"sputter" 검색결과 81-100 / 889건

• 

  [신소재기초실험]MOS 소자 형성 및 C-V 특성 평가

  Ar압력이 필요하다.(10 ～ 15m Torr)⑦ 기판이 과열되기 쉽다.sputtering 원리3. ... .② 전류량과 박막두께가 거의 정비례하므로 조절이 쉽다.③ RF sputtering에 비해 성막속도가 크다.④ 박막의 균일도가 크다⑤ Target의 재료가 금속으로 한정된다.⑥ 높은 ... Sputtering (증착도금, uttering의 특징을 보면 장점, 단점, 구조가 간단하며, 가장 표준적인 sputter 장치이다.① 성막속도가 여러 종류의 금속에 대해 거의 일정하다

  리포트 | 10페이지 | 3,600원 | 등록일 2020.04.19 | 수정일 2020.08.13

  다운로드 장바구니
• 

  IGZO 산화물 TFT 문제현황 및 개선방안 연구결과 보고서(디스플레이)

  (photolithography)3.1 source/drain전극을 증착한다.(sputtering)3.2 증착된 source/drain전극을 패터닝한다. ... (sputtering)1.2 증착된 gate전극을 패터닝한다.(photolithography)2.1 G?I(SiO2)와 채널층을 증착한다.- G? ... 이로서 연속적으로 sputtering이 가능하다.2.2 450℃에서 열처리한다.-높은 이동도와 PBS 신뢰성을 확보하기 위해서2.3 채널층을 패터닝한다.

  리포트 | 14페이지 | 5,500원 | 등록일 2020.12.15 | 수정일 2020.12.16

  다운로드 장바구니
• 

  반도체 공정 중 식각 및 증착에 이용되는 플라즈마의 원리 및 발생방법 정리

  =>열에너지 대신 voltage 또는 current source에 의해 유도됨=>자유전자와 중성입자의 충돌로 이온화됨. ... #플라즈마 공정에서 라디칼과 이온의 이용1) positive lons(양이온)는 에칭과 스퍼터링에서 중요한 역할을 한다.2) 개수측면에서 라디칼>>이온 임. ... #Dissociation(분열,해리)전자가 분자와 충동하여, 화학 결합을 깨고 자유 라디칼(홀전자를 가진 원자 혹은 분자) 발생.예를 들어 SiF4+e -> SiF3+F+e 이들이

  리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2021.06.20 | 수정일 2021.07.06

  다운로드 장바구니
• 

  Low-Temperature Deposition of Ga-Doped ZnO Films for Transparent Electrodes by Pulsed DC Magnetron Sputtering

  한국재료학회 Dongkeun Cheon, Kyung-Jun Ahn, Woong Lee

  논문 | 7페이지 | 4,000원 | 등록일 2023.04.05

  다운로드 장바구니
• 

  On-axis 스퍼터링과 FTS 공정으로 증착한 ZTO 박막트랜지스터의 특성

  한국재료학회 이세희, 윤순길

  논문 | 5페이지 | 4,000원 | 등록일 2023.04.05

  다운로드 장바구니
• 

  RF-diode Sputtering법으로 제작한 Co박막의 자기특성과 미세구조

  한국재료학회 한창석, 김상욱

  논문 | 7페이지 | 4,000원 | 등록일 2023.04.05 | 수정일 2023.04.06

  다운로드 장바구니
• 

  ITO Scribing & Cleaning 예비

  기본적으로는 물, 용매, 초음파, UV 등으로 붙은 불순물을 제거하고, 이번 실험같이 더욱 큰 순도를 요하는 실험에서는 sputtering 등의 공정을 사용하기도 한다. sputtering ... UV를 차례로 걸어주면 오존을 거쳐 활성 산소가 만들어지고, 이를 이용하여 불순물을 제거하는 원리이다.ITO glassITO glass는 투명 기판(glass)에 ITO 박막을 sputtering ... 따라서 scribing이란 기판에 선을 그어 방향성을 가지게 하는 공정이다. 이를 scribing line이라 한다.

  리포트 | 9페이지 | 1,000원 | 등록일 2019.12.16

  다운로드 장바구니
• 

  숭실대학교 신소재공학실험2 단결정 소재 합성 예비보고서

  이러한 것들은 vapor deposition, sputtering 등의 방식으로 만들게 된다.비결정질은 결정질과는 다른 물성을 가지고, 원자 간의 결합이 약하기 때문에 잘 깨지거나 ... 대표적인 예로는 얼음(H _{2} O), 드라이 아이스(solidCO _{2})이다.결정질과 달리 비결정질은 긴 구간으로 봤을 때 무질서한 원자 배열을 보인다. ... 격정 구조를 결정축 길이와 각도에 따라 그룹화한 것인데, 기본형으로 7개의 결정계가 있는데, 삼사, 단사, 육방, 삼방, 정방, 입방으로 크게 나눌 수 있다. 7개 각각에 단순(simple

  리포트 | 3페이지 | 2,000원 | 등록일 2024.08.26

  다운로드 장바구니
• 

  PVD 증착법 예비 보고서 [A+ 레포트]

  박막 증착에서 sputtering이라 하면 target 원자의 방출과 그 원자의 substrate에의 부착이라는 2가지 과정을 포함하는 개념으로 볼 수 있다. ... 원자간 결합에너지 보다 큰 운동에너지로 충돌할 경우 이 ion 충격에 의해 물질의 격자간 원자가 다른 위치로 밀리게 되며, 원자의 표면 탈출이 발생하게 되는 현상을 물리학에서 “sputtering ... {MP}P_{MP}=S_{DP}P_{DP}=Q_maxTHEREFORE SMP={S_{DP}P_{DP}}over{P_{MP}}={Q_{max}}over{P_MP(S_MP : 로터리 펌프

  리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2020.06.01

  다운로드 장바구니
• 

  삼성전자 최종합격한 20년도 하반기 공채 DS 부문 파운드리사업부 공정기술 이력+자기소개서입니다.

  특히 연구 인턴에서의 sputtering 경험으로 metal deposition에 더욱 관심을 갖게 되었습니다. ... 2020.01~2020.02 / 서울서부센터 / 조지웅박사연구실 / 연구 보조 / 인턴IGZO 채널 FET소자의 최적의 공정 조건을 찾는 연구에서, wafer cleaning, sputtering ... drain 사이의 short가 의심됐습니다.

  자기소개서 | 6페이지 | 3,000원 | 등록일 2022.06.01

  다운로드 장바구니
• 

  반도체 공정 관련 내용 정리 리포트

  도달 구하기 쉽고 쌈Pre sputtering(불순물 제거 위해 shutter 닫아줌) 이후 sputtering 진행FPP 균일도 측정 면저항 = 비저항(물질 고유 특성)/두께Power ... rinse, thinner(solvent)이용 PR 제거) : pr이 carrier와 접촉하여 particle 유발 방지Soft bake : 잔존 solvent 제거Align & ... etch 공정으로 pattern 형성 어려움실습 진행 중 알게된 내용정리Gate length down / Wafer size up 방향성 (scaling down / up)순도 Part

  리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2020.03.12

  다운로드 장바구니
• 

  재료공학실험2(세라믹) 실험노트5

  Ion sputter를 통해 Au를 sample 표면에 균일하게 코팅하지 않고 Ag paste를 사용하여 불균일하게 코팅되었을 수 있다. ... 콘덴서이다.(2) High resistance meter : 절연체에 설정한 고전압을 인가하여 작은 전류 값을 얻어내고 높은 직류의 test 전압을 절연체 물질에 인가하여 Ohm’s ... Ag paste on SiO2 doped BaTiO3 disk(left)(2) Disk의 두께와 직경 측정- 버니어 캘리퍼를 이용해 sample의 두께와 직경을 측정했다.(3) 유전

  리포트 | 2페이지 | 1,000원 | 등록일 2022.09.08 | 수정일 2022.09.09

  다운로드 장바구니
• 

  이공계(반도체,전기전자,화학공학 등) 대학원 교수님 컨택메일 예시

  000대학교 (LAB 이름) Lab.안녕하십니까 교수님.저는 2024년 2월에 00대학교 00학부 00공학전공 졸업예정인 00학번 홍길동이라고 합니다.

  자기소개서 | 2페이지 | 4,500원 | 등록일 2023.07.12 | 수정일 2023.07.18

  다운로드 장바구니
• 

  Looking at the synthesised polymer beads by SEM,TEM microscopy

  (참고문헌3)Ion sputter법 : 가장 널리 손쉽게 쓰여지는 방법입니다. ... 이것은 장치의 구조가 간단하고 조작도 쉽기 때문이며 sputter입자는 시료 전부분 골고루 막을 형성하기 때문에 charge-up 방지효과가 월등합니다. ... SEM에서 관찰가능한 시료의 크기는 장치에 따라 표준 stage, 대형 stage등 여러 종류의 stage가 있으며, 그 이용 목적과 stage크기에 맞게 시료 제작을 세분화 해야한다

  리포트 | 4페이지 | 3,000원 | 등록일 2021.01.18 | 수정일 2023.01.12

  다운로드 장바구니
• 

  ppt 발표 자료 / 박막공정 / PVD / 설명 애니메이션 포함 / ppt 템플릿

  Thin film By PVD Thin film Processing 학과 학번 이름 Processing목차 1. 박막공정이란 ? 2. 박막공정의 종류 3. PVD1. 박막공정이란 ?기판 (Substrate) 박막 (Thin Film) 중간층 Intermediate La..

  리포트 | 14페이지 | 2,000원 | 등록일 2020.05.17 | 수정일 2020.05.21

  다운로드 장바구니
• 

  PVD방법(열 증발법, 전자빔 증발법, 스퍼터링 법)

  목차 PVD Thermal evaporator E-beam evaporator SputteringPVD 란 ? ( 물리적 기상 증착법 ) (Physical Vapor Deposition) - 증착하고자 하는 금속을 진공 속에서 기화시켜 방해물 없이 기판에 증착하는 방법..

  리포트 | 10페이지 | 1,500원 | 등록일 2020.07.09

  다운로드 장바구니
• 

  LG디스플레이 공정장비 첨삭자소서 (3)

  저는 이러한 환경을 잘 활용하기 위해 학부생때부터 대학원까지 클린룸에서 포토리소공정, RF/DC sputter, Evaporator 등을 사용하여 TFT 소자를 직접 제작할 수 있는 ... 저는 이러한 환경을 잘 활용하기 위해 학부생때부터 대학원까지 클린룸에서 포토리소공정, RF/DC sputter, Evaporator 등을 사용하여 TFT 소자를 직접 제작할 수 있는

  자기소개서 | 8페이지 | 3,000원 | 등록일 2023.02.03

  다운로드 장바구니
• 

  [기기분석] Nano FE SEM Manual (장비 사용법)

  홀더에 고정시킨 뒤 N2 gun으로 여분의 powder 및 이물질을 제거한다.전도성이 낮은 시료의 경우 sputter를 이용하여 Pt coating을 한 후 분석한다.Sputter ... 빔의 모양으로 초점 맞춘다.측정 후, UCRF server로 저장한다.Mode1, beam(HV)끄고 저배율 원상태로 놓고 stage x, y축은 모두 0으로 설정하며, z축은 건드리지 ... (Z가 lock이라면 Z= stage-home stage)- Spot =3.5, Voltage =10- HV on, 밝기 조절- Coarse, Fine으로 WD 5mm에 맞춘다.-

  리포트 | 4페이지 | 2,000원 | 등록일 2021.10.17

  다운로드 장바구니
• 

  삼성전자 파운드리 공정설계 직무 최종합_면접 공부 자료(반도체 면접 공부 자료)

  PVD는 주로 sputtering 방식을 사용하며, plasma의 양이온에 bias를 인가해 target과 충돌시켜 튕겨진target을 통해 박막을 형성하는 방법으로, 주로 도선 역할을 ... 이를 개선하기 위한 방식으로는 Halo Doping 방식이 있는데, n+의 S/D side edge 부분에 p+ doping을 하여 depletion region의 확장을 억제하는 ... 컨셉으로 S/D 근처의 doping 농도를 국부적으로 높여 S/D와 기판 사이의 Depletion region 확장을 억제하여 punch through를 억제해주는 방식입니다.Velocity

  자기소개서 | 11페이지 | 5,000원 | 등록일 2024.03.28

  다운로드 장바구니
• 

  [기기분석] 질량분석 Mass spectrometry

  이 때 sputtering되는 입자들은 주로 중성원자 형태로 방출되고 극히 일부가 양이온과 음이온의 상태로 방출되는데 이를 검출하여 정량을 하게 된다.2.1.5. ... SIMS (Secondary Ion Mass Spectrometry, 이차이온질량분석기)SIMS는 분석하고자 하는 시료의 표면에 일차 이온을 가속해 충돌시키면, sputtering ... Mass spectrometry 개요1.1 질량분석기란?

  리포트 | 13페이지 | 3,000원 | 등록일 2020.07.12

  다운로드 장바구니