"wafer" 검색결과 161-180 / 195건

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  반도체 제조 공정

  반도체 제조 공정반도체 제조공정소개웨이퍼제작 (Ingot)마스크제작웨이퍼가공 (Fabrication)검사(Test)조립 (Assembly, Packaging)반도체공정 요약회로설계모래로부터 고순도 단결정 실리콘웨이퍼를 만들어내는 과정웨이퍼상에 구현될 전자회로를 설계하는..

  리포트 | 63페이지 | 3,000원 | 등록일 2007.12.27

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  박막 재료의 표면처리 및 PR 제거

  1. 실험제목 : 박막 재료의 표면처리 및 PR 제거2. 실험목적여러 가지 전기 및 전자기기에 사용되는 반도체 소자의 제조공정은 박막재료의 세 가지 공정으로 나눠지는데 첫째로 증착공정 둘째로 마스크의 패턴형성 그리고 셋째로 식각공정으로 나눠진다.이러한 공정 가운데서 중..

  리포트 | 21페이지 | 3,000원 | 등록일 2008.05.27

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  금속의 표면저항

  1. 목적진공 중에서 금속 화합물 또는 합금을 가열 증발시켜 증발 금속 또는 증발 금속 화합물을 목적 물질의 표면에 붙게하여 얇은 피막을 형성시키는 방법인 증착법을 사용하여 시험하고자 하는 시편(Si wafer)을 가지고 Ag을 증착시켜 온도에 따른 전기 저항 값의 변..

  리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.10.16

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  Sputter Deposition

  Sputter Deposition1. Basic aspects of sputtering1.1. Sputtering 현상Glow discharge를 이용하여 ion을 형성하고 이를 전장으로 가속하여 고체 표면에 충돌시킨다. 이때 고체 내부의 원자와 분자들은 운동량 교환을..

  리포트 | 21페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.11.02

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  태양전지제조공정

  목차1. 태양전지의 종류2. 결정질 태양전지 구분3. 결정질 태양전지 제조 공정3.1 단결정 태양전지 제조 공정-실리콘 단결정 제조 방법-재료의 결정면3.2 다결정 태양전지 제조 공정 및 방법4. 웨이퍼의 가공5. TEXTURING6. P-N JUNCTION 제조 방법..

  리포트 | 38페이지 | 2,000원 | 등록일 2009.11.25

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  반도체공정 (Si)

  1. 실리콘의 물성(1) Crystal Structure of SiSi 이나 Ge 같이 공유결합한 고체들인 fig1.1(a,b)에서 볼 수 있듯이 공유결합의 방향적 특성에서 제시된 다이아몬드 결정구조를 가진다. 사면체 내에서 네 개의 Si-Si 결합들의 단단한 지역적 ..

  리포트 | 14페이지 | 4,000원 | 등록일 2007.01.27

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  반도체 제작 공정 Team Project

  반도체 제작 공정 Team Project목 차1. 단결정 성장 과정 2. 규소 봉 절단 3. 웨이퍼 표면 연마 4. 회로설계 5. 마스크 제작 6. 산화 공정 7. 감광액 도포 8. 노광 9. 현상 10. 식각공정11. 이온주입 12. 화학 기상 증착 13. 금속배선 ..

  리포트 | 21페이지 | 2,000원 | 등록일 2010.07.27

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  반도체공정 (Packaging)

  FabricationReport(2월)박 형 석< Wafer testing >IC electrical testsTable 1.1 Different electrical tests for IC production (from Design stage to Packaged IC..

  리포트 | 41페이지 | 4,500원 | 등록일 2007.01.27

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  실리콘 산화막의 용도 및 성장 방법

  1. 예비 레포트-실리콘 산화막의 용도 및 성장 방법산화막(Oxide)은 이온 주입 및 불순물 확산공정에 대한 마스킹(selective masking) 효과, 표면안정화(surface passivation), 표면 유전성(surface dielectric)과 소자의 부..

  리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.10.29

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  [화공 반도체]Etching(에칭)

  1. 실험 방법 및 순서① 웨이퍼 세척아세톤→메탄올→IPA(이소프로필알코올)→DI-water 순으로 2~3회 세척한 후 100℃오븐에 넣는다. 초기 웨이퍼의 단면은 아래그림과 같다.□ 4가지 용액의 특성ㄱ.아세톤: 고분자 물질의 제거, 가장 강력하고 잘 씻겨짐ㄴ.메탄올..

  리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.05.16

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  [광전자] 광감성 포토레지스트를 이용한 패턴 형성 실험

  ● 광감성 포토레지스트를 이용한 패턴 형성 실험 ●1.이 론1-1. LITHOGRAPHY의 정의LITHOGRAPHY는 원래는 석판인쇄술 등을 지칭하는 말이였으나 현재는 식각 공정, 주로 반도체 제조 공정을 애기한다. 반도체 제조공정은 실리콘 기판위에 회로를 깍아 넣는 ..

  리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.08.23

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  반도체 제조 공정

  ■ 반도체 제조 공정1. 단결정 성장(초크랄스키법)☞ 단결정이란 : 하나의 결정 물질 내부의원자들이 규칙적으로 배열☞ 단결정을 하는 이유: 캐리어의 이동을 원활하게 하기 위해☞ 초크랄스키 방법: 용융된 실리콘 용액으로부터 seed crystal을 용액 속에 담가 천천히..

  리포트 | 2페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.06.02

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  [전자재료]반도체 제조공정에서 산화의 필요성

  실험제목 : 재료의 산화실험 성명 :1. 반도체연구하는데 왜 재료의 산화실험을 할까?실리콘 표면 위에 산화막 층을 형성하기 위한 방법으로 실리콘 표면을 산화시키는 공정이 있다. 아래의 그림에서처럼 silicon substrate 의 일부가 산화되어 원래의 부피보다 커져..

  리포트 | 2페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.01.08

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  결정질 실리콘 태양전지용 기판의 텍스쳐링

  2011 2학기 재료공학실험 4결정질 실리콘 태양전지용 기판의 텍스쳐링목 차1. 태양전지 효율 곡선에 대한 조사 및텍스쳐링에 의한 상승요소2. 실리콘 태양전지용 단결정 웨이퍼의이방성 식각원리3. Reference2011 2학기 재료공학실험 5신소재공학부1. 태양전지의 ..

  리포트 | 4페이지 | 1,500원 | 등록일 2011.11.15 | 수정일 2023.05.26

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  [반도체공정] 산화막 공정( Oxidation Process )

  산화막 공정( Oxidation Process )1. 실 험 목 적반도체 재료로서 실리콘의 장점의 하나는 산화 실리콘(SiO2)을 형성하기 쉽다는 점이다. 산화층은 반도체 소자제조에 있어서 표면보호, 확산 마스킹, 유전체의 역할 등 주요 기능을 한다. 본 실험에서는 열..

  리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.12.13

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  [반도체공학] 반도체기초과정

  목차1. 반도체의 특징과 결합원리원자의 구조이온결합(ionic bonding)공유결합(Covalent bonding)금속결합(metallic bonding)< 물질의 전도성> 도체, 부도체, 반도체2. 반도체소자의 제조공정단결정성장규소봉절단웨이퍼 표면연마회로설계마스크(..

  리포트 | 14페이지 | 1,500원 | 등록일 2005.04.21 | 수정일 2021.03.30

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  [실험보고서] 표면저항측정

  1.서론실험 목적우리는 실리콘 웨이퍼의 표면 저항을 측정하는 방법 중의 하나인 Van der pauw을 이용하여 실리콘 웨이퍼의 온도에 따른 표면 저항 값을 구하고, 증착법(evaporation)과 저항측정법인 Van der pauw을 이해한다. 고유반도체인 실리콘 웨..

  리포트 | 10페이지 | 2,000원 | 등록일 2005.06.27

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  21세기 반도체 산업의 미래

  21세기 반도체 산업의 미래?????????????????????????????????????????□ 2001년에는 16년만의 반도체 대불황. 본격적인 회복은 2002년 하반기이후 전망- 5년 동안 계속된 미국경제의 고도성장이 중단된채 사실상 제로성장이 예측되는 가운..

  리포트 | 15페이지 | 1,000원 | 등록일 2003.05.29

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  그래핀(for the semiconductor)

  그래핀(for the semiconductor)서론1. 반도체(반도체란)◆도체와 절연체의 성질을 동시에 지니고 있으면서, 특정 조건(전압, 빛, 압력 등)에서 그 특성이 변하는 물질이다.2. 반도체 웨이퍼반도체 집적 회로의 원재료로 사용되는 실리콘 단결정으로 된 원판 ..

  리포트 | 13페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.10.13

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  [예비보고서] 결정질 실리콘 태양전지용 기판의 텍스쳐링

  I. 결정질 실리콘 태양전지용 기판의 텍스쳐링신소재공학부0. 실험 예비 문제a. 태양전지의 효율곡선(light I-V curve, efficiency, Voc, Jsc, FF, Rs, Rsh)에 대한 조사 및 텍스쳐링에 의한 상승요소 찾기1)Light I-V curve..

  리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.07.21

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