"ion beam" 검색결과 161-180 / 462건

• 

  PVD와 CVD

  assistance Ion Beam Assisted Deposition(IBAD) 전기 원소들을 가속시킨다 Atomic Layer Deposition (ALD) 개별 원자를 여러 ... 저항발열체로부터 물질을 Evaporation하여 Discharge로 들어간 경우 일부는 전자 충돌에 의해서 이온화되는데 대햑 10⁴분율이 이온화로 존재 Ion Plating에 의해서 ... nitride) De 모든 파장을 커버할 수 없기 때문에 일부 재료에서만 사용가능Plating 열속도보다도 큰 운동에너지로 가속된 원자나 이온을 증착 입자에 포함시켜 박막 형성을 하는 기술 Ion

  리포트 | 22페이지 | 2,500원 | 등록일 2009.10.27

  다운로드 장바구니
• 

  분광학적 분석 방법

  pass cylindrical mirror analyzer를검출기로 사용하며, 부도체 시료의 전기적 보정을 위한 electron -flood gun, 시료표면 cleaning을 위한 ion ... 흡수율을 측정하는 기기이다.② 용도 및 성능 - 본 기기는 single-beam 형태로 microprocessor로 조절되며,시료에 따라 분해능은 1 ~ 2nm로 선택할 수 있다. ... (흡광광도계)① 원 리 : 파장 190 ~ 820 nm 의 광원 ( deuterium lamp )에 의해 시료의electronic transition을 유발시켜 incident beam의

  리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.02.03

  다운로드 장바구니
• 

  연소 화학 기상 증착법(Combustion Chemical Vapor Deposition)

  발광소자대규모생산성 접착력이 약함 불순물 영향이 큼화합물GaAs,InP,GaSbSputteringDC sputtering RF sputtering Magnetron sputtering Ion-beam ... -Electron beam Evaporation 증착재료의 용융점이 높은 경우(W,Nb,Si..)에 사용 Hot filament에 전류를 공급하여 나오는 전자 beam을 전자석에 의해 ... 기판의 온도가 낮은 저온 process이므로 생산성전기저항열을 이용한 filament, basket, boat 용융점이 높은 재료의 evaporation에 적합한 electron beam이있다

  리포트 | 18페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.12.17

  다운로드 장바구니
• 

  리튬이온이차전지 첨단기기 분석(li-ion battery)

  beam–scanning ) * 측정 목적 * 측정 조건 * 측정 결과 물질 표면과 속 구성 동시 비교 코팅 등 다른 구조 배열이나 혼합 시 관찰 이온 빔으로 표면 절단 후 image ... Spin state of metal ion Oxidation state of metal ion리튬 이온전지 첨단 분석 방법 EXAFS ( Extended X-ray Absorption ... transition with and without ligand to metal charge transfer (LMCT) process Local symmetry around metal ion

  리포트 | 10페이지 | 1,500원 | 등록일 2010.12.10

  다운로드 장바구니
• 

  시사영어 ppt 발표자료

  34 giggle [ ɡíɡl ] 낄낄 웃다 beam·ing [ bíːmiŋ ] 1. ... 싹이 나다 , 발아하다 ; 자라기 시작하다 leg up [ 기타 ] [ 구어 ] 조력 , 원조 ob·ses·sion [ əbséʃən ] 1. [ 심리 ] 강박 관념 , 망상 Across ... dimɑ́liʃ ] 파괴하다 , 뒤집다 Kim took the vegetable with a bow, and darted back to her giggling classmates - beaming

  리포트 | 10페이지 | 3,000원 | 등록일 2011.06.13

  다운로드 장바구니
• 

  [박막공학]이온빔의 원리와 스퍼터링

  Ion beamIon beam SputteringIon Beam Assisted Deposition플라즈마(Plasma)란? ... 대신 강한 ion beam 과 Electron beam 을 이용해도 Target 에대한 Sputtering 공정을 형성할수 있다. ... 전자빔 구조이온주입과 이온빔 증착 (IBAD : Ion Beam Assisted Deposition) 같은 Ion 빔을 이용하는 가공법은, 벌크의 물성에 영향을 주지 않고 표면성능만을

  리포트 | 17페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.12.27

  다운로드 장바구니
• 

  분광학적 분석 방법

  pass cylindrical mirror analyzer를검출기로 사용하며, 부도체 시료의 전기적 보정을 위한 electron -flood gun, 시료표면 cleaning을 위한 ion ... 흡수율을 측정하는 기기이다.② 용도 및 성능 - 본 기기는 single-beam 형태로 microprocessor로 조절되며,시료에 따라 분해능은 1 ~ 2nm로 선택할 수 있다. ... (흡광광도계)① 원 리 : 파장 190 ~ 820 nm 의 광원 ( deuterium lamp )에 의해 시료의electronic transition을 유발시켜 incident beam의

  리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.12.18

  다운로드 장바구니
• 

  Formula and stability constant of a complex

  보통 double-beam 장치가 single-beam 장치보다 더 공통적으로 사용된다.Apparatus Reagent.▷ Apparatus - UV Spectrophotometer ... 이 spectrum의 구간에서는 salicylate ion은 흡수되지 않는다. ... 더불어 ferric ions의 가수분해가 크게 억제되어지기 때문에 di-, tri-salicylate complex의 농도는 거의 인지되어지지 않을 정도로 작다.

  리포트 | 19페이지 | 1,500원 | 등록일 2010.03.25

  다운로드 장바구니
• 

  화학신소재개론

  Electron beam lithography----------------------------------------p.12-(1) Electron beam lithography의 ... 현재 Electron beam lithography기술은 기존의 electron beam lithography, scanning probe lithography 등과 같은 직행과정이 ... 아니라, electron beam projection을 이용한 병행과정방식이 개발되고 있으며, 다중광선(multi-beam)을 이용하여 생산성을 향상시키고자 하는 방법 등이 연구

  리포트 | 12페이지 | 2,000원 | 등록일 2011.12.17

  다운로드 장바구니
• 

  웨이퍼 프로세스를 구성하는 기술

  diffusion)웨이퍼 표면에 열에너지를 이용하여 불순물 원자를 표면 내로 주입시켜서 불순물 층이 형성되도록 하는 공정을 확산 (diffusion) 이라고 한다.2) 이온주입 (ion ... 실리콘 웨이퍼 표면 위에 원하는 패턴(전자회로)을 그대로 옮겨 집적하는 기술로, 형성 방법에 따라 광사진 식각(Photolitho-graphy), 전자 빔 사진 식각(electron beam

  리포트 | 2페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.04.25

  다운로드 장바구니
• 

  TCO에 대한 기초 내용 및 현재의 기술동향, 관련 특허 조사 및 분석, 시장 및 기술동향에 대한 전망 발표 자료

  Equipment (For deposition)DC/RF SputterRF Magnetron SputterIon Beam SputterIon Beam Assisted EvaporationPulsed ... Vacancy P - type Negative Ion Vacancy N - type04Property of TCO? ... Good reflector ITO , AZO, Graphene , etc….03Principle of conductionDefect make a conduction Positive Ion

  리포트 | 20페이지 | 1,500원 | 등록일 2010.03.02

  다운로드 장바구니
• 

  Ion plating method

  Beam Assited Deposition system 이온빔의 활용 스퍼터링원으로 활용 -이온빔을 타겟 표면에 조사함으로써 스퍼터링 현상을 유도 -이온빔의 가속전압과 이온유속(Ion ... 운동량 전달 → 증착층의 밀착성을 향상,미세조직을 치밀하게함 ARE(Activated reactive evaporation)공정 전자빔 증발원(E.B Filament)과 보조양극(Ion ... Steered arc source Arc spot의 움직임을 제어하는 기술 증발원 타겟 균일하게 용식→수명 연장 이온 플레이팅(PVD)의 기본이론 이온 플레이팅(PVD)의 기본이론 Ion

  리포트 | 20페이지 | 2,000원 | 등록일 2009.03.18

  다운로드 장바구니
• 

  Thermal Evaporation법을 이용한 박막의 제조 예비

  이 분류 중에는 진공증착, 분자선증착, Sputtering, ion plating, ion beam deposition 등이 포함된다.⑴ 진공증착법진공 용기 내에서 원하는 물질을 가열해서

  리포트 | 10페이지 | 1,500원 | 등록일 2013.03.08

  다운로드 장바구니
• 

  [초전도체][초전도체 특성][초전도체와 전기전도][초전도체 성형법][초전도체 응용기술]초전도체의 정의, 초전도체의 특성, 초전도체와 전기전도, 초전도체 성형법, 초전도체 응용기술

  증발원 의 방식, 증기류의 처리법에 따라 그림의 진공 증착법, 이온군 빔(Ion Cluster Beam : ICB)법 외에 이온 도금(ion plating)법, MBE법 등으로 분류된다

  리포트 | 6페이지 | 5,000원 | 등록일 2013.03.01

  다운로드 장바구니
• 

  2009 IEDM 주요 반도체업체 차세대 반도체 기술전망(IEEE International Electron Devices Meeting)

  3-1)- High-speed를 위한 스트레인기술을 위한 메트롤로지로 CBED (convergent- beam diffraction), NBD(nano-bam electron diffration ... 솔루션 개발, 신속한 의미있는 정보를 분석검사할 수 있는 2xnm 의 램프 및 기타 신제품군 개발, 가격경쟁력을 높일 수 있는 솔루션 개발이 필요- 물리적 결함 검사를 위한 E-Beam ... ) 및 홀로그래피를 이용한 HoloDark 등이 소개되었음(session 2.5)- Ⅲ-Ⅴ화합물(InGaAs, InSb 등)에 대한 etch, ALD 등 기술들이 연구되고 있으며,

  리포트 | 23페이지 | 3,500원 | 등록일 2010.05.07

  다운로드 장바구니
• 

  빅막의 식각 및 PR제거 예비보고서

  Etching, RIE, 그리고 Reactive Ion Beam Etching, RIBE)을 포함하고 있음을 알 수 있다.B. ... Top-Down방식에는 photography, EBL, Ion Beam Lithography가 있고, Bottom-up방식에는 Nano lithography, DPN, Micro contact ... 실험내용가장 널리 사용되는 실리콘 산화막 (silicon oxide; SiO2) 박막을 적절한 식각가스를 선택하여 반응성 이온식각장치(reactive ion etcher; RIE)를

  리포트 | 10페이지 | 1,500원 | 등록일 2009.11.26

  다운로드 장바구니
• 

  [반도체A+자료]RIE(Reactive Ion Etching)에 관한 모든것

  etching, RIE) 이온 빔 밀링(Ion beam milling)장치Dry etchingRIEIon beam millingPlasma etching물리적요소화학적요소플라즈마 ... RIE (Reactive Ion Etching)Etching의 정의, 방법 Dry etching의 개요, 분류 Plasma etching, Ion beam milling Reactive ... ion etching 공정 변수에 따른 식각율 Reactive ion etching의 특징ContentsEtching의 정의정의 반도체 제조공정 중 감광 현상이 끝난 후 감광막 에

  리포트 | 16페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.01.29

  다운로드 장바구니
• 

  진공증착과 음극스퍼터링

  가열용해의 방법에 따라서 저항 가열식, 전자beam식, 고주파 유도식, 레이저식 등이 있다. ... 전자 beam 증착에 의한 고융점소재로의 응용으로 넓어 졌다.5. 분자선증착이나 이온 도금으로 발전.6. 대형기판에는 suppter가 이용되게 되었다.진공증착의 특징1. ... 의한 빛의 발산이 cathode 표면에서 발생- cathode dark space ; 거의 모든 전압이 강하하는 지역으로 target에 이온들을 가속화된 상태로 제공- ion 이

  리포트 | 8페이지 | 1,500원 | 등록일 2010.10.11

  다운로드 장바구니
• 

  반도체 제조 공정

  이온주입(ION IMPLAN- TATION)공정 : 회로패턴과 연결된 부분에 불순물 을 미세한 GAS입자 형태로 가속하 여 웨이퍼의 내부에 침투시킴으로 써 전자소자의 특성을 만들어줌 ... Com-puter Aided Design) 시스템을 사용하여 전자회로와 실제 웨이퍼 위에 그려질 회로패턴을 설계 함.반도체 제조 공정5.MASK(RETICLE)제작 : 설계된 회로패턴을 E-beam

  리포트 | 20페이지 | 2,000원 | 등록일 2012.10.13

  다운로드 장바구니
• 

  EDX(EDAX, EDS)에 대한 장비 소개

  EDS(Energy Dispersive X-ray Spectroscopy)라고 불리는 장비는 정성분석이 가능한 장비로 주로 전자현미경 계열(TEM, SEM등)과 FIB(Focused Ion ... Beam)등의 공정 및 분석 장비에 가장 범용적으로 장착되어 사용합니다. ... Solid angle이 커지면 동일한 Beam조건에서 많은 양의 X-ray Data를 얻을 수 있다.

  리포트 | 21페이지 | 2,500원 | 등록일 2010.02.11

  다운로드 장바구니