"리소그래피장비" 검색결과 141-160 / 221건

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  노광공정 및 식각공정

  거의 사용되지 않고 있음습식 식각(Wet Etching)등방성(isotropic) → 치수 조절이 힘듬 순수한 화학적 반응 높은 선택적(Selectivity) 반응 원가는 비싸나 장비는 ... 있다.습식식각의 종류 및 특징매엽식(Single wafer type) 한 장의 웨이퍼를 회전시키면서 에칭 매번 새 용액을 웨이퍼 표면에 뿌려주기 때문에 속도 및 균일도가 뛰어나고 장비의 ... )이방성(Anisotropic)→정확한 패턴의 형성이 가능 상대적으로 낮은 선택적 반응 (Relatively low selectivity) 고순도 산을 사용하지 않아 원가는 싸나 장비는

  리포트 | 29페이지 | 2,500원 | 등록일 2007.05.09

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  포토리소그라피,phothlithography

  도포시킨 후 일정온도에서 baking 하여 PR 의 용제(solvent)를 기화 제거시켜 단단하게 만드는 과정 ① 두께와 균일성에 영향을 주는 요소 ② 결함Soft BakeBake 장비① ... ② Contrast ③ Photospeed ④ ResolutionPR의 종류① Negative ② PositivePHOTOLITHOGRAPHY 제작과정기판 및 표면 처리･ 세정은 리소그래피를

  리포트 | 21페이지 | 2,000원 | 등록일 2010.11.29

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  Bioelectrochemistry

  포토리소그래피(Photolithography)1) Photoresist coat(PR 코팅)PR coating이라 함은 분사된(dispense) liquid(액상) PR을 높은 회전수로 ... process에 대해 모두 논의할 수 없어 thin film HIC의 공정을 중심으로 소개하도록 한다.박막의 형성에는 '세척 (Cleaning) - 증착 (Deposition) - 포토리소그래피 ... 또한, 나노구조를 형성하는 방법도 연구하고 있는데, AFM, STM, SECM 등의 표면 검사 및 측정 장비를 활용하여 전기화학적인 연구를 병행하고 있다.5.

  리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.05.21

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  photolithography

  사진 기술을 응용한 것이어서 포토리소그래피라고도 한다. ... 하지만 80년대에 접어들면서 기술 및 장비의 발전으로 positive방식의 단가가 많이 저렴해 진 편이라 두 가지의 장, 단점을 이용하여알맞은 곳에 사용하고 있다.Ⅱ. ... 모든 공정 step이 각종 particle에 대해 매우 취약하고, 이로 인한 pattern 불량이 전체 panel의 불량을 유발하므로, 청정한 환경과 재료 및 장비의 관리가 보다 중요한

  리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.06.28

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  Photo Lithography

  리소그래피 공정은 반복되는 각종 기본 가공기술의 중심이며, 클린룸 내의 물류는 리소그래피 영역을 중심으로 행해진다.그림 ) 리소그래피 공정의 플로은 리소그래피 공정의 흐름을 나타낸다 ... 하지만 너무 빠른 식각속도는 bad resistperformance를 야기 시킬 lopmentPuddle development는 식각하는 방법으로서 스프레이방식에 기초한 장비와 같은 ... Photo Lithography(0) 리소그래피 기술의 개요2-리소그래피는 포토마스크 기판에 그려진 VLSI의 패턴을 웨이퍼 상에 전사하는 수단이다.

  리포트 | 10페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.10.07

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  유비쿼터스 설명

  USN 통합관측장비의 경우 반경 100미터 이내에 센서를 추가로 설치할 수 있으며, 무선메쉬네트워크 또한 15km 반경 내 관측장비의 추가가 가능하므로 인프라의 추가적 구축 없이도 ... 많은 마이크로머신 처리 단계는 기본적인 IC 공정인 포토리소그래피, 재료 증착, 반응이온 및 화학적 에칭에서 비롯되었다.그러나 CMOS 로드맵이 평면 및 두께로 더욱 많은 디바이스를 ... 무선 융합의 네트워크 인프라를 통해 수집되고, 수집된 자료는 다 기관이 공동활용하는 형태로 개선되어야 할 것이다.USN 통합관측장비는 그러한 과제를 해결하기 위한 여러 가지 솔루션중

  리포트 | 13페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.10.06

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  리소그래피

  (lithography)의 종류◎리소그래피의 분류 : 광학 리소그래피, 비 광학(소프트) 리소그래피(1)광학 리소그래피 : 자외선, 전자빔, 엑스선 등을 광원으로 이용하는 리소그래피 ... 이러한 리소그래피로는 전자빔, 이온빔, 엑스선 등을 광원으로 이용하는 리소그래피가 있다.4.소프트 리소그래피전통적인 리소그래피 : 광학 리소그래피로 마스크의 패턴를 감광저항체에 전사하는 ... 리소그래피란(lithography)? 리소그래피는 리소(돌) + 그래피(인쇄술)의 합성어로 직역하면 바로 석판인쇄술이다. 여기서 기원한 것이 리소그래피이다.

  리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.07.19

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  새로운 재료 제거 가공 방법 아이디어

  없다.2.이와 유사한 아이디어가 실제 적용되고 있는 지를 인터넷을 통해 조사한 후 자신의 아이디어와 차이점 장단점을 비교하시오.①RIE(Reactive Ion Etching)의 원리장비는 ... 웨이퍼 표면에 부착된 전극 재료를 포토리소그래피로 형성된 패턴에 따라 식각하는 공정으로, 종전에는 화학 약품을 사용하는 웨트 에칭(wet etching)법으로 시행했으나 1970년대 ... 대규모 집적 회로(LSI) 등 반도체 소자를 제조하는 공정에서 반도체 단결정 웨이퍼에 박막 형성, 포토리소그래피(photolithography), 에칭, 이온 주입 등의 기술이 가해지는

  리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.03.30

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  한국 반도체 산업의 국가경쟁력- 포터의 다이아몬드 모델 중 정부의 역할을 중심으로

  이 외에도 나노리소그래피, SiP 공정 등 미래 첨단 기술 개발과 함께 핵심 기술 개발 중심의 산학연 컨소시엄 방식 추진 중이다. ... 재료 선도 기업(Leading Company) 육성에 역점을 두고 중소업체 지원을 위한 장비 성능평가 Fab. 구축하고 있다. 장비 ? ... 광학기술 발달로 사진공정 장비를 주도하며, 반도체 장비 기술력 우위를 다지고 있는 상황에서 아스카 및 미라이 프로젝트에 의한 SoC 및 차세대 공정 기술개발을 시도 하고 있다.③ 대만

  리포트 | 15페이지 | 2,500원 | 등록일 2011.05.06

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  기술개발사업과 나노핵심기반기술, 디자인기반기술, 기술개발사업과 산업디자인기술, 민군겸용기술, 기술개발사업과 환경기술, 환경기술실증화사업, 기술개발사업과 우주개발사업, 평가관리

  기술, 나노이론의 전산모사 기술, 나노 생체모방 재료기술※ 후보기술 : 원자층 나노 식각공정기술, Sol-Gel 공정기술, 미래형 나노 리소그래피 기술, 나노 바이오센서 기술, 나노재료의 ... 시 적용)4) 지원대상기술○ 고밀도정보기록매체 및 저장장치기술, 나노소재를 이용한 신화학 촉매 기술, 고기능성 나노분말 및 소결체 기술, 양자역학적 나노선/점 기술, 나노 측정 장비 ... 원자/분자 레벨 물질 조작 기술, 분자제어 자기조립 기술, 나노소재 응용 초분자 합성기술, 나노튜브 전자 및 광소자 기술, 나노입자 응용 태양전지 기술, 주사형검침현미경(SPM)장비

  리포트 | 14페이지 | 6,500원 | 등록일 2013.04.12

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  나노임프린트 리소그래피

  UV 임프린트 리소그래피 장비는 자외선 광원을 사용하고 압력 또한 인가하기 때문에 구조가 다소 복잡하다. ... 또한 포토리소그래피에 사용되는 고가의 광학기기가 필요 없기 때문에 장비가 저가라는 점, 그리고 고해상도와 높은 공정처리량(throughput)의 우수성을 지니고 있어서 생산성측면과 ... 열 NIL 장비는 구조적으로 자외선 광원을 사용하지 않고 단지 히터와 압축기만으로 구성되어 있기 때문에 그 구조가 간단하며 조작이 비교적 간편하다.

  리포트 | 118페이지 | 15,000원 | 등록일 2007.01.27 | 수정일 2014.07.16

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  바이오칩 기술개발동향

  대부분의 유체소자들은 실리카 기반의 반도체공정을 이용하여 제작되므로, 고가의 장비를 사용하고, 제작비용이 비싸, 많은 연구자, 특히 생물학자들의 접근이 용이하지 않다. ... 이중 DNA칩과 단백질칩의 경우 기존에는 광리소그래피를 기반으로 제작되었으나 최근 마이크로 (폴리머, 유리) 성형기술을 이용한 양산기법이 다양하게 시도되고 있다.■ 마이크로 바이오 ... 부품의 선진국 산업 현황○ DNA칩의 원천기술을 보유하고 있는 미 Affymetrix사는 컴퓨터칩을 만드는 데 사용되는 광리소그래피(photolithography) 라는 기술을 사용하여

  리포트 | 9페이지 | 2,000원 | 등록일 2010.06.24

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  [재료공학]리소그래피

  한 예로 Extreme Ultraviolet사는 초자외선(EUV) 리소그래피 공정 기술 개발에 상당한 진전을 보이고 있으며, 최근 제조 장비 개발도 착수했다. ... EUV와 같은 차세대 리소그래피 기술이 없다면, AMD사나 인텔사는 더 이상의 고속 칩 개발이 불가능하다고 한다.Extreme Ultraviolet사의 공정 장비 개발 계획에는 로렌스 ... 개발하는 장비는 회로의 이미지를 실리콘 웨이퍼 위에 인쇄하는데도 사용되고，그 이미지가 현상된 뒤, 층마다 재료의 제거와 부착을 행하는데도 사용된다.

  리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.05.06

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  플라즈마 생성과 응용

  응용분야 중성입자 빔의 응용분야로는 차세대 반도체 공정에서 나노 스케일 반도체 식각 장비, 나노 스케일 증착 공정 및 나노 스케일 리소그래피(Lithography) 공정에서 사용되며 ... 대기압 플라즈마 시스템은 고가의 진공 장비를 필요로 하지 않기 때문에 경제적이며 펌핑(pumping) 시간이 없고, 인라인 형태로 공정이 가능하므로 생산성을 극대화할 수 있는 플라즈마 ... 강력한 EUV를 내는 광소스는 리소그래피에 사용되며 전자빔, 이온빔과 같은 전하입자 빔은 핵융합, 환경산업 등에 사용되고 있으며, 또한 기존의 플라즈마 소스의 약점을 극복하여 새로운

  리포트 | 15페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.09.29

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  NANO과학이란?

  하지만 현재 사용되고 있는 리소그래피 장비를 크게 바꾸지 않고 기술을 업그레이드 할수 있다는 장점이 있다.참고로 더 작은 파장을 이용하는 X-Ray Lithography가 있지만 마스크를 ... 아무래도 기존의 장비를 그대로 이용할 수 있다는 장점을 무시할수 없기 때문이다.③ 그외의 탑다운 방식으로는 Nano Imprint 방식이 있다. ... 만들때 1:1로 만들수 밖에 없어서, 패터닝에 어려움이 있다.② E-Beam 리소그래피전자빔을 substrate에 주사하여 패터닝을 하는 방식이다.

  리포트 | 14페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.01.18

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  신소재개론 기말

  높고 particle도 튀지 않아 정밀한 작업이 가능Photo Lithography- 빛을 이용한 전통적인 리소그래피- ‘50nm 장벽’을 극복하기 위한 리소그래피- 종류 : EUV ... - 반도체 칩을 만들고 나서 Metal Layer를 수정해 주는장비- 원하는 곳을 끊거나 이을 수 있음- 특히 원하는 곳을 끊는 경우에, Laser Cutting에 비해 서 정밀도도 ... 기술 개발이 필연적 량 생산 공정 개발이 문제Focused Ion Beam(FIB)- FIB (Focused Ion Beam)는 집속 이온 빔을 말함- 주로 불량분석실에서 사용하는 장비

  리포트 | 14페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.10.29

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  동우화인캠 자기소개서

  웨이퍼 검사, 산화공정, 에칭, 금속화, 포토리소그래피, PR strip, C-V측정 과정의 순서로 실습하였습니다. ... 이때 직접 반도체 공정 장비를 다루며 그 과정을 이해하게 됐고 팀워크의 중요성도 배울 수 있었습니다. 실험 주제를 정하고 실험 과정을 설계하기 위해서는 배경 지식이 필요했습니다.

  자기소개서 | 3페이지 | 3,000원 | 등록일 2013.06.10

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  미세유동장치의 효율적인 제작방법

  있어 가장 많이 사용된 것은 포토 리소그래피 기술이다. ... 폴리머 재료 적합성4표 3접합방식의 분류17표 4접합 방식에 따른 특성 비교19iii서론소형 바이오 분석 장비들의 발달이 계속되면서 값싸고 일회용의 장비를 손쉽게 생산할 필요성이 ... 따라서 사용될 장비는 유리만큼의 투과성, 흡수성을 지녀야 한다.

  리포트 | 27페이지 | 5,000원 | 등록일 2007.03.01

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  습식 에칭 기술

  에칭 장비93.3.2. ... 따라서 향후의 에칭장비들은 저압에서 고밀도의 플라스마를 발생시키도록(k ... 포토리소그래피 및 에칭 공정에 의한 패턴형성3.1.1.

  리포트 | 20페이지 | 3,000원 | 등록일 2007.12.19

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  나노 패터닝 기술

  임프린트 장비 시장에서 경쟁하고 있다. ... .△ 벤처기업 NND는 50㎚ 이하의 패턴을 형성할 수 있는 임프린트 장비 ´나노시스610´ 의 판매에 들어가 몰리큘러임프린트(MII)·나노넥스·오브듀캣 등 미국·유럽 기업들이 장악한 ... 최소화했으며 가격도 외산 제품의 절반 이하에 불과한 것이 특 징이다.△ 한편 반도체 공정에서 고분자막으로 코팅한 기판 표면을 스탬프로 찍어 물리적으로 패 턴을 형성하는 나노 임프린트 리소그래피

  리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.03.07

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