"에칭장비" 검색결과 1-20 / 433건

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  [반도체공정] 플라즈마 에칭 장비의 구조

  Etch Equipment`s StructureEtch Equipment`s StructureComposition of etch equipmentSending back department which transfer wafer from cassette to reactio..

  리포트 | 8페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.05.09

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  재료공학기초실험_광학현미경_저탄소강미세구조관찰

  장점 (드라이 에칭과 비교)- 한 번에 대량의 기판을 처리할 수 있다. productivity ↑- 상대적으로 간단하고 장비나 약품의 가격이 싸다.? ... 단점- 물리적 충돌에 의한 식각도 일어나므로 완벽하게 특정 물질의 선택적 식각이 어려움- 상대적으로 복잡하고 고가의 장비? ... 정의: 웨트 에칭(Wet etching)이란 목표 금속만을 부식 용해하는 성질을 가지는액체의 약품을 사용하는 에칭이다.

  리포트 | 9페이지 | 1,500원 | 등록일 2023.05.22

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  MEMS/NEMS의 이해와 활용사례

  무인 항공기는 점점 소형화되는 추세이며 유인 항공기와 달리 지상에서 원격 조정 또는 자동비행을 하기 때문에 보다 정밀한 항법장치 및 센서 필요- MEMS/NEMS를 통해 각종 전자장비 ... machining)① 기판 자체를 에칭하여 구조체를 만드는 방법으로 실리콘을 결정 의존성 에칭용액에 넣으면 특정 결정만 남는 원리를 활용② 웨이퍼 위에 원하는 형태대로 에칭이 되지 ... 않는 마스크 물질 도포③ 결정 의존성 에칭 용액에 넣으면 마스크 물질로 덮이지 않는 부분만 실리콘이 에칭되어 구조물 가공?

  리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2021.10.09

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  Photolithography 결과보고서

  이를 통해 회전속도가 느리고 PR의 점도가 높을수록 코팅되는 두께는 얇아지고 에칭이 잘되어 마크가 선명하게 나타날 것이라고 예상할 수 있다. ... {사진 5 – 실험에서 사용한 UV 노광 장비} {사진 6 – Sputter를 이용한 구리 증착 과정} 사진 5의 UV 장비를 사용하여 노광을 진행하였으며 그 후 현상액으로 남아있는 ... Rpm조건 실험 결과를 보면 1000Rpm이 3000Rpm보다 마크가 선명하게 나왔음을 알 수 있는데 이는 Rpm이 낮을 시 코팅되는 PR용액의 두께가 두꺼워져서 아세톤을 이용한 에칭이

  리포트 | 5페이지 | 2,000원 | 등록일 2023.04.05 | 수정일 2024.07.18

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  반도체 공정 정리본

  제조원가 하락지름이 클수록 생산가능 반도체 수 상승웨이퍼 표면 연마하기(Lapping & Polishing)표면의 흠결과 거칠기를 제어하기 위해 매끄럽게 만드는 과정연마핵과 연마 장비 ... 에칭이 완료되면 Resist를 제거[Strip]하여 증착된 층에 원하는 패턴이 에칭된다. 추가 공정은 예를 들어 구리 배선공정과 같은 에칭 공정을 사용할 수 없을 때 사용된다. ... 세 가지 기본 패턴 전사 접근 방식이 있다: 감산 전사(에칭), 첨사제 전사(선택적 증착) 및 불순물 도핑(이온 주입). 에칭은 가장 흔한 전사 접근 방법이다.

  리포트 | 61페이지 | 4,000원 | 등록일 2022.07.15 | 수정일 2023.07.02

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  2018 서울교통공사 하반기 자소서

  표에는 통신장비를 사용하는 기간, 라커룸 사용 여부, 결제수단이 표시되어있고 통신장비에 대한 허가를 원하는 기자에게 보여줘서 직접 체크를 하게 만들었습니다. ... 미세조직은 에칭액의 비율이 조금만 잘못돼도 관찰할 수 없는 어려운 과정이었습니다. 저는 수산화나트륨과 증류수를 일정한 비율로 만드는 에칭액을 제조하는 역할을 맡았습니다. ... F1을 촬영하러 온 세계 기자들의 원활한 취재를 돕기 위해서 통신 장비에 대한 허가를 받아야 하고 유일하게 돈을 받는 부서입니다.

  자기소개서 | 2페이지 | 3,000원 | 등록일 2020.11.17

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  미세조직관찰실험 레포트

  시편의 모습첨부된 두 사진은 모두 에칭 과정까지 마친 시편의 모습이다. ... 마운팅 공정의 실험 방법은 다음과 같다.^ Mounting press① 마운팅 장비의 전원을 연결한 후, POWER 버튼을 눌러 화면을 켠다.② UP/DOWN 버튼을 눌러 실험에 사용할 ... 또한, 시편을 너무 세게 누를 경우, Diamond 입자가시편 표면에 박혀 손상될 수 있으니 주의해야 한다.)⑦ 시편의 표면이 거울처럼 깨끗를 통해 상이 맺히는 것을 관찰하는 장비이다

  리포트 | 14페이지 | 2,000원 | 등록일 2020.09.06

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  ITOscribingcleaning A+ 레포트 건국대학교 고분자재료과학

  암모니아는 Si 웨이퍼를 anisotropic 에칭시키고 에칭 속도가 매우 크다. ... 아래의 반응식은 SC1 용액에서 Si 웨이퍼의 산화와 에칭 반응식을 보여주고 있다. 하지만 SC! ... 자연산화막 제거(Native oxide removal)자연산화막을 제거하는 건식세정방식에는 무수 HF 기체와 수증기를 적당한 비율로 혼합하고 운반 기체인 질소나 아르곤과 함께 진공 장비

  리포트 | 16페이지 | 2,000원 | 등록일 2023.06.03

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  [신소재기초실험]Wafer Wet Etching on lab

  UV수치를 확인하며 진행되어야 하며, 클린룸은 일반적으로 Yellow Room으로 설계된다.세정의 단계는 Spin-Coater 장비를 사용해 아세톤을 도포하여 세정한다. ... 폭발 가능성그림 2.6 습식 식각Dry etching-모든 원자는 각각의 고유한 파장을 가짐-Plasma 발생시 노출된 표면의 원자에 따라 plasma 의 색이 변함-건식 식각 장비 ... 이동-포면에서 화학적 반응-산화막은 물과 잘 접촉되는 친수성-실리콘은 물이 잘 안붙는 척수성-wafer 표면에 물이 묻는 정도를 확인하여 식각 여부 확인 가능*장점-상대적으로 저렴한 장비

  리포트 | 17페이지 | 2,500원 | 등록일 2022.01.07

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  Photo lithography 결과보고서

  작동은 동일하게 30mA, 300초 동안 진행하여 PR의 두께에 비해 구리의 두께가 너무 두꺼워 아세톤을 이용한 에칭 작업이 잘 되지 않는 것 같다. ... 결과들이 나왔다.특히 [결과3-2], [결과3-3]은 마크도 뚜렷하고 에칭 작업도 잘 진행되었다.다만 [결과3-1]은 나머지 2개의 결과보다 좋지 않은데 이는 아마 세정과정에서 다른 ... (accessed May, 14, 2019)[2] 포토공정 : https://www.skcareersjournal.com/908 (accessed May, 14, 2019)[3] 에칭공정

  리포트 | 5페이지 | 1,500원 | 등록일 2019.10.13

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  2020하반기Lam리서치 합격자소서

  에칭과 증착 분야에서 세계 최고의 장비를 공급하는 램의 일원으로 최고가 되고 싶어 지원했습니다.융합반도체기술, 집적회로공정 등의 수업을 들으며 반도체 산업은 설비 투자를 통해 성장하는 ... Lam은 3D 구조의 핵심 분야인 에칭과 증착 분야에 있어 최고의 기술력을 보유하고 있고, 1위의 점유율을 유지하기 위해 용인의 R&D 센터 건립, Tech conference 등 ... 이에 관련한 전문성을 쌓고자 융합반도체기술, 집적회로설계 과목을 수강하며 소자, 공정, 회로에 대한 이해도를 넓혔고, NCS 전공정 교육을 받으며 에칭, 증착 공정에 관한 이슈와 해결

  자기소개서 | 3페이지 | 3,000원 | 등록일 2021.04.12

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  Sn-Ag 합금 형성에 따른 미세조직 및 물성 변화

  시편을 만든 후 DSC 장비를 이용하여 온도에 따른 흡열량 , 발열량의 변화를 분석한다 . 7-1. ... 에칭(3조) 3조 4배결과 및 고찰 DSC curve 에서 1조의 경우 2개의 peak 가 나타나는 이유가 무엇인가 ? ... DSC 장비는 METTLER TOLEDO 사의 DSC 3+ 제품을 이용하며 다음 조건을 따른다. [1] 30.0..300.0 °C, 10.00 K/min, N2 50.0 ml/min

  리포트 | 18페이지 | 2,000원 | 등록일 2020.12.09

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  [재료공학실험]투명전극재료의 합성 및 물성 평가

  ㎝의 높은 전기전도도를 가지는 재료여야 한다. optical bandwidth가 3.5eV 정도이기 때문에 자외선영역은 모두 투과 시키고 적외선영역의 높은 반사율, 적절한 에칭 특성을 ... 이중에서도 ITO막은 낮은 저항을 가지며 강산에 의한 에칭특성이 뛰어나기 때문에 디스플레이용 투명전도막의 세계 수요의 90%를 맡고, 그중에서 95%가 액정표시 소자용으로 이용되고 ... ㎝ 이하인 높은 전기 전도성을 가지고, optical bandwidth가 3.5eV 정도이기 때문에 자외선영역은 모두 투과 시키고 적외선영역의 높은 반사율, 적절한 에칭 특성을 가지고

  리포트 | 6페이지 | 2,500원 | 등록일 2022.02.20 | 수정일 2022.02.22

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  전자정보소재공학 Resolution 향상을 위한 반도체 공정기술

  현재 EUV 공정을 개발 생산하는 ‘ASML’ 기업뿐이며, 많은 반도체 기업들이 resolution을 향상시킨 고품질의 반도체를 생산하기 위해 ASML의 장비를 활용하기를 원한다.EUV에 ... 방향족 고리화합물은 포토레지스트의 흡광도를 낮추어 주며, 에칭 내성도 증가한다. ... 좀 더 나은 내에칭성을 위해서는 alicycl서 벗어나 정밀한 패터닝이 어려울 것이다.

  리포트 | 11페이지 | 2,000원 | 등록일 2022.05.16

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  2019 한국남부발전 하반기 자소서

  실험할 때 가장 중요한 점은 장비사용법을 숙지하는 것으로 생각하여 설명서를 읽고 사용법을 익힌 후 장비를 점검했습니다. ... 하지만 조원들은 쉽지 않은 에칭액 제조를 서로 미루며 꺼렸습니다. ... 처음으로 혼자 진행했던 실험은 모든 과정을 혼자 진행해야 한다는 힘든 점이 있었지만, 이를 통해 업무를 진행하기 전에 사전조사를 통해 실험장비를 다루는 방법과 태도를 기를 수 있었습니다

  자기소개서 | 3페이지 | 3,000원 | 등록일 2020.11.17

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  [반도체공정실험]Cleaning & Oxidation, Photolithography, Dry etching, Metal Deposition, Annealing(Silcidation)

  실험 재료1) 진공 장비 : Gauge, Valve, Gas line, Pumps, ect2) 기타 장비 : Metal source(Ni), BOE 용액, DI water, Ecthed ... 그리고 이방성으로 에칭이 가능하기 때문에 etch time을 길게 할수록 깊게 파일거라는 예상을 했다. ... etch depthSiO _{2} etch depthPR mask etch depth3min0.33001.10905min0.43000.87907min0.54900.7080플라즈마 에칭은

  리포트 | 19페이지 | 5,500원 | 등록일 2022.09.17

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  [실점 100점 A+ 레포트]리소그래피 장비를 통해 본 화이트 리스트 제외 사건의 특징

  특히 포토레지스트, 에칭 가스, 플루오린 폴리이미드는 반도체 제조 과정에서 필수적인 재료이다.4. ... HF 용액을 이용한 에칭 공정 등 여러 가지 공정을 거쳐 반도체 기판에 미세한 패턴이 형성된다.그렇다면 이 리소그래피 기술은 왜 중요한가? ... 그중 리소그래피 장비에 대해 분석을 한다. 리소그래피 기술은 자외선을 이용하여 아주 미세한 패턴을 형성하는 기술이다.

  리포트 | 10페이지 | 1,500원 | 등록일 2020.11.18 | 수정일 2020.12.17

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  우리나라 반도체 상장기업 정리

  웨이퍼 에칭공정용 소모품인 SiC Focus Ring 등을 생산/공급해옴.동사의 제품은 국내외 디스플레이 메이커를 주 고객으로 하며 최종 소비재인 TV, 노트북, 스마트폰 등에 적용이 ... Graphite임.하나머티리얼즈동사는 2007년 설립되어, 실리콘 및 실리콘카바이드(SiC) 소재의 일렉트로드와 링 제조 및 판매를 주요 사업으로 영위함.동사의 주요 제품은 반도체 제조공정 중 에칭공정에 ... (식각장비) 및 후(後)공정 장비인 Die bonder(칩장착장비), Saw&Sorter(절단장비), Tester(검사장비) 등으로 제품영역을 확대하였습니다.2021년 반기까지 반도체ㆍFPD

  리포트 | 17페이지 | 1,000원 | 등록일 2021.10.29

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  재료공학실험1 - Photolithography에 대한 이해

  그리고 이 때 사용되는 장비는 Wafer와 Mask의 거리에 따라서 분류되며, 가까울수록, 오염은 증가하지만 빛의 회절이 발생하지 않아 해상도가 높다. ... 이를 현상반응이라고 한다.에칭: 건식, 습식 에칭이 있으며, 기판에 증착되었던 산화막을 제거한다. ... 이 때, 선택적으로 원하는 부분만 에칭하기 위해서 PR로 에칭해야 할 부분만 길을 내 준 것으로 이해하면 편하다.박리: 이후, 원하는 대로 기판에 증착한 산화막에 대하여 에칭을 진행했으면

  리포트 | 4페이지 | 1,500원 | 등록일 2019.11.14

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  한양대학교 일반대학원 화학공학과 학업계획서

  균일한 금속 할로겐화물 페로브스카이트 필름 증착을 위한 최적화된 기판 방향 연구, 옥살산을 이용한 자철광 표본의 환원 용해 동역학 연구, 디지털 트윈 실현을 향한 단계로서 고급 공정 장비 ... 연구계획저는 한양대학교 대학원 화학공학과 연구실에서 질화규소 플라즈마 에칭의 실시간 종점 탐지를 위한 스펙트럼 클러스터링 알고리즘 연구, 페닐벤즈이미다졸 치환체를 갖는 새로운 녹색 ... 연료전지용 에테르가 없는 술폰화 폴리(플루오렌 비페닐 인돌) 막 및 이오노머 바인더 연구, 헥사플루오로아세틸아세톤을 이용한 플라즈마 염소화 및 킬레이트화를 이용한 코발트의 열 원자층 에칭

  자기소개서 | 2페이지 | 3,800원 | 등록일 2024.03.01

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