[공학기술]플라즈마의 첨단기술 응용

소개글

플라즈마의 정의 및 최신응용 분야, 공정과정, 향후개선방햐으이 고찰.

목차

1.플라즈마의 정의 및 응용분야
1)플라즈마의 정의

2)플라즈마의 상태
3)플라즈마의 열적 성질
4) 플라즈마의 화학적 성질
5)플라즈마의 물리특성
6)플라즈마의 응용
*플라즈마에칭이란?
* Etching 공정 (dry etching)*CVD
*PACVD
*PECVD
*PSII
2.종래 기술
3.플라스마 에칭 공정
4.문제점 & 향후개선방향

본문내용

1)플라즈마의 정의
물질의 상태는 고체, 액체, 기체, 플라즈마 상태(제 4의 상태)가 있다. 물질 중 가장 낮은 에너지 상태는 고체이다. 이것이 열(에너지)을 받아서 차츰 액체로 되고 그 다음에는 기체로 전이를 일으킨다. 기체(GAS)입자, 즉 기체분자나 원자에 에너지가 가해지면 (일반적으로 가속된 전자의 충돌에 의해서 에너지가 전달된다) 최외각 전자가 궤도를 이탈함으로써 자유전자가 되어 양전하를 띄게 되는 분자 혹은 원자와 음전하를 갖는 전자가 생성된다(이온화 과정). 이러한 양전하의 이온과 전자들이 다수가 모여 군집 활동을 하며, 전체적으로 전기적인 성질이 중성으로, 즉 이온들의 수와 전자들의 수가 거의 같은 수로 존재하는 경우(준 중성 상태), 이를 플라즈마라 정의한다. 따라서 전자 혹은 이온빔은 하전 입자들의 모임이나 플라즈마라 정의 할 수 없다. 일반적으로 산업용 플라즈마에서 이온화율 즉 실제 플라즈마는 전체에 1%미만으로 통상 사용하는 플라즈마 내에는 이온, 전자, 중성입자(99%)가 있게 된다.

참고 자료

없음