"리소그래피장비" 검색결과 161-180 / 221건

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  포토 예비

  사진 기술을 응용한 것이어서 포토리소그래피라고도 한다. ... 모든 공정 step이 각종 particle에 대해 매우 취약하고, 이로 인한 pattern 불량이 전체 panel의 불량을 유발하므로, 청정한 환경과 재료 및 장비의 관리가 보다 중요한 ... 하지만 80년대에 접어들면서 기술 및 장비의 발전으로 positive방식의 단가가 많이 저렴해 진 편이라 두가지의 장,단점을 이용하여 알맞은 곳에 사용하고 있다.Negative photoresist

  리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.04.19

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  유기전자학(Organic Electronics)이란 무엇인가

  폴리머 절연체들은 반도체 장비의 운용과 신뢰도에도 또한 필수적이다. ... 광학도구들이 개선되면서, 독특한 렌즈 디자인과 빛 소스에 의해서 새로운 레지스트들(resists)이 개발되어 리소그래피 석판인쇄 스케일링을 지속시켰다. ... 이것은 기존의 TFT-LCD에서 사용하는 a-Si TFT의 CVD와 리소그래피 공정을 OTFT의 인쇄공정으로 대체하여 공정비용의 절감과 함께 초대형 디스플레이의 제조를 가능케 한다.

  리포트 | 7페이지 | 2,000원 | 등록일 2009.12.11

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  Lithography 공정 실험

  ; Lithography(리소그래피)는 반도체 집적 회로를 반도체표면에 그리는 방법 및 과정을 통칭하며, 초미세 인쇄 기술이라 말할 수 있다. lithography 공정은 모든 공정 ... step이 각종 particle에 대해 매우 취약하고, 이로 인한 pattern 불량이 전체 panel의 불량을 유발하므로, 청정한 환경과 재료 및 장비의 관리가 보다 중요한 공정이며

  리포트 | 3페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.10.19

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  증착기를 이용한 반도체 공정

  리소그래피 (Lithography)리소그래피는 포토레지스트를 도포하는 공정으로 시작해 노광, 현상, 에칭, 포토레지스트 제거에 이르는 일련의 프로세스이다. ... 연마 과정을 거친 웨이퍼는 식각공정을 거치면서 추가적인 표면 손상을 제거하고, 공정을 정밀하게 통제하는 완전 자동화된 장비로 가장자리 부분과 표면이 경면연마 됩니다. ... CVD는 고온에서 일어나는 화학적인 변화 때문에 고온의 환경이 필요합니다.PVD는 고품질의 박막이나 나노구조를 만들 때 쓰이지만 진공이 필요하기 때문에 장비가 고가이며 증착속도가 느린

  리포트 | 7페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.09.21

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  POSS

  광학적 투명성- 첨단 광학 장비에 사용될 수도 있다.4. 낮은 수준의 기체 투과력- 시간이 지나도 변하지 않고 본연의 모습을 유지할 수 있다.5. ... 리소그래피나 레이저 직접 필사 등과 같은 광 경과 공정으로 소자를 제작하기 위해 광 경화기인 아크릴을 도입해 공중합을 실시했다.그림5에 폴리아크릴실세스퀴옥산과 폴리메틸실세스퀴옥산 공중합체의

  리포트 | 12페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.02.12

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  박막재료의 표면처리 및 식각실험

  이렇게 한번 끝나고나면 리소그래피 1공정이 끝납니다. ... 대략 DRAM 같은거 하나 만들려면 약 70 번정도의 리소그래피가 필요합니다.미세 가공 기술 개발의 선두에 있는 DRAM 기술에 있 어서 리소그래피 기술은 항상 전체 기술의 개발을 ... 좌우하는 중요한 요인이다.1> Optical Lithography대량생산이 가능하며, 장비 안정성 및 가격, 효율 등 모든 면에서 device를 제조하기에 가장 적히 선택된다.

  리포트 | 22페이지 | 2,500원 | 등록일 2008.05.27

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  ITO glass cutting, glass 세정 및 건조공정

  리소그래피 노출장비는 포토마스크의 영상을 웨이퍼상에 투영하기 위해서 사용되며, 투영시 영상을 4배만큼 축사시켜준다. ... 일부 현대적인 레이저를 기반으로 하는 포토마스크 묘화용 플랫폼들은 스테퍼 스캐너라는 리소그래피 노출장비를 기반으로 하고있다. ... 점도 측정에 대해 말할 때는 반드시 사용 장비 및 측정시의 온도를 밝혀야 한다. 다른 장비는 다른 점도 값을 내기 때문이다.액체는 온도에 따라 흐르는 특성이 바뀐다.

  리포트 | 15페이지 | 2,500원 | 등록일 2007.11.01

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  Lithography, 잉크젯프린팅, polyol processing, brookfield 의 원리

  , 장비투자비, 클린룸 운영비, 인건비 등의 대폭감소에 의한 제품가격경쟁력의 창출이 가능하다.2. ... 물질을 패터닝할 수 있는 소위 “Pattern on Demand”공정이 가능하므로 극히 단순한 공정으로 패터닝을 완성할 수 있다.② 재료절감 및 친환경기존 반도체 제조공정의 핵심인 “리소그래피 ... 멀티헤드 부착으로 대형기판 대응과 양산성 확보가 가능하다.④ 클린룸 면적절감기존의 포토공정처럼 많은 장비가 소요되지 않으므로 클린룸 소요면적이 감소되고 러닝코스트가 줄어든다.⑤ 제품원가절감재료비

  리포트 | 8페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.10.07

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  [전자재료, 반도체, 광학]리소그래피

  또한 전체 반도체 장비 시장 규모의 약 15% 이상, 전공정 장비의 약 20% 이상을 차지하고 있는 것이 리소그래피 공정 관련 장비(스텝퍼, 스캐너 등) 및 재료(마스크, 감광제 등 ... 리소그래피 공정일반적으로 리소그래피 공정이란 감광제를 웨이퍼 상에 균일하게 도포하고, 스 텝퍼와 같은 노광장비를 사용하여, 마스크 혹은 레티클 상의 패턴을 축소 투영 노광 시킨 후 ... 리소그래피(Photolithography)란?

  리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.08.31

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  갈륨비소

  이와 같이 각각의 여러 층을 성장시키기 위해 요구되는 장비, 준비과정, 시간, 인력을 고려한다면, 이번의 새로운 접근법은 획기적인 비용 절감 기술이다.연구팀은 화합물 반도체층과 분리층을 ... 범위의 파장을 가진 빛을 전력으로 변환하거나 보다 단색화된 고강도 빛을 저역치에서 온도 의존성이 없이 발광하는 것을 기대할 수 있기 때문에 그 실용화가 검토되고 있다.그러나, 종래의 리소그래피

  리포트 | 23페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.02.12

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  [재료공학실험, 반도체]Lithography

  Lithography / 리소그래피Lithography(리소그래피)는 반도체 집적 회로를 반도체표면에 그리는 방법 및 과정을 통칭하며, 초미세 인쇄 기술이라 말할 수 있다. lithography ... 회로 선폭 0.1미크론 이하의 회로를 형상화할 수 있어 생산 장비로 개발하고 있으나 기술적 어려움이 있다.4. ... 공정은 모든 공정 step이 각종 particle에 대해 매우 취약하고, 이로 인한 pattern 불량이 전체 panel의 불량을 유발하므로, 청정한 환경과 재료 및 장비의 관리가

  리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.06.28

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  Soft Lithography

  또한 지수적으로 증가하는 광학 리소그래피의 장비가격에 비해 낮은 인프라 비용이 요구되어, 인프라 비용과 공정비용 측면에서 매력적인 기술이라 할 수 있다.그러나 Soft Lithography는 ... 또는 나노스케일 패턴 구현을 위해 전자빔 리소그래피, 레이저 간섭차를 이용한 리소그래피 등이 사용되고 있다. ... 셋째, 다른 나노리소그래피에서 필요로 하는 resist, stamp, complicated processing등이 필요하지 않고 장치가 간단하다.

  리포트 | 8페이지 | 2,000원 | 등록일 2007.02.21

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  박막재료의표면처리및식각실험(예비).

  증착 장비기술-반도체 PR ashing 장비 기술Display 기술-디스플레이 평판 식각장비 기술-디스플레이 평판 박막증착 장비 기술Nano 및 Bio 기술-ALD(Atomic Layer ... 이용한 시스템을 의미한다.응용분야적용기술적용분야반도체 및 Nano 기술-하전 손상(Charge Damage)이 없는 0.1 마이크론 이하의 선폭 식각 기술-50nm 이하의 선폭 리소그래피 ... 합격된 제품은 판매한다(4) 식각(Etching)의 정의와 종류 (식각 장비의 종류와 원리를 중점적으로)① 정의액체나 가스 상태의 화학적 에칭은 딱딱한 감광제로 보호되지 않는 부분의

  리포트 | 10페이지 | 2,000원 | 등록일 2009.09.23

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  [공학]박막공정에대해

  하는 물질의 조성범위의 제약이 없다 *어떠한 Metal, Alloy, Compound 등 증착 가능 -PVD의 가장 큰 장점 *증착된 물질의 고순도성 친환경적인 공정 단점: 복잡한 장비 ... 물질표면으로 부터 원자를 끌어내는 현상 다른 방법에 비해 밀착성과 균일성이 우수하고 얇고 치밀한 피막을 입히는 전자 및 광학적 용도로 널리 사용 단점: 증착속도가 느려서 생산성이 떨어진다 장비가 ... Thin Film Process 박막증착과 포토리소그래피기술을 이용하여 원하는 형상의 회로를 형성하는 일련의 과정 덩어리 재료(Bulk Material)에는 없거나 나타나기 어려운

  리포트 | 27페이지 | 2,000원 | 등록일 2006.06.16

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  포토리소그라피(photolithograpy)공정의 기본과 금속배선공정인 무전해, 전해도금의 기초 및 원리

  다음으로 포토리소그래피 과정에 대해 자세히 살펴보도록 하자.2. ... 실험실 차원에서의 간단한 장비 구성으로도 손쉽게 저렴한 비용으로 이용할 수 있으며, 속도가 빠르고 두꺼운 후막 구조물 형성이 용이하다. ... 또 Sputtering의 종류로는 Radio-Frequency, DC, Magnetron Sputtering 법이 있다.Sputtering은 기존의 생산 장비를 사용할 수 있고 양호한

  리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.10.17

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  LG전자생산연구직 자기소개서-최종합격

  [보유기술]- Litrex 80L 전자소재용 잉크젯 프린팅 장비 유지, 보수- Karl Suss MA6 Mask Aligner 사용 기술 및 포토리소그래피 공정가능- 분석기술 : AFM ... 과제 진행 중 기존의 포토리소그래피 공정을 이용한 OTFT-WOLED용 2인치 QCIF급용 컬러필터를 폴리카보네이트 필름을 이용하여 제작. ... 2010월 1월: World wide Nano-particle 프로젝트 담당.Nano particle 입자분산도 확인을 위한 DLS(Dynamic Light Scattering) 장비

  자기소개서 | 9페이지 | 10,000원 | 등록일 2011.02.08

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  [디스플레이]전자종이

  이는 고정밀도의 리소그래피 장비를 사용하므로 균일한 크기의 container 공간을 형성할 수 있고, 추가적인 binder 개발이나 monolayer control 등의 공정이 필요 ... Optical lithography대량생산이 가능하며, 장비 안정성 및 가격, 효율 등 모든 면에서 디바이스를 제조하기에 가장 적합한 방법이다. ... 일반적으로 빛을 이용한 리소그래피 기술에서는 파장이 해상 한계를 나타내는 하나의 척도이기 때문에, 종래 기술로는 그 이상의 고집적화는 어려운 상황이다.

  리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.06.12

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  반도체 기술혁신경영 미래기술

  산화물반도체550도 고온의 장비 안에서 레이저로 산화물을 기체로 만든 뒤 기판 위에 한 층씩 붙여간 후, 절연체 박막 사이에 또 다른 산화물을 층을 넣어주면 이 물질이 전기를 흘리거나 ... 저비용 대면적 나노기술분자자기조립현상과 디스플레이용 광리소그래피 공정을 융합해 마이크로미터(1㎛=100만분의 1m) 크기의 패턴을 만든 후, 분자조립현상을 이용해 수십 나노미터(1㎚

  리포트 | 6페이지 | 1,500원 | 등록일 2011.07.28

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  습식에칭(Wet Etching)

  기술개발 현황 ● 포토리소그래피공정 포토레지스트 ( photoresist ) 패턴을 마스크로 하여 포토레지스트로 덮여 있지 않은 부분을 선택적으로 제거 11/203. ... 기존 반도체 및 LCD 장비개발 과정에서 확보한 플라스마 원천기술이나 세정 노하우를 식각 장비 개발에 바로 응용할 수 있다는 점을 인지하고 반도체 업체 및 정부는 국내 장비 업체를 ... 기술 개발 추이 3.2 에칭 장비 향후의 에칭 장비들은 저압에서 고밀도의 플라스마를 발생시키도록 설계되어야 함 ICP, ECR, Helicon 과 같은 고밀도 플라스마 소스 개발 에칭의

  리포트 | 20페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.06.22

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  동진세미켐 반도체 공정 현장 실습

  : High resolution, High cost Negative : Low resolution, Low costDevelopingPhotoresistPhotoresist 개요 리소그래피 ... 기술력 최우수 국내 전자재료 매출액 최대 국외 미국, 일본 등 우수 정밀화학 회사들과의 경쟁 설비 투자 공장 내 분석실 운영 Clean room에 반도체 공정 simulation 장비

  리포트 | 25페이지 | 2,000원 | 등록일 2009.02.08

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