"E-beam lithography" 검색결과 1-20 / 103건

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  14E-beam_lithography_&_Imprint

  Electron-beam lithography Imprint목차전자빔 노광기술이란? 전자빔 노광기술 시스템 구성 전자빔 노광 기술의 장단점 임프린트란? ... (참고: 나노사이즈의 패턴이 양각되어 있는 스탬프 제작을 위해서 일반적으로 electron-beam lithography와 건식에칭을 통해 만들어진다.) ... 하지만 UV 방식에도 기존의 임프린트가 가지고 있었던 대면적 공정, 잔여층, 어라인먼트 문제가 동일하게 존재함.가열식 (Thermal-type)Nano Imprint Lithography

  리포트 | 26페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.02.18

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  e-beam lithography

  Lithography(2/5)E-beam lithography 원리자료출처 : 고려대학교 공동실험실(http://elc.korea.ac.kr/top7.html)E-Beam Lithography ... ://www.nmaker.ru)E-Beam Lithography(5/5)Purpose To convert any SEM into an e-beam lithograph. ... Lithography의 응용 E-beam lithography Next generation lithographyLithography란?

  리포트 | 19페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.06.25

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  (특집) 포토공정 심화 정리16편. EBL, FIB 노광기법

  - 전자빔(E-beam)을 광원으로 이용한 Lithography- 전자가 입자성을 띄고 있어 부딪히면 이리저리로 튄다. ... - 응용 : Very high resolution lithography / Mask 제작- E-beam resist : PMMA를 주로 사용 → PMMA 대체하는 물질로 ZEP도 일반적으로 ... * FIB(Focused Ion Beam)- Ion beam : EUV, X-ray, E-beam 보다 더 짧은 파장(펨토미터 단위)- 주로 Ga+갈륨이온 이온빔을 조사에 사용- Writing

  리포트 | 3페이지 | 2,000원 | 등록일 2021.08.16

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  A+ 박막의 패터닝 실험 예비보고서

  삼극 평면 식각장치 (Triode Planar Reactor)(f) 이온 빔 식각장치 (Ion Beam Etcher)㈁ 습식 식각- 이 공정은 반도체 공정에서 가장 광범위하게 사용되어지는 ... 여기서 중요한 점은 식각의 속도를 알맞게 조절하기 위하여 완충용액의 농도와 웨이퍼를 담근 시간, 그리고 온도를 적절하게 맞추어야 한다는 것이다.E) P-N 접합이란? ... 최종검사성형된 칩의 전기적 특성 및 기능을 컴퓨터로 최종 검사한다.C) Lithography 란?

  리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2020.01.27

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  [성균관대][전자재료실험][A+] 전자재료실험 최종발표 ppt 자료입니다. 많은 도움 되었으면 좋겠습니다.

  (V 0) : 산화막과 접하는 부분에서 역전층 형성 그림 6 C-V 그래프실험 이론 -(4) E-Beam Evaporator : 전자 beam 을 전자석에 의한 자기장으로 유도하여 ... 그림 7 E-beam evaporator실험 과정실험 과정 -(2) Photolithography - 원하는 패턴을 얻기 위한 과정 . ... 순서 : E-beam 으로 Metal 을 증착 – Cleaning – 표면 화학 처리 – PR 도포 – Soft baking – Mask alignment – exposure – development

  시험자료 | 15페이지 | 1,500원 | 등록일 2022.02.06

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  Photoresist processing

  E-beam)에 노출될 수도 있다. ... 큰 에너지차이로 흡수전이가 일어나기 때문에 흡수는 단파장으로 갈수록 혹은 큰 Photon에너지일수록 잘 일어난다.· E-beam 방법Photoresist는 electron beam( ... 높은 에너지대의 파장으로 갈수록 E-beam에 의해 변이가 일어나게 된다. 이 방법은 Photoresist에는 잘 쓰이지는 않는다.

  리포트 | 4페이지 | 3,000원 | 등록일 2021.01.18 | 수정일 2023.01.12

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  (특집) 포토공정 심화 정리7편. Mask(Reticle)이란

  - Photomask 제조 공정 : 반도체 Wafer의 Lithography 공정과 유사합니다.( Using e-beam lithography )? ... - Wafer에 전사될 Pattern의 원형이라고 할 수 있습니다.- Mask : Wafer Pattern의 비율은 사용하는 설비에 따라 다릅니다.1:1 비율 mask, 축소 mask ... * PHOTOMASK 재질 및 제작 방법- Blank mask : Photomask의 원재료를 말하며, Patten이 형성되기 전의 mask입니다.- Blank mask 요구사항1)

  리포트 | 5페이지 | 2,000원 | 등록일 2021.08.16

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  부산대학교 MEMS 실험 3 (박막형 반도체 가스센서) 결과 보고서

  실험 장비1) Spin Coater2) Mask Aligner(MDS-400S)3) Thermal & E-beam Evaporator4) DC/RF Magnetron Sputter5 ... Alignment & Exposure4l Evaporation을 사용한 이유는 Al을 증착할 때 E-beam 방법을 이용하면 Al에 Damage가 생기기 때문이다.이 실험에서는 텅스텐 ... PR제거(Development)① AZ Developer를 이용하여 60초간 Development 시킨다.② DI water을 이용하여 두 번 씻어낸다.(2) E-beam Evaporation

  리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2020.05.17 | 수정일 2023.05.10

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  숭실대 Metal strain sensor 제작 및 성능 분석 결과레포트

  결과Photo lithography 과정은 저번 실험에서 진행하였기 때문에 이번실험에서는 Ecoflex monomer 와 crosslinker를 1:1로 섞고, E-beam Evaporator로 ... (180 sec)⑤ Development(현상)샘플을 AZ 400K Developer를 통해 노광된 PR부분을 현상한다. (5 min)⑥ Metal deposition(메탈 증착)E-beam ... -Sample A의 저항은 기울기의 역수이기 때문에, R = -10^6/9 이다.-Sample B의 저항 또한 기울기의 역수이기 때문에, R = -1*10^5 이다.

  리포트 | 4페이지 | 2,500원 | 등록일 2022.10.05

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  기계공학응용실험-MEMS기초

  이러한 리소그래피(lithography) 기술에 의한 상의 재현(pattern transfer)이 대부분 마이크로가공 기술의 기본이 되고 있다. ... - 리소그래피는 마스크에 그려져 있는 제작될 마이크로머신의 평면 형상을 실리콘 웨이퍼상에 옮겨놓는 사진작업을 의미한다. ... (e) 다음, 이 PR을 차단재로 아래 부분의 산화막층을 에칭(etching)한 후, PR을 제거하면 마스크의 상이 결국 산화막층의 상으로 마스크의 상과 같은 모양이 웨이퍼 위에 만들어진다

  리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2020.08.11

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  논문 Soft lithography for micro- and nanoscale patterning 을 한국어로 번역 및 요약한 내용.

  (ii) REM은 e-beam에 민감한 물질 이외의 다양한 중합체로 작업 할 수 있다. ... micromolding (SAMIM), phase-shifting edge lithography, nanotransfer printing, decal transfer lithography ... 바이오멤스 및 바이오칩 REPORT4Soft lithography for micro- and nanoscale patterning포토리소그래피 (photolithography)는 생물학적

  리포트 | 4페이지 | 2,000원 | 등록일 2020.08.31

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  (특집) 포토공정 심화 정리11편. PR(Photoresist)에대한 이해

  - 파장 흡수도에 따른 분류: Lithography에 사용하는 빛의 종류에 따라 Photo / EUV / X-ray / E-beam 용 PR로 분류합니다.: Photolithograpy ... - Cross-linking PR = Non-photosensitive resin + Photosensitive cross-linking agent + 기타- Polysoprene ... - 자외선을 받으면 PR이 cross-linked polymer 형성- Cross-linked polymer : 화학적 식각 저항력이 우수함?

  리포트 | 8페이지 | 2,000원 | 등록일 2021.08.16

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  SK하이닉스 양산기술 합격자소서 + 면접 복기 (21년 상반기)

  특히 나노 fabrication에서 배운 Phoenix(Photo, E-beam, Nano imprint, Ion-beam, X-ray Lithography)를 통해 반도체 공정에 ... 하이닉스 - 양산기술 or 공정1. 자발적으로 최고 수준의 목표를 세우고 끈질기게 성취한 경험에 대해 서술해 주십시오. ... [분석력, 문제 해결 능력 - 5mm의 치수 결함, 원인 리스트로 해결하다]양산기술 엔지니어가 가져야 할 핵심 역량은 '문제에 대한 정확한 솔루션을 제공하는 능력'입니다.

  자기소개서 | 6페이지 | 6,000원 | 등록일 2023.03.14

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  [반도체공정실험]Cleaning & Oxidation, Photolithography, Dry etching, Metal Deposition, Annealing(Silcidation)

  실험 과정1) BOE용액과 DI water를 사용해 Si 기판을 세정한다.2) E-beam Evaporator를 이용하여 NI을 증착시킨다.① Metal source(Ni)를 Boat에 ... 있는 사각형의 유리판)와 시료를 25～125m 정도 공간을 둔 후 2초 간 노광한다.7) 노광이 끝난 후 시료를 TMAH 용액에 1분 30초 간 담가서 현상한다.8) Photo lithography ... FE-SEM으로 찍은 이미지를 보면 왼쪽 편의 사진이 예상대로 7분일 때 가장 깊은 것으로 나타났다.

  리포트 | 19페이지 | 5,500원 | 등록일 2022.09.17

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  SK하이닉스 소자 직무 합격 자기소개서 (2)

  그리고 반도체 공정을 더 자세히 이해하기 위해 한 학기 동안 Clean Room에서 교내 근로를 하면서 E-beam lithography, LP-CVD 등과 같은 학교의 첨단 장비들이 ... -자발적으로 최고 수준의 목표를 세우고 끈질기게 성취한 경험에 대해 서술해 주십시오 (본인이 설정한 목표/ 목표의 수립 과정/ 처음에 생각했던 목표 달성 가능성/ 수행 과정에서 부딪힌 ... 또한, 매일 방진복을 입고 평소 전공 공부를 통해 사진으로만 배웠던 장비들을 직접 만지며 Wafer를 세척하고 ITO나 Ag를 Patterning하여 터치패널을 만들거나 Spin-coater

  자기소개서 | 4페이지 | 3,000원 | 등록일 2023.02.06

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  반도체디스플레이실험 연세대 최종 레포트

  그래프로 분석해보면 패턴들의 폭이 일정함을 볼 수 있다.그 다음으로 E-beam lithography를 살펴보면 이는 전자선 리소그래피로 빛의 종류에 따라서 큰 패턴부터 나노 단위까지 ... Hybrid solution을 만들고 spin-coating을 거쳐서 박막 위에 도포를 하여 thin-film을 완성한다. ... Solvent를 날리려면 용매의 끓는점을 생각해야 하는데 2-Methoxyethanol의 끓는점은 1204도 정도이다.

  리포트 | 18페이지 | 7,000원 | 등록일 2022.11.09

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  어플라이드 머트리얼즈 서류 합격 자소서

  lithography patterning을 통해 수율 을 높이는 연구를 진행하게 되었습니다.e-beam lithography patterning의 width를 줄이려면 e-beam ... 실험 결과 width는 기존의 44nm의 크기에서 33nm로 줄일 수 있게 되었고 또한 etching 공정 시 mask 역할을 할 수 있는 e-beam lithography에 성공 ... 뛰어난 실력과 믿음이라는 신뢰가 뒷받침 되어야 진정한 성공이라고 생각하기 때문입니다.저는 석사과정 동안 반도체 공정에 관련된 연구를 하며 E-beam lithography, Dry

  자기소개서 | 2페이지 | 3,000원 | 등록일 2019.06.05

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  매그나칩 반도체 서류 합격 자소서

  SET(Single-electron-transistor) 제작에 참여하여 된 저는 SEM을 이용한 E-beam lithography를 이용한 40nm크기의 gate mask를 제작 ... 하지만 E-beam lithography 공정에서 40nm의 크기로 제작한 선배도 없었으며 제작이 까다로웠습니다.공정 조건을 연구하는 과정에서 포기하고 싶은 생각도 들었지만 열정을

  자기소개서 | 2페이지 | 3,000원 | 등록일 2019.06.05

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  MEMS관련 기술 논문 분석

  (d) de-molding. (e) Cr tilted E-beam evaporation on the resist pattern. ... 필름 몰드를 사용하여 가압 3bar, UV 180sec 조사 및 나노임프린트를 진행하여, depth~150nm, 300nm 의 주기를갖는 hole 패턴과 line 패턴을 만들고, E-beam증착기를 ... (f) isotropic plasmaetching, (g) Ti/Au E?

  리포트 | 2페이지 | 1,000원 | 등록일 2018.11.22

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  전자빔 리소그래피!!

  현재 전자빔 리소그래피 기술은 기존의 e-beam lithography, probe lithography 등과 같은 serial-process가 아니라, e-beam projection을 ... 특히, parallel process에 의한 electron beam lithography 기술은 소위projection e-beam lithography 기술로 통칭하여 부르는 기술로서 ... 전자빔 리소그래피기술(e-beam lithography)전자빔 리소그래피기술은 전자선 감광제를 도포한 시료 면에 전자빔을 조사하여 감광제재를 구성하는 고분자를 결합 또는 절단하여 시료

  리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.05.28

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