , 증 착 속 도 향 상 .③ 사진식각공정(Photo-lithography)사진공정이란 마스크에 설계된 ... ) Cleaning1) Piranha cleaning2) HF cleaning(2) Thermal oxidation: furnace를 이용하여 oxide를 성장시킴(3) Photo-lithography

  리포트 | 8페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.07.07

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  MOS소자

  현재 개발된 하이-K 물질은 하프니움 다이옥사이드(HfO2), 지르코니움다이옥사이드(ZrO2) 등이 있으dation: furnace를 이용하여 oxide를 성장시킴(3) Photo-lithography ... 음극에 영구 자석을장착하여 target 표면과 평행한 방향으로 자장을 인가하여, Plasma가target 표면의 매우 가까운 곳에 유지, 증착속도 향상.(4) 사진식각공정(Photo-lithography ... 수행할 수 있게 된다.1) 사진식각공정의 용도2) 사진식각공정 Process3) Spin rpm에 따른 PR 두께 및 PR 두께에 따른 적절한 노광시간4) Baking의 역할① Soft

  리포트 | 11페이지 | 1,500원 | 등록일 2010.07.04 | 수정일 2016.04.25

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  [예비 / 결과레포트] 유기물을 이용한 마이크로 패턴 제작

  (Put the glass in petri-dish quickly after cleaning.)- Lithography Process(1) PR doping process : Run ... 3 : RPM 2000, 5 sec(2) Soft baking process : Soft bake on heat plate. (120℃, 90 sec)(3) Photo process ... - Preliminary and Final Report -1.

  리포트 | 10페이지 | 1,500원 | 등록일 2009.12.23

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  TFT 기술개요, 단위공정&개선기술, 응용 및 최근기술 동향, 기술 관련 특허

  공정① Photo-resist↓② Cleaning↓③ Spin Coating↓④ Soft Baking↓⑤ Exposure↓⑥ Development↓⑦ Post Baking2.1.4 ... IBE(Ion Beam etching, Dry physical etching)- 낮은 압력과 높은 이온 에너지에서 반응높은 이방성2.1.3 포토리소그래피 공정(Photo-Lithography ... Process)포토리소그래피(Photo-Lithography) 공정은 어떤 특정한 화학약품(Photo resist)이 빛을 받으면 화학반응을 일으켜서 성질이 변화하는 원리를 이용하여

  리포트 | 16페이지 | 3,000원 | 등록일 2010.03.08

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  Lithography, Sputter, VSM, PHR, MR 의 실험 이론 및 방법 및 결과 및 고찰

  자기공학설계1) Lithography1. ... Soft-bake와 비슷하다. solvent를 증발시키고, 좋은 adhesion을 얻기 위해 한다. ... 실험 이론1-1 정의- Photomask의 pattern을 웨이퍼의 표면에 transfer 시키는 공정1-2 공정 및 공정의 간략한 설명- Photolithography는 일반적으로

  리포트 | 31페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.12.18

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  Controlling flows in microchannels

  Whitesides, Soft lithography, Angew. Chem. Int. Ed., 37(5):550-75, 16 March 1998.3714G.M. ... Microfabrication - Materials science - Surface chemistry - Self-assembly - Rational drug design and - ... by charge-to- size ratio (+ for analysis, - for general transport)• often moving parts (-) • parabolic

  리포트 | 20페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.10.04

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  Soft lithography

  실험기법 보고서 4수요일 5조Soft lithography과목명 :제출일 :담당교수 :학번 :이름 :AbstractNano imprint가 주로 단단한 스템프를 이용하여 나노 스케일 ... 이러한 기술 중에서 대표적인 기술로는 soft lithography를 들 수 있다. ... PDMS는 -O-Si(CH3)2-의 repeating unit으로 구성되어 있다.

  리포트 | 7페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.10.16

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  Photolithography 예비보고서

  disk head, ink jet printer head 그리고 LCD 및 MEMS(micro-electro-mechanical system) 등을 만들기 위한 매우 중요한 기술이다 ... 리소그래피(lithography)는 시스템 집적 반도체를 포함한 기억소자와 마이크로 프로세서 (micro processor)등의 실리콘 소자 뿐만 아니라 화합물 소자나 thin film ... PR과정을 마치면 Soft Bake 과정을 거쳐야 하는데, 이것은 용제를 증발시켜 감광막을 건조시키고, 접착도를 향상시키며 열에 의한 annealing 효과로 응력을 완화시키는 과Fig

  리포트 | 4페이지 | 1,500원 | 등록일 2011.07.10

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  반도체공정 (Photolithography)

  Soft bake on Vacuum hot plate② Process characterizationFigure 1.17 Solvent content of resist versus ... 스핀코팅 후는 10에서 20%로 solvent량이 감소된다. soft bake 후의 이상적인 solvent의 양은 4~7%이다.① Soft bake equipmentFigure 1.16 ... 장비의 청결을 유지하기 위해- soft bake를 하지 않았을 때 발생되는 문제점 -?

  리포트 | 31페이지 | 4,500원 | 등록일 2007.01.27

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  [기계공학]노광기

  Soft Lithography-Micro contact printing이공정기술의 원리는 먼저 잉크를 이용해서 눌렀다 떼기를 반복해서 하는 방식을 원리로 하고 있다. ... 비전통적 나노리소그래피로 들고 있는 Soft Lithography와 Nano imprinting 방법은 인쇄기법과 비슷하게 접촉을 통하거나 molding을 이용하는 면에서 보다 기계공학적이라고 ... Election Beam Lithography, Extreme UV Lithography, X-ray Lithography는 기존 공정에서 사용하는 UV light 파장보다 작은 파장을

  리포트 | 7페이지 | 1,500원 | 등록일 2006.05.26

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  photolithography

  Soft bake ( PR내 solvent 증발, PR 고형화 )웨이퍼전면에 도포된 P/R의 간 적용 )레티클에 형성된 패턴을 웨이퍼 표면과 일치시킨 후 자외선 빛을 부분적으로 투과시켜 ... 일반적으로 반도체 소자 제조 공정은 박막 증착(CVD, PVD, Oxidation etc), 사진공정(Lithography), 식각공정(Etching)을 반복적으로 수행으로써 설계된 ... - prebake : 증착시키기 전에 미리 열을 가하는 공정120℃에서 1~2분 PR 도포 후에 resist내에 들어 있는 solvent를 70~90% 정도 제거한다.

  리포트 | 5페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.10.19

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  MOS(Metal-Oxide-Semiconductor)

  분당 3.3nm의 속도로 증착이 된다.(3) Photo-lithography(사진식각공정)① 웨이퍼 위에 PR약을 뿌려 5초 동안은 500rpm, 그 뒤 35초간 3500rpm의 속도로 ... PR의 두께는 약 1.2~1.5um이 된다.② Soft bake 과정을 통해에 2분간 굽는다. ... 실험결과(1) C-V, I-V curve 그래프SiO2 산화막의 C-V Curve.

  리포트 | 6페이지 | 2,000원 | 등록일 2009.05.26

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  [재료공정] 소프트 리소그라피

  [Soft Lithography]1. ... Whitesides 교수에 의해 최초로 soft lithography 개념을 도입(4) Soft lithography using PDMS- 실리콘계 고무인 poly(dimethylsiloxane ... PDMS 제작 공정- 여러 종류의 Soft Lithography에서 공통적으로 쓰이는 Elastomer mold는 일반적으로 PDMS로 만들어진다.

  리포트 | 3페이지 | 무료 | 등록일 2005.04.01

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  Photoresist 및 Photolithography

  : Soft Bake는 Photoresist 중에서 유기용제를 휘발시키는 공정이며 80도 전후의비교적 저온에서 행해지므로 Soft Bake라 불려진다. ... Lithography 기술 가운데서도Resist Process의 재료로써는 Photomask나 Photoresist 등이 있고, 장치로서는도포 현상기나 광학계를 포함한 정밀기계로써의 ... 이 경우 초점심도 DOF는 다음 식에 따라감소한다.이 중에서도 해상도에 미치는 영향이 가장 큰 입사광의 파장은 최초의 G-선에서점차 I-선 및 KrF로 변하여 왔고, 현재는 ArF가

  리포트 | 12페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.10.28

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