"마그네트론 스퍼터링" 검색결과 121-140 / 209건

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  스퍼터링

  이러한 단점을 보완키 위해 T.horton은 마그네트론 스퍼터링을 제안하게 되었다.1. ... 반응이 어렵고, s가 높다는점기본적인 스퍼터링 장치2극 직류 스퍼터링 장치고주파(R.F) 스퍼터링법마그네트론 스퍼터링법배향타겟 스퍼터링법2극 직류 스퍼터링 장치특 징 가장 간단한 ... (~100G)고주파전원냉각수 배관셔터기판직류배기계탱크회로 매칭박스마그네트론 스퍼터링법전장및자장이 존재시 타겟에서의 전자의 운동전자들은 작은 질량으로 인해 쉽게 전기장에 의해 가속되고

  리포트 | 13페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.10.20

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  반도체공정 레포트 최종

  척의 중심부에 올려놓는다.2) Thermal Evaporation 과정① 보트 위에 유리를 올려놓는다.② 쳄버 닫고 진공을 잡는다.③ 열 증착기 이용하여 박막을 증착한다.3) DC Magnetron ... 인가할 수 있도록 금속단자가 필요한데 이러한 금속단자를 반도체 웨이퍼에 만들어주는 과정이 금속공정이다.금속공정을 통해 단자를 형성하기 위한 방법에는 화학기상증착 또는 열증착 및 스퍼터링 ... 것을 확인 한다.⑥ 플라즈마를 사용하기위해 MFC의 유량 조절 페닝 게이지는 이때 끈다.⑦ 최적화된 진공을 유지하면서 DC파워를 넣는다.⑧ 원하는 파워에 위치시킨 후 셔터를 열고 스퍼터링

  리포트 | 21페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.01.25

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  SIMS (Secondary Ion Mass Spectrometry)

  대형 편자장 장치(magnetic sector) 장착Or 이중초점방식(double focusing method)SIMS의 원리(5)...PAGE:14질량 분해능(MRP : mass ... 의해 이온화되지 않으므로 분석 불가능.이온화 효율 : 스퍼터링에 의해 특정 원소가 이온화 되는 정도.SIMS의 원리(4)...PAGE:13질량분석.- 일반적, 고체시료를 화학적 처리과정 ... 표층부의입자들에 전파되어 일부 입자들은결합팔(bonding)을 끊고 시효에서방출되는 현상.- 액체나 기체 시료는 분석 불가능.- 고체 시료의 경우, He, Ne, Ar 등 불활성기체는 스퍼터링에

  리포트 | 32페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.06.29

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  DRY ETCHING

  애노드에는 스퍼터링이 없다 . ... 압력은 0.1torr 이하로 비교적 낮다 .( 장비 )MERIE 자기적으로 강화된 반응성 이온 식각 반응기인 마그네트론은 물리적 , 화학적으로 결합된 식각 시스템이다 RIE 반응기와

  리포트 | 26페이지 | 3,000원 | 등록일 2013.05.21

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  Sputter Deposition

  Circular, planar magnetron cathode schematic, illustrating the magnetic confinement and the resulting ... (a) 전형적인 2극 직류 스퍼터링 장치, (b) 스퍼터링 장치에서의 음극(타겟)의 구조2.3. ... cathode enhanced magnetron이온화를 높이기 위해 magnetron source 앞에서 직접 hollow cathode discharge가 이용됨.② RF voltage

  리포트 | 21페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.11.02

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  [공학기술]박막증착 기술보고서<스퍼터링&CVD>

  이론적으로 배웠던 스퍼터링의 종류에 DC planar diode 스퍼터링, Triode 스퍼터링, Magnetron 스퍼터링, RF 스퍼터링, Ion beam 스퍼터링 기술 등이 있다 ... 이와 같은 스퍼터링 공정 중 대표적인 스퍼터링 기술은 Magnetron 스퍼터링법 이라고 할 수 있는데 Sputtering Target 뒷면에 자장을 인가하여 Plasma 내의 전자가 ... Sputtering스퍼터링(Sputtering)은 PVD에 해당하는 증착법 중의 하나이다.

  리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.06.14

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  각종 진공 펌프 원리 사용 방법 sputter 1

  스퍼터링에 의한 증착과정2) 스퍼터 장비의 구성그림 6. 스퍼터장비의 구성1. ... 증착조건RF magnetron sputter를 이용하여 80 mA로 5분간 상온에서 증착 한다.(working pressuertorr)3. ... 열어서 chamber의 진공을 약 5~10분 정도 뽑아준다.Roughing 밸브를 닫고 foreline 밸브를 연후에 main 밸브를 열어서 chamber의 진공을 뽑는다.ⅲ) 스퍼터링

  리포트 | 7페이지 | 2,000원 | 등록일 2011.06.03

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  각종 진공 pump 원리 및 사용 방법

  DC MAGNETRON SPUTTER 작동법1) 맨아래 전원을 켠다.2) 냉각수 밸브가 열려 있는지 확인냉각수밸브가 열려 있지 않으면 알람이 작동3) 로타리 펌프와 디퓨전펌프의 전원을 ... 스퍼터링의 장접과 단점1) 장점: 넓은 면적에서 균일한 박막두께 증착 가능박막 두께의 조절이 비교적 용이함진공증착에 비하여 보다 정확한 합금 성분 조절 가능2) 단점: 고가장비낮은 ... 유지(mTorr)10) 플라즈마를 아용한 스퍼터를 준비하기 위해 DC 파워를 넣는다.11) 암페어 미터와 볼트미터를 적당히 조절하여 원하는 파워에 위치시킨다.12) 셔터를 열고 스퍼터링

  리포트 | 7페이지 | 1,500원 | 등록일 2011.06.03

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  SEM(주사전자현미경)의 구조와 원리

  따라서 세라믹이나 고분자 등의 부도체 시료는 탄소막의 진공 증착이나 Au-Pd을 스퍼터링하여 전도성 코팅을 하여야 한다.그림5. ... .▶ Magnetic lens (자기렌즈)전자기등 내의 자기렌즈들은 전자총의 crossover로부터 원뿔모양으로 발산된 전자들을 렌즈에 영상면에 한 점으로 수렴시켜 준다.

  리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.04.14

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  로이 유리(Low-E Glass)

  진공 증착밥(Magnetron Sputtering, Soft-coationg)√진공증착법 이란? ... -코팅막의 균진성이나 단열성이스퍼터링 방법에 에 비해 떨어짐방사율-방사율(Emissivity) : 0.1~0.03-방사율(Emissivity) : 0.15~0.2비 고-타워팰리스 : ... (Magnetron Sputtering)-표면에 Ag, Au 등과 같은 적외선반사특성이 우수한 금속을 진공증에서 얇게 코팅→복층 유리에만 가능-열분해(Pyrolysis)법-유리에 기체

  리포트 | 18페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.09.20

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  [금속공학실험]ZnO박막 실험

  ) 다이오드 스퍼터링(Diode Sputtering)나) 삼극 스퍼터링(Triode Sputtering)다) 자기 스퍼터링(Magnetron Sputtering)라) 이온빔 스퍼터링 ... 증발(Magnetron Evaporation)5) 이온빔 증발(Ion-beam Evaporation)● 스퍼터링이란? ... (Iom-beam Sputtering)②RF(Radio Frequency) 과정 : RF 마그네트론3.

  리포트 | 8페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.05.25

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  박막 증착 방법, 종류

  sputtering, magnetron sputtering 등이 있는데, 특히 magnetron sputtering은 고속 스퍼터링 방법으로서 다방면에서 주목받고 있다.스퍼터링의 응용분야는 ... 충돌하면 target로부터 원자 또는 분자가 튀어 나오는 현상을 스퍼터링(sputtering)이라고 부른다. ... 박막을 얻을 수 있기 때문에 최근 표면경화의 한 수단으로 주목을 받고 있다.PVD법을 크게 분류하면 ① 이온을 이용하지 않는 진공증착(evaporation), ② 이온을 이용하는 스퍼터링

  리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.11.14

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  [금속재료공학]스퍼터링

  RF sputtering법은 다른 디지털 회로에 noise의 발생 원인이 될 수 있으므로 시스템적으로 noise filter나 절연체에 의한 차폐와 접지가 중요하다.마그네트론 스퍼터링 ... 실험 장비RF/DC MAGNETRON SPUTTER 기기 , 기판(GLASS) , 초음파 세척기 ,4 point prove, Target4. 관련 이론(1) 스퍼터링이란? ... (magnetron sputtering)이란 발생된 플라즈마를 영구자석에서 발생하는 자속(flux)에 의해 집진하여 기판에 성막시키는 방법이다.

  리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.05.15

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  ZnO박막의특성

  스퍼터링법 d. Pulse laser 증착법 (PLD)I. 실험 a. 실험목적 . 고주파 마그네트론 스퍼터링방법으로 박막을 제조하여 구조적 , 전기적 , 광학적 b.

  리포트 | 19페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.05.16

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  sputter deposition에 대한 이해

  Circular, planar magnetron cathode schematic, illustrating the magnetic confinement and the resulting ... (a) 전형적인 2극 직류 스퍼터링 장치, (b) 스퍼터링 장치에서의 음극(타겟)의 구조2.3. ... cathode enhanced magnetron이온화를 높이기 위해 magnetron source 앞에서 직접 hollow cathode discharge가 이용 됨.2 RF voltage

  리포트 | 20페이지 | 2,500원 | 등록일 2007.09.07

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  Low E 유리

  스퍼터링(Magnetron Sputtering)법으로 제조된 스퍼터 로이 유리로 대별된다.①열분해(Pyrolytic) 로이 유리 : 고온으로 달궈진 유리상에 기채 액체 또는 분말상의 ... 결로 저감⑤ 다양한 색상 가능5.Low E 유리 제법(1) 제법에 따른 분류현재 상업화된 로이 유리는 제조방법에 따라 열분해(Pyrolytic)법으로 제조된 파이로리틱 로이 유리와 마그네트론 ... or #3면)가공 완료된 판유리에 얇은 은(Ag)막을 코팅하는 공법(코팅막 위치 : #2면 or #3면)코팅막 구조(2) Low E 유리의 종류 및 구분법로이유리는 코팅방법에 따라 스퍼터링공법

  리포트 | 13페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.12.08

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  ITO glass 의 개발과 용도

  <ITO glass 의 개발과 용도>&#983729;. ITO GLASS 란?Indium-Tin Oxide(In2O3 : SnO2(90/10))의 줄인 말로 투명하면서 전기가 통한다.모든 디스플레이에서 필요한 것이 아니라 매트릭스 방식으로 구동되는 P..

  리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.05.04

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  TCO에 대한 기초 내용 및 현재의 기술동향, 관련 특허 조사 및 분석, 시장 및 기술동향에 대한 전망 발표 자료

  참고 특허 酸化インジウム-酸化セリウム系スパッタリングタ [ゲット及び透明導 電膜及び透明導電膜の製造方法 (산화인듐-산화세륨계 스퍼터링 타겟 및 투명 도전막 및 투명 도전막의 제조 방법)14Patent ... Equipment (For deposition)DC/RF SputterRF Magnetron SputterIon Beam SputterIon Beam Assisted EvaporationPulsed

  리포트 | 20페이지 | 1,500원 | 등록일 2010.03.02

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  ITO

  니켈 금속 박막층은 스퍼터링 기술로 증착되었고 다른 증착 시간에 따른 전기적 성질과 광학적 성질이 조사하였다. 입방 저항과 투과도는 증착 시간(두께)에 반비례하였다. ... 전자와 기체의 충돌을 촉진시킴으로써 낮은 Ar압력하에 Sputter할 수 있게 하거나, magnetron방식을 사용하여 해결할 수 있다.2) RF sputteringDC Sputtering에서는 ... 성막속도가 낮음(PAr에 민감함)Shield 크기작음(성막면적이 큼)큼(성막면적이 작음)Reactive sputteringRF보다 불리함Reactive sputtering에 적합함3) Magnetron

  리포트 | 7페이지 | 1,500원 | 등록일 2010.11.05

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  [박막공학]이온빔의 원리와 스퍼터링

  이온빔 보조 DC 반응이온 마그네트론 스퍼터링 장비 모식도PlasmaTarget-Ion Beam source그림11. ... sputtering이 일어나게 되며 이 선택적 sputtering이 박막의 집합조직 형성에 결정적인 역할을 하기 때문TaegetIon beamIon beamSubstrate그림13.이온빔 스퍼터링

  리포트 | 17페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.12.27

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