"RF-magnetron sputtering" 검색결과 1-20 / 144건

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  연속 ECR-CVD 조업하에 RF-magnetron-sputter의 싸이클조업을 통해 PET위에 올려진 구리박막의 특성

  한국재료학회 명종윤, 전법주, 변동진, 이중기

  논문 | 8페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

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  Fabrication and Electric Properties of LiNbO3 Thin Film by an Rf-magnetron Sputtering Technique Li-Nb-K-O Ceramic Target (Rf-magnetron sputtering 방법으로 Li-Nb-K-O 세라믹 타겟을 사용하여 제작한 LiNbO3박막의 제작 및 전기적 특성)

  한국재료학회 Park, Seong-Geun, Baek, Min-Su, Bae, Seung-Chun, Gwon, Seong-Yeol, Kim, Gwang-Tae, Kim, Gi-Wan

  논문 | 5페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

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  RF-magnetron sputtering 기법을 이용한 박막형 강유전체의 특성평가

  실험 예비 REPORT━━━━━━━━━━(RF-magnetron sputtering 기법을 이용한 박막형 강유전체의 특성평가)소 속재료공학부담당교수교수님학 년3학년분 반003학 번200423156이 ... 속에서 sputtering 하는 방법으로 이 방법은 효율이 매우 높다.○ RF sputtering① Self bais : RF sputtering 에서 target의 반대편을 때리지 ... : 직류전지에서 플라즈마를 이용하여 Sputtering을 하는 방법으로 주로 금속 target을 이용하여 substrate에 박막을 입히는 것이다.② RF sputtering :

  리포트 | 13페이지 | 3,000원 | 등록일 2010.01.25

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  Evaporator_Sputter 레포트

  방식을 사용하여 해결이 가능하다.RF 스퍼터링은 교류 전원을 이용한 증착 방식이다. ... Magnetron Sputtering 등이 있다.먼저 DC Sputtering은 직류 전원을 이용한 스퍼터링 방법이다. ... E-Beam Evaporator는 위의 Thermal Evaporator와 유사한 방식으로 물질을 증착시킨다.

  리포트 | 7페이지 | 2,500원 | 등록일 2021.11.08

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  반도체 공정 term project

  RF Sputtering방법은 target이 금속 이외에도 비금속, 절연체, 산화물, 유전체 등의 sputtering이 가능하며 주로 13.56MHz의 고주파 전원을 사용한다.I. ... 반도체 장비에 적용 가능한 기술 개발을 통해 사업 분야 확장 특히 Imprint 장비기술 및 FE-SEM 장비 기술을 보유하고 있으며, 현재 Bump sputter 장비기술 개발 중에 ... DC/RF sputteringAbstarct(혹은 초록)Sputtering은 Chamber내에 공급되는 가스에서 발생되는 전자 사이의 충돌로부터 시작된다.

  리포트 | 11페이지 | 5,000원 | 등록일 2023.06.22

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  카이스트(한국과학기술원) KAIST 일반대학원 반도체시스템공학과 자기소개서 연구계획서

  magnetron sputtering 법으로 제조된 LaFeO3 박막의 가스감지 특성 연구, 유기 패시베이션 박막 In-Zn 산화물 반도체의 안정성 향상에 관한 연구, 몬테카를로 ... 성적이 좋아져서 OO를 OO권으로 쓰지는 못했지만 그래도 계약학과인 OO대학교 반도체공학과에 입학을 하는데 성공을 했습니다.저는 카이스트 대학원 반도체시스템공학과에 진학을 한 다음에 RF ... 시뮬레이션 연구: FDSOI Tri-gate MOSFET의 라인 에지 거칠기(LER)에 대한 이중 패턴화와 단일 패턴화의 효과 연구, 투명산화물 반도체 박막의 설계 및 응용 연구 등을

  자기소개서 | 1페이지 | 3,800원 | 등록일 2024.07.25

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  [기초공학실험]Cu film의 전기적 특성 분석 실험

  두께가 정비례하므로 콘트롤이 쉽다.- RF sputtering에 비해 성막속도가 크다.- 비교적 구석구석 도금이 된다.- 조성이 복잡한 것도 적용시킬 수 있다. ... RF sputtering은 금속 이외에도 비금속, 절연체, 산화물, 유전체 등의 sputtering이 가능하다.? ... 즉 물질에 따라서 수 10nm/분 ~ 200nm/분의 두께이다.- 타깃은 판상으로 해야 한다.- 기판이 과열되기 쉽다.② RF SputteringDC sputtering에서는 target이

  리포트 | 8페이지 | 3,200원 | 등록일 2019.09.02 | 수정일 2020.08.10

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  [재료공학실험]투명전극재료의 합성 및 물성 평가

  마그네트론 Sputtering 법에 의한 ITO 박막의 합성1) RF, DC, Pulse DC-Sputtering System으로 건조시킨 glass 기판 사용하여 합성다. ... 전극으로 사용되고 있다.일반적으로 박막의 제작에는 저항 가열법(thermal evaporation) 과 전자선 가열법(eletron beam evaporation) 그리고 스퍼터링(sputtering ... ITO 박막의 두께 측정 및 비저항 측정1) α-step (Dektak 3)Wafer 표면 위의 단 차가 있는 박막의 두께(수 Å 이상) 및 Step profile을 측정하기 위하여

  리포트 | 6페이지 | 2,500원 | 등록일 2022.02.20 | 수정일 2022.02.22

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  삼성전자 설비기술 합격 자기소개서

  비전도성을 띄는 황동 필름의 증착을 위해 RF magnetron sputtering, 감지체 역할을 하는 황동 나노플레이크의 형성을 위해 열 산화과정을 적용했으며, 산화과정은 일반 ... 이바지하는 것입니다. 5G, AI기술이 바탕이 된 4차 산업혁명의 가속화로 AI반도체가 국가적 역량이 집중되어야 할 산업으로 주목 받는 가운데, 삼성전자는 지능형 메모리 반도체인 HBM-PIM을 ... 팀원들과 silane을 다공성 막에 얇고 균일하게 입히기 위한 방안을 모색하던 중, 반도체 공정의 박막증착법에서 아이디어를 얻어 연구실 내 감압장치를 활용하고 해결할 수 있었습니다.

  자기소개서 | 5페이지 | 3,000원 | 등록일 2023.02.06

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  재공실 실험2 예보 - RF-Magnetron Sputter를 이용한 박막 증착 원리 이해

  이러한 현상은 DC sputtering 의 경우 sputter 초기부터 target 뒷면의 영구자석을 회전시켜 주거나, 자석의 전류를 변화시키면 개선할 수 있다▶Magnetron Sputtering마그네트론 ... 수 있다.Sputter etch(Back sputtering) 에서는 기판에 -100V ~ -200V 정도의 RF 또는 DC(-) bias 를 걸어주어, Ar+ion 을 기판에 충돌하게 ... 재료공학실험3 2013년 1학기예비보고서RF-Magnetron Sputter를 이용한 박막 증착 원리 이해1) PVD 증착방식인 Sputtering의 원리에 대한 이해▶PVD (physical

  리포트 | 6페이지 | 2,000원 | 등록일 2013.10.29

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  재공실 실험2 결보 - RF-Magnetron Sputter를 이용한 박막 증착 원리 이해

  RF-Magnetron Sputter를 이용한 박막 증착 원리 이해1. ... 작동원리의 차이점은 E-beam evaporator는 음극 필라멘트에서 직접 전자가 발생되어서 자기장을 이용해서 직접 전자가 타깃 물질을 쳐서 증발시켜 시편에 증착시키는 것이고, sputtering ... 그림에서 보이는 것처럼 shutter는 증착이가지 않도록 제어함으로써 증착시간을 조절해 주는 역할을 하며 substrate rotation은 chamber 위쪽에 달려있으며 기판을

  리포트 | 3페이지 | 2,000원 | 등록일 2013.10.29

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  재공실 - sputtering 결과보고서

  RF Magnetron Sputter를 이용한 박막 증착 원리 이해1. sputter의 각 부분의 명칭과 기능sputter system 위 그림처럼 크게 6개의 파트로 나눌 수 있는데 ... 사용하는 ECR 스퍼터(ECR sputtering), 가스압이 보통 냉음극 직류 글로우 방전 유지 영역인 10-1~10-2Torr보다 낮은 경우 낮은 가스압 스퍼터(low pressure ... 타겟이 있는 게터 스퍼터(getter sputter), 타겟 자신의 증발 이온으로 타겟을 재차 스퍼터하는 자기 스퍼터(self sputtering)라고 한다.

  리포트 | 3페이지 | 2,000원 | 등록일 2013.10.29

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  [예비보고서] RF-Magnetron Sputter를 이용한 박막 증착 원리 이해

  인가된 전원에 따라 RF·DC magnetron sputtering이라 한다.나. ... RF-Magnetron Sputter를 이용한박막 증착 원리 이해신소재공학부1. PVD 증착방식인 Sputtering의 원리에 대한 이해가. ... RF sputtering법은 다른 디지털 회로의 noise 발생 원인이 될 수 있으므로 시스템적으로 noise filter나 절연체에 의한 차폐와 접지가 중요하다.마그네트론 스퍼터링

  리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.07.21

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  투명전극(ITO)과 진공펌프 및 게이지와 스퍼터링의 종류들과 원리

  Reactive sputtering : RF보다 불리함-RF sputtering-a. 전도체, 절연체, 비금속, 유전체b. HIP 또는 sintered powderc. ... Reactive sputtering에 적합③DC/RF 마그네트론 스퍼터링 장치기존 스퍼터링 방법에 자기장을 사용하면 마그네트론이라는 단어를 붙여 마그네트론 스퍼터링 방법의 특징을 띄게 ... 전자 디바이스 제작에 폭넓게 이용되고 있다.여기에서 산화물이나 질화물박막을 원하는 조성으로 증착하고 싶을 때 추가적으로 가스를 공급하여 반응을 일으킬 수 있는데, 이를 DC/RF

  리포트 | 22페이지 | 2,500원 | 등록일 2019.07.03 | 수정일 2019.07.04

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  결과보고서 2. RF-Magnetron Sputter를 이용한 박막 증착 원리 이해

  RF-Magnetron Sputter를 이용한박막 증착 원리 이해신소재공학부1. ... Sputter의 각 부분의 명칭과 기능a) Main chamber- main chamber는 진공계와 sputter gun, 기판 고정부, 가스 공급계로 구성되어 있다.- 실질적인 ... 사용하는 ECR 스퍼터(ECR sputtering), 가스압이 보통 냉음극 직류 글로우 방전 유지 영역인 10-1~10-2 Torr보다 낮은 경우 낮은 가스압 스퍼터(low pressure

  리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.07.21

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  표면개질공학 sputtering 원리와 특징, 현상과 응용

  원형, 2차원 마그네트론 음극 개략도-마그네트론의 제한과 전자궤도를 설명 앞에서 본 바와 같이 magnetron target은 전형적으로 ‘racetrack' 형태로 sputter ... , RF plasma sputtering, magnetron sputtering등이 있다. ... 불가능② RF sputteringDC sputtering에서는 target이 산화물이나 절연체일 경우 sputtering이 되지 않는다.

  리포트 | 9페이지 | 1,000원 | 등록일 2016.01.05

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  VLSI공정 5장 문제정리

  RF sputtering을 비교하여라.glow방전을 위해 DC power를 사용하는 것이 DC sputtering 이며 타겟으로 금속만 가능하다.RF sputtering은 13.56MHz의 ... RF power를 사용하여 자기 바이어스를 일으키므로 부도체 타겟도 가능하다.Magnetron 스퍼터링은? ... -대면적을 균일한 두께로 증착 가능-두께 조절 용이-정확한 합금성분 조절-step coverage, grain structure(입자구조), stress(응력) 조절가능-전처기 청결

  리포트 | 10페이지 | 4,000원 | 등록일 2018.06.05 | 수정일 2020.05.03

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  sputtering (스퍼터링)

  Step Coverage가 좋지 않아 균일한 두께의 증착이 어려움스퍼터링 (sputtering)의 종류1) DC sputtering소스2) RF sputtering부도체 박막을 증착 ... 크게 sputtering과 evaporation으로 나눌 수 있다.스퍼터링 (sputtering)의 원리스퍼터링은 DC 또는 RF 전원이 두 전극 사이에 가해지면 음극에서 방출, 가속된 ... , 입자구조(Grain structure), 응력 등의 조절 가능- 전 처리 청결 공정 가능 (sputter-cleaning)단점 :- 고가 장비- 낮은 증착률- 불순물의 증착- 패턴상의

  리포트 | 2페이지 | 1,000원 | 등록일 2015.12.07

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  진공의 이해

  Torr 주요 압력 단위 환산 관계진공의 단위 및 분류증착 장비증착 기술 - PVD (Physical Vapor Deposition) • 스퍼터링 (sputtering) • 진공 ... 이 형성되지 않는다. • 높은 온도를 요구하지 않는다. → 저온 or 상온 증착SputteringSputtering 종류 ► DC sputtering • 원리 - 충분한 농도(1~ ... 진공의 이해진공이란 진공의 단위 및 분류 증착 장비 Magnetron Sputtering 플라즈마 기초 및 응용분야 플라즈마란?

  리포트 | 58페이지 | 2,000원 | 등록일 2018.06.10

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  부산대학교 졸업 논문 (Flexible Display용 PI기판 위 ITO 증착 시 Stage Temperature에 따른 특성 변화 연구)

  사용한 증착 장비는 DC/RF magnetron sputtering system이며, 측정 장비는 XRD, 4-point probe, UV-VIS spectrophotometer이다 ... 증착 장비로는 DC/RF magnetron sputtering system을 사용 했다. Table 1은 사전 실험 후 측정한 deposition rate를 보여준다. ... 또한, ITO가 다른 물질에 의해 오염이 되었을 수도 있으므로, pre-sputtering을 30분 동안 실시하였고, 증착이 완료된 시편은 알파스텝을 이용하여 두께를 측정했다.

  논문 | 6페이지 | 3,000원 | 등록일 2020.05.18

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