"etching" 검색결과 121-140 / 2,010건

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  세미나자료 임플란트 시술 시스템 보철 제작까지 (치의학, 치기공, 치위생)

  D2 : RBM 후 acid etching3. D3 : TPS coating4. ... Acid etching2. HA coating1. TPSFrialit2. HA coating3. ... 골융합 더욱 향상 하중을 가하기까지 걸리는 골치유 기간 최대 50%까지 줄임SLA -- Sandblasted with Large grit Aluminumoxide and Acid etched

  리포트 | 141페이지 | 2,500원 | 등록일 2024.04.26 | 수정일 2024.05.02

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  인하대 패터닝 결과보고서

  Zhou, 『Feature-Size Dependence of Etch Rate in Reactive Ion Etching』, Journal of Electrochemical Society ... 물리, 화학적 방법이 적용된 기기 RIE(Reactive Ion Etching)을 가지고 plasma를 이용해 건식 식각을 진행하였다. ... 식각 속도가 증가하는 부분은 상대적으로 무거운 C2F6가 etch rate 증가에 영향을 더 크게 미치기 때문이다. 그 이상의 농도에서는 식각 속도가 감소하게 된다.

  리포트 | 9페이지 | 1,000원 | 등록일 2020.09.15

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  [재료과학실험]미세 조직 관찰 - 마그네슘

  , anodizing, potentiostatic etching, magnetic etching, ion etching, thermal etching 등이 있으며 이 중에서 가장 많이 ... 부식은 그 방법과 원리에 따라 precipitating(deposit) etching, heat tinting, chemical etching, electrolytic etching ... 쓰이는 방법이 단순히 부식액을 표면에 묻혀 부식시키는 chemical etching이 쓰인다.

  리포트 | 7페이지 | 3,000원 | 등록일 2020.12.29

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  [시험자료] 반도체공정및응용 중간고사 정리 (족보)

  Plasma 와 sputter etching의 차이점을 설명하세요.(1) Plasma Etch(Chemical Etch) : Plasma를 생성하는 과정에서 나오는 Radical을 ... Etch parameter인 selectivity, etch rate, micro-loading effect에 대하여 간략하게 설명하세요.(1) Etch Rate : 얼마나 빠르게 ... 재료를 제거할 수 있는지를 나타낸 값으로 Etch된 두께에서 Etch Time을 나눈 값이다.(2) Selectivity : 서로 다른 재료들 사이의 식각 속도의 비율, 특히 Etch하고

  리포트 | 8페이지 | 1,000원 | 등록일 2019.10.20 | 수정일 2019.12.02

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  하이닉스 양기면접 질문리스트

  , wet etching-CCP-RIE, ICP-RIE-etch angle 줄이는 법-uniformity 문제-Si etch 공정 방법, 가스-hard mask-칠러/냉각 cycle-냉매의 ... , wet etching-CCP-RIE, ICP-RIE-etch angle 줄이는 법-uniformity 문제-Si etch 공정 방법, 가스-hard mask-칠러/냉각 cycle-냉매의 ... inline-Overlay-PSM-OPC-Mask defect-resolution을 줄일 수 있는 방법-Standing wave에치-플라즈마 생성 원리-self DC bias-dry etching

  자기소개서 | 3페이지 | 3,000원 | 등록일 2022.09.21

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  반도체공정, 반도체고집적공학 예상문제+공정순서 정리

  flow-reflow, Sputtering etchback, PR etchback, SOG etchbackPR etchback이 planarize잘 못하는 이유답)F가 oxide etching하면서

  시험자료 | 4페이지 | 2,000원 | 등록일 2022.12.15 | 수정일 2022.12.16

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  고체역학실습 레포트 1

  Shows the specimen after etching. ... So etching process should be also done. ... Etching clearly shows the grain boundary by removing the oxide layer.

  리포트 | 15페이지 | 2,000원 | 등록일 2022.08.21

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  AFM(원리, 접촉모드, 비접촉모드, 탬핑모드)

  - 포토공정에서 형성된 (PR) 부분을 남겨두고 , 산화막의 나머지 부분을 제거하는 과정※ Etching 종류 건식 식각 (Dry etching) 식각공정 (Etching) 습식 식각 ... 식각공정 ( Etching) 이란 ? ... (Wet etching)AFM Atomic Force Microscope ( 원자현미경 ) 나노 미터급 원자단위 측정 STM 의 가장 큰 결점인 전기적으로 부도체인 시료는 볼 수

  리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2020.07.09 | 수정일 2020.07.11

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  8대공정 요약

  etch보다는 dry etch가 확대되고 있습니다. dry etch시 균일도 유지와 etch rate, selectivity 등의 인자 요인을 조절하여 칩의 불량률을 낮추고, 수율을 ... dry etching이 있습니다. ... Dry etching은 wet etching에 비해 비용이 비싸고 까다로운 단점이 있으나, 최근에는 나노 단위로 고집적화되는 반도체 기술 변화에 따라 수율을 높이기 위한 방법으로 wet

  리포트 | 2페이지 | 1,000원 | 등록일 2021.04.11

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  [신소재공학실험]Al-Cu의 석출경화에 따른 경도측정

  관찰을 하려는 목적에 따라 Micro Etching과 Macro Etching으로 구별을 할 수 있다. ... Etching(부식)Etching은 Polishing 한 이후에 이루어져야 한다. 이 경우 현미경으로 관찰을 하면 경면가공이 되어서 아무런 조직도관찰을 할 수 없다. ... Micro Etching은 소재의 조직을 관찰하여서 소재의 강도, 상태, 성분, Grain Size등을 분석하기 위해 이루어 지는 작업이고, Macro Etching은 큰 시편을 눈으로

  리포트 | 11페이지 | 4,000원 | 등록일 2022.08.20

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  램리서치 FSE 합격 자기소개서

  특히 Etching공정의 전문성을 키우기 위해 NCS반도체/Etching공정 강의를 수강하며 Etching공정의 주요 Parameter와 장비의 구조, 플라즈마에 대해 학습했습니다. ... [준비된 Etching FSE]Etching장비는 여러 학문이 집약된 복합적인 설비인 만큼 기계공학 전공자로서 강점을 키우기 위해서 전공과목을 성실히 이수했습니다. 130학점 중 95학점을 ... (1000자)[Etching장비의 전문성을 키울 수 있는 최고의 기업]엔지니어로서 한 분야에 전문가가 되어 산업 발전에 기여하고 싶은 목표가 있습니다.

  자기소개서 | 4페이지 | 4,000원 | 등록일 2023.04.05

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  [신소재공학실험]탄소강의 조직 관찰 및 경도 측정

  이때 etching 시간은 40초였으며 etching직후 etching용액을 증류수나 DI water로 희석시키고 시편에 묻은 용액은 헝겊으로 즉시 닦아 냈다. ... (etching 용액은 DI water 100㎖에 5㎖의HNO _{3}을 혼합)Etching 용액 제조시편 etchingEtching 용액 희석8) 광학현미경을 이용하여 시편 표면의 ... (이때 헝겊에 묻은 불순물(시편 부스러기 등)이 시편에 Scratch를 남기지 않도록 조심한다.)7) 시편들을 etching시킨다.

  리포트 | 5페이지 | 2,000원 | 등록일 2020.04.30 | 수정일 2020.08.13

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  [2019최신 공업화학실험] 패터닝 결과보고서

  Etching -> Ashing시료 3 : 변수를 둔 조건에서 Etching / 시료 4 : 변수를 둔 조건에서 Etching -> Ashing시료 5 : Lithograhpy 만 ... )을 사용하여 Etching 및 Ashing을 진행한다. ... Etching 시료로는 Ar과 C2F6 을 사용하고, Ashing의 시료로는 O2를 사용한다.실험을 통해 직접 장비를 다루고 측정하면서 반도체 Etching 및 Ashing 과정에

  리포트 | 15페이지 | 5,000원 | 등록일 2020.01.31 | 수정일 2020.02.10

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  SK하이닉스 양산기술 최종합격 자기소개서 (합격인증 有)

  1. 자발적으로 최고 수준의 목표를 세우고 끈질기게 성취한 경험에 대해 서술해 주십시오. (본인이 설정한 목표/ 목표의 수립 과정/ 처음에 생각했던 목표 달성 가능성/ 수행 과정에서 부딪힌 장애물 및 그 때의 감정(생각)/ 목표 달성을 위한 구체적 노력/ 실제 결과/ ..

  자기소개서 | 4페이지 | 4,500원 | 등록일 2024.08.23

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  [신소재공학실험]탄소강의 열처리

  조직이 잘 보이도록 etching을 한다. etching에는 용액을 사용하는 습식(wet etching)과 반응성 기체를 사용하는 건식(dry etching)이 있다. ... 이번 실험에서는 Ethanol 100㎖에HNO _{3} ㎖을 섞어 만든 혼합 용액을 사용한 습식(wet etching)의 방법을 사용하였다. ... 그 다음 0.3μm 연마제를 이용하여 연마하도록 한다.polishing 과정바. etching대부분의 금속의 경우 polishing까지 한 상태에서는 미세조직이 잘 관찰되지 않기 때문에

  리포트 | 8페이지 | 3,000원 | 등록일 2022.12.04

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  T-CAD를 활용한 NMOS 설계

  etch etch alum start x=3 y=-10 etch cont x=3 y=2 etch cont x=7 y=2 etch done x=7 y=-10 #NMOS structure ... poly p1.x=3.72 left etch poly p1.x=6.28 right etch oxide thick=0.05 #Ion Implantation implant phosphor ... cont x=8 y=1 etch cont x=9 y=1 etch done x=9 y=-10 #electrode deposit alum thick=0.2 div=0.5 #electrode

  리포트 | 38페이지 | 3,500원 | 등록일 2021.03.03

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  포토리소그래피 실험 리포트

  마지막으로는 예상과는 다르게 etching 과정에서 강력한 etchant에 의해서 ITO까지 같이 날아가는 경우가 있다. ... 따라서 마스크에 뚫려있는 부분이 빛을 받아 PR이 날아가고 그로인해 etching 과정에서 그 부분의 ITO가 날아가게 된다. ... 15초)[5] Hard baking (90초)[6] Develop (60초)[7] Etching (3분)[8] Strip (3분) (Negative ?

  리포트 | 3페이지 | 2,000원 | 등록일 2021.08.10

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  정보디스플레이학과 광전자공학 4차 결과 보고서 Fabrication of CNT emitters as the an electron beam source, Fabrication of a phosphor, CNT 특성 관찰

  잰 뒤 Cell들을 집어넣어 Etching을 하였다. ... Etching의 경우 그러한 부분에서 발생할 수 있는 부정확도를 낮추기 위해 니켈이 스퍼터링 된 유리 조각을 먼저 Etching 용액에 집어 넣어 Etchant rate를 대략적으로 ... 그러한 마스크를 직접 PR코팅된 웨이퍼 위에 맞춰 잘 올린 뒤 패턴을 떠주기 때문에, 셀의 크기에 맞게 정확한 곳에 마스크 패턴을 위치시키는 것이 어려웠다.Developing과 Etching은

  리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2024.01.30

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  [2019 A+ 인하대 공업화학실험] 패터닝 결과보고서 공화실 결보

  패터닝된 산화막을 관찰하고, etching을 한다. etching된 산화막을 관찰하고 ashing까지 진행한다. ... 통해 SiO2위에 회로 패턴을 만든다.이번 실험은 etching과 ashing을 하고 etching 속도와 selectivity를 구하는 실험이다. ... 이후 etching 속도와 etching 선택도를 계산해본다.실험방법실험 재료pattern이 완료된 wafer웨이퍼 공정을 통해 Si 판을 만든다.산화 공정을 통해 SiO2층을 만든다.포토공정을

  리포트 | 17페이지 | 3,500원 | 등록일 2020.04.13 | 수정일 2020.04.18

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  고체역학설계실습 A+ Metallurgicla microscope 실험 보고서

  So, etching process is necessary. ... In this experiment, we observe the microstructure of SM20C after undergoing grinding polishing and etching ... By etching process removes oxide layers on the surface of the sample, revealing its internal structure

  리포트 | 15페이지 | 2,500원 | 등록일 2024.06.30

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