"Magnetron sputter" 검색결과 161-180 / 222건

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  [공학기술]박막 공정,PVD,증착,진공증착,스퍼터링 보고서

  또한 step coverage가 좋아서 균일한 성막이 가능하다. sputter 방법이 갖는 단점인 낮은 성막 속도는 magnetron 이나 ECR (Electron Cyclotron ... 이 sputtering 방법은 보통의 sputtering과 동일하나, sputter 기체로서의 Ar 외에도 미량의 산소나 질소를 함께 공급해서 원하는 화합물의 박막을 얻을 수 있다.스퍼트 ... 스퍼터링- 음극스퍼터링(cathode sputtering)24p4.4.1. 직류스퍼터링(DC sputtering)34p4.4.2.

  리포트 | 70페이지 | 3,000원 | 등록일 2007.08.16

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  [신소재 설계입문] PEMFC 연료전지 수소연료전지 설계 프로젝트 발표보고서

  Magnetron sputtering ) Chemical vapor deposition(CVD) Electroless deposition for Ni-Ph alloy ． ． ． ． ... [ 분리판 ] 접촉저항 문제 해결 Coating layer Coating process Stainless steel Physical vapor deposition(PVD) (eg. ... 그라파이트 스테인리스강 대량 생산가능전체 공정의 설계 직접코팅법 (CCM) 가열압착법 (CCG) MEA 접합공정 Catalyst slurry membrane Dry 5-layer MEA

  리포트 | 38페이지 | 3,000원 | 등록일 2011.06.23

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  MOS소자

  있으dation: furnace를 이용하여 oxide를 성장시킴(3) Photo-lithography: 절연체 위에 원하는 형상의 pattern를 형성(4) Deposition: DC sputter를 ... 직류가 아닌 교류를 가함.- Magnetron Sputter : DC Sputtering과 유사. ... 제거하여 감광막 성질을 유지After spinning; 15% solvent & Built-in stress- 감광막의 건조- 접착력 향상- annealing 효과 ⇒ 응력 완화장비

  리포트 | 11페이지 | 1,500원 | 등록일 2010.07.04 | 수정일 2016.04.25

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  Low E 유리

  스퍼터링공법(sputtering process)에 의한 소프트 로이(soft low-E)와 파이롤리틱 방법(Pyrolytic process)에 의한 하드 로이(hard low-E) ... 스퍼터링(Magnetron Sputtering)법으로 제조된 스퍼터 로이 유리로 대별된다.①열분해(Pyrolytic) 로이 유리 : 고온으로 달궈진 유리상에 기채 액체 또는 분말상의 ... 결로 저감⑤ 다양한 색상 가능5.Low E 유리 제법(1) 제법에 따른 분류현재 상업화된 로이 유리는 제조방법에 따라 열분해(Pyrolytic)법으로 제조된 파이로리틱 로이 유리와 마그네트론

  리포트 | 13페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.12.08

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  [sputter]sputter 종류와 mechanism

  만일 충돌하는 입자들이 양의 이온(positive -ion)이라면 cathodic sputtering이라고 부르는데, 대부분의 스퍼터링은 cathodic sputtering이다.보통 ... Target을 cathode로 하여 스퍼터링 할 때 주파수가 10 MHz 이상 되어야 효과적인 sputtering이 일어난다. ... 중성 원자를 쓰던 또는 이온을 쓰던 같은 질량과 같은 에너지를 가지고 있다면 sputter yield에 영향을 미치지 않기 때문에 별다른 의미가 없다.

  리포트 | 11페이지 | 2,000원 | 등록일 2006.02.26

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  스퍼터링

  sputtering yield 특징 ? ... 그 cathodic sputtering이다. ... 일반적으로 sputtering yield는 이온의 에너지와 질량이 증가하면 증가한다.그러나, 이온의 에너지가 너무 크면 이온 주입이 일어나 오히려 sputtering yield는 감소한다

  리포트 | 23페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.04.13

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  산화아연의 전망

  Ryu등9)은 PLD 법을 이용하여 GaAs 기판에 의한 As 도핑 방법을 이용하여 p-형 ZnO 박막을 제조하였다고 보고하였으며, RF magnetron sputter 법을 이용하여 ... coater를 이용하여 3000 rpm에서 20 sec 동안 glass substrate에 3.2에서 만들어진 용액을 코팅한다.⑤ Heating만들어진 film에 있는 소자가 개발되었다 ... 하기 위한 glass substrate를 거즈를 이용하여 다음과 같은 과정으로 깨끗이 세척한 후, Kimwipes를 이용하여 수분을 제거한다.

  리포트 | 28페이지 | 3,000원 | 등록일 2010.06.29

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  필름의 두께와 annealing 온도가 SiNx의 광학적특성(optical property)에 미치는 영향

  Schematic of low-frequency inductively coupled plasma assisted rf magnetron sputtering system* A mixture ... (a) (150 nm) SiO2 film.The strongest emission is observed in the spectral range 600–-620 nmThe strongest ... Recently, a substantial effort has been focused on nanoparticle films owing to apparent simplicity and

  리포트 | 12페이지 | 2,500원 | 등록일 2008.06.02

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  CBD실험 예비레포트

  , magnetron, ion and laser deposition.Biotechnology- Interactions of DNA and RNA with complementary strands ... 응용 요 이점은 분자의 label free detection을 할 수 있다는 점입니다.Thin Film thickness monitoring in thermal, e-beam, sputtering ... formation of biofilmsFunctionalized surfaces- Creation of selective surfaces- Lipid membranes- Polymer

  리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.01.16

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  NH3.H2O 솔루션을 통해 조합되는 ZnO 나노 결정체 배열의 형태 변경

  Lee, Deposition of ZnO thin films by magnetron sputtering for a film bulk acoustic resonator, Thin Solid ... Kim, S.G. Kim, C.S. Hwang, S.H. Hong, Y.H. Shin, N.H. ... Lin, Fabrication and ethanol sensing characteristics of ZnO nanowire gas sensors, Appl. Phys.

  리포트 | 14페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.06.04

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  [전자공학] 박막형성법과 그성질

  이방법에는 Diode sputtering, RF sputtering, Triode sputtering, Magnetron sputtering, Unbalanced magnetron ... 존재(5) 장점① 높은 증착 속도② 낮은 sputtering 압력③ 기판 온도 감소④ 산업적 규모의 공정으로 변환이 용이(6) Unbalanced magnetron sputtering ... 있다.(4) magnetron sputtering system① electron source의 추가로 triode mode에서 수행- hollow cathode enhanced magnetron이온화를

  리포트 | 14페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.01.18

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  [재료공학]박막의 증착 공정

  diode, RF diode, triode, magnetron, modified RF magnetron sputtering다음 두 가지 방법이 기본이다.(1) metallic cathode ... 필요(2) compound-coated cathode간단하나 스퍼터링 속도가 느리다. (∵ 대부분의 화합물 타겟은 sputtering yield 가 작고 이차 전자의 방출량이 많다. ... - 타겟이나 기판에 직접적인 화합물 형성에 참여하지 않음․불활성 기체로 Ar이 탁월 - 값이 싸고, 무거워서 sputtering yield가 높다.② reactive processDC

  리포트 | 14페이지 | 1,500원 | 등록일 2006.04.09

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  evaporator의 원리 및 이론

  E-beam Evaporation증착방법에 따른 굴절률 (TiO2)- E-beam evaporation, ARE : 2.2~2.35 IAD : 2.35~2.5 IP, Ion beam sputter ... LaserDC RF Pulsed DC Magnetron ReactiveReactive Cathodic arc3. ... Evaporation9) E-beam source2.

  리포트 | 31페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.12.24

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  [물리]스퍼터링에 의한 박막 증착, 예비보고서

  실험제목: 때려내기에 의한 박막 증착실험목적: 박막 성장 방법 중의 하나인 '때려내기(sputtering)에 의한 박막 증착' 방법의 원리를 이해하고, sputtering 장비를 이용하여 ... 음극과 양이온으로 덮인 플라스마 사이에는 어두운 공간이 있으며 이를 음극 덮게(sheath)라 한다. ... 따라서 sheath의 강한 전기장에 의하여 플라스마의 양이온은 음극 덮개를 지나 음극으로 운동하게 된다.

  리포트 | 23페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.09.03

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  Thermal evaporation system

  따라서 이런 경우에는 오염의 염려가 없는 환경이 필요한 것이다.둘째는 적절한 환경 제공이다.예를 들어 sputtering을 이용할 때는 수 m torr의 기압이 필요하나 CVD(chemical ... micron) 두께로 특정 기판 상에 올리는 일련의 과정을 지칭하며 이러한 방법으로는 thermal evaporation(열증착), e-beam evaporation(e-beam 증착), sputtering ... 증착(Deposition)1) Sputtering : DC 또는 RF magnetron을 이용하여 증착하고자 하는 물질의 target으로부터 입자를 떼어내어 특정 기판상에 옮겨 붙이는

  리포트 | 10페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.05.16

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  [박막증착]박막증착

  따라서, target에서 균일한 증착속도가 얻어지지 않는다.이처럼 Magnetron target은 전형적으로 racetrack 형태로 sputter erosion이 일어난다. ... .* Magnetron SputteringCathode에 영구 자석이 장착되어 target 표면과 평행한 방향으로 자장을 인가해 주는데 이러한 자석이 장착된 target을 magnetron ... 그러나 기판(substrate)에 전기를 줄 수 없는 epoxy나 기타 plastic류 같이 전기가 통하지 않는 곳에는 전기가 통하지 않아 이 위에 금속이 석출되어 도금이 될수가 없다

  리포트 | 7페이지 | 2,000원 | 등록일 2006.04.20

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  포토리소그라피(photolithograpy)공정의 기본과 금속배선공정인 무전해, 전해도금의 기초 및 원리

  Sputtering의 기본 원리(출처 : www.cstl.nist.gov)박막 증착에서 sputtering이라 하면 target 원자의 방출과 그 원자al, thermal process ... 기술과 도금법인 무전해 도금과 전해 도금에 대하여 기술하도록 하겠다.Key Words : Photolithography, sputtering, electoplating, electoroless ... techniquesAbstract본 보고서에서는 TFT-LCD의 제조 공정의 기초 단계 중 하나인 Photolithography 공정에 대하여 자세히 다루고, 다음으로 금속 전기 배선 기술인 sputtering

  리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.10.17

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  [나노입자]나노 입자 제조 및 분석 방법

  RF sputtering법은 다른 디지털 회로에 noise의 발생 원인이 될 수 있으므로 시스템적으로 noise filter나 절연체에 의한 차폐와 접지가 중요하다.- 마그네트론 스퍼터링 ... 또한 발생 입자가 상당히 넓은 크기 분포를 가지며, 일반적으로 기본입자가 강하게 tering 법· sputtering 의 원리- sputtering법은 sputtering 가스를 진공분위기로 ... 일반적으로 사용되는 sputtering 가스는 불활성 가스(inert gas)인 Ar을 사용한다. sputter장치의 시스템은 target쪽을 음극(cathod)으로 하고 기판쪽을

  리포트 | 32페이지 | 2,500원 | 등록일 2006.05.28

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  pn다이오드 접합과 반도체 그리고 lithograpy기술과 종류

  특히 dry etching의 경우 ion 가속만을 이용하는 IBE(ion beam etching)나 sputtering과 같이 magnetron을 이용하는 sputtering etching이 ... 현상액으로는 크게 염기성의 수용액과 solvent류가 있다. ... PR을 용제(solvent)에 녹이는 과정에서 PR 위에 deposition된 film은 제거되고 substrate 위에 deposition된 film 만이 남게 되는 것이다.CF)

  리포트 | 9페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.09.09

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  [기계공학] 오일리스 베어링(Oilless Bearing)과 DLC(Diamond Like Carbon)

  그래서 대량 생산에 적합한 산업화에 가능성이 대단히 높 다.3) Suttering최신기술은 CFUBMS(closed field unbalanced magnetron sputter ion ... 원소는 탄소로 이루어져 있고 탄소의 경우 sp3, sp2와 sp1 hybridization이 모두 가능해서 이중, 삼중 결합이 포함되어 있다. ... Angus 등은 벤젠 6각링들과 sp3결합을 하고 있는 탄소, 수소 등이 랜덤하게 결합되어 있는 fully constraint structure 모델을 제시하였는데, 이 모델은 필름의

  리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.11.21

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