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"음극스퍼터링" 검색결과 181-200 / 227건

  • [공학]디스플레이 재료및 공정
    CVD법은 화학반응의 응용이며 막형성의 추진력은 온도이지만, PVD법은 스퍼터링 등의 물리현상을 응용한 것이다.아래 도표는 PVD법과 CVD법의 비교이다.< PVD법과 CVD법의 비교 ... ①이온을 이용하지 않는 진공증착(evaporation), ②이온을 이용하는 스퍼터링(sputtering), 이온플레이팅(ion plating), 이온주입(ion mplantation ... 따라서 다음과 같이 이온화율을 증가시키는 여러가지 방법이 제안되고 있다.① 기판(substrate)근방에 열음극을 설치하여 이것으로부터 발생하는 열전자를 증발원자에 충돌시켜 이온화시키는
    리포트 | 33페이지 | 2,500원 | 등록일 2006.02.22
  • RF Magnetron Sputtering
    open - Torbo pump 작동진공깨기,시편넣기분위기 조절진공잡기Substrate unit and shutterFet RF plasma generatorSputtering off스퍼터링 ... 충돌 할 때 Suface에서 incoming되는 atome의 수 Ion energy가 증가함에 따라 증가하고 음극에 충돌하는 원자수는 전류밀도에 비례입사되는 energy의 질량,입사각과 ... sputter gunIonEtch-GenAtomic Hydorgen sourcee-fluc mini electron beam evaporatorSputter yield하나의 양이온이 음극
    리포트 | 35페이지 | 2,000원 | 등록일 2007.04.20
  • 박막증착
    PVD기술은 크게 진공증착법과 스퍼터링법으로 나눌 수 있다.2.2.1 물리적 증착법물리적 증착에는 진공증착, 이온도금 및 sputtering이 있다. ... 셋째, sputtering은 glow전에서 생성된 양극가스이온이 타겟인 음극에 충돌하여 원자들을 기상화하여 기판에 도금시키는 방법으로 고체의 승화로는 비효율적인데, 금속 표면에서 50eV에
    리포트 | 9페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.06.27
  • [무기화학]CNT(탄소나노튜브)
    합성하기 위해 반응기체로써 C2H2, CH4, C2H4, C2H6, CO 가스를 사용하며, 촉매금속은 Si, SiO2 또는 글라스 기판위에 Fe, Ni, Co 등의 금속을 열증착법이나 스퍼터링법으로 ... 이렇게 음극에서 응축된 탄소덩어리에는 탄소나노튜브와 탄소 나노 파티클(particle) 그리고 비정질 탄소덩어리가 포함되어 집니다. ... 이때 전자의 충돌에 의해서 양극의 탄소막대에서 떨어져나온 탄소 크러스트들은 낮은 온도로 냉각되어 있는 음극의 탄소막대 표면에 응축됩니다.
    리포트 | 16페이지 | 5,000원 | 등록일 2006.05.19 | 수정일 2020.07.26
  • [공학]전자재료
    특수전자총(HCD 전자총)을 사용하여 플라즈마 전자빔에 의해 물질을 증발시키면서 동시에 이온화하는 HCD법(hollow cathode discharge법).⑦ 증발물질의 금속을 음극타겟트로 ... 현재 행하여지고 있는 전처리로는 유기용제나 기타 약품에 의한 초음파세정, Ar이온에 의한 스퍼터링 등이 있다.또 중간막을 이용하는 것도 밀착성 개선에 효과적인 수단이다. ... conductivity)우수한 밀착특성 (Excellent adhesion)PVD법을 크게 분류하면① 이온을 이용하지 않는 진공증착(evaporation), ② 이온을 이용하는 스퍼터링
    리포트 | 17페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.04.10 | 수정일 2024.01.14
  • 제3장 박막 트랜지스터(TFT)
    음극표면에 증착시킬 target 물질을 장착하고 증착물질의 특성에 영향을 주지 않는 He, Ar 과 같은 불활성 기체를 이용하여 양극에 놓여진 기판 위에 튀어나온 target 물질이 ... 검사 공정 완료 후 이상 유무를 확인 .자외선에 노출되지 않은 부분 자외선에 노출된 부분 자외선에 노출되지 않은 부분은 남는다 자외선에 노출된 부분은 제거게이트 금속을 스퍼터링 (sputteing
    리포트 | 43페이지 | 3,000원 | 등록일 2008.10.22
  • 전자주사현미경(Scanning Electron Microscopy)
    따라서, 세라믹이나 고분자 등의 부도체시료는 탄소막의 진공증착이나 금-팔라듐을 스퍼터링(sputtering)하여 전도성 코팅을 하여야 한다. ... 이때 전자총의 음극 바로 밑에서 전극 코일을 통해 X-Y축방향으로 적당량을 편향하여 집속렌즈의 축에 일치하게 하는 기능을 말한다.4. ... 전자선이 조사될 때 후방 산란 전자(back scattered electron), 2차 전자(secondary electron), X선, 음극 형광 등이 발생된다.
    리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.06.03
  • [표면처리] 진공펌프
    티타늄 음극안으로 가속되는데 이 충돌은 스퍼터링을 일으키거나 티타늄 음극물질을 조각내어 떨어지게 한다.스퍼터링된 티탄늄은 펌프의 내부구조에 증착되는데 거기에서 기체분자와 화학 결함을 ... 이온화된 분자들중 몇 개가 음극안에 묻히게 될만큼 충분히 큰힘으로써 음극과 충돌한다. ... 스퍼터링이라고 한다.이온펌프는 움직이는 부품이나 오일을 사용하지 않는 전기장치이며 그 시스템을 밤새워 백 아웃하여 고진공의 압력을 얻는 것이 가능하다.연구분석에 응용에 있어서 이온펌프의
    리포트 | 13페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.01.05
  • [반도체]플라즈마, 진공, 펌프
    음향기기등 새로운 응용 분야가 활발히 개척되고 있다.또한 공구의 내마모 코팅, 장식용 코팅, 반도체 소자의 제조시 접점에서 확산장벽으로 이용되는 TiN은 Ti의 반응성 이온 플레이팅이나 스퍼터링 ... 방전을 지속시키기 위해 필요한 전자의 공급원으로는 전자가 중성 입자에 충돌되어 일어나는 전리에 의한 것, 이온이 음극에 충돌되어 발생되는 2차 전자의 방출, 음극가열에 의한 열전자 ... 방출, 빛을 음극에 조사하여 방출된 광전자에 의한 것 등이 있다.
    리포트 | 43페이지 | 3,000원 | 등록일 2006.05.16
  • pvd와 cvd
    따라서 Si가 약 1wt% 함유한 Al을 써서 증착하면 얕은 접합을 파괴하지 않을 수 있다.Sputter증착은 Ar이온을 전장으로 가속하여 음극의 피증착물에 충돌시켜 뛰어나간 물질을 ... 공구에 적절한 수준의 코팅을 얻기 위해서는 코팅 장치의 고진공 문제, design, 모재의 적합한 표면상태, 코팅 조업의 software 등이 중요합니다.PVD에 해당하는 증착법에는 스퍼터링
    리포트 | 5페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.09.28
  • Electroless nickle-phosphorus plating on SiCP/Al composite from acid bath with nickel activation
    ; 화학변화를 이용하여 금속 또는 비금속 표면에 다른 금속의 피막을 만들어 주는 방법 도금의 종류 ; - 전기 도금, 무전해 도금, 용융도금, 침투 도금, 금속용사, 화학 증착, 음극 ... 스퍼터링, 진공 증착 도금 – 치환도금, 화학 환원 도금 무전해 도금액의 구성 성분 ; 주성분 (금속염, 환원제) 보조성분 (착화제, 촉진제, 안정제)Catalytic surface
    리포트 | 20페이지 | 2,500원 | 등록일 2008.07.25
  • [반도체재료] 박막증착
    원통형 마그네트론은 판형의 이런 단점을 해결하게 설계된 것으로 전자가 원통형 음극을 싸고 있는 플라즈마내에 잔류하게 하여 음극이 거의 균일하게 마모되도록 한다.마그네트론 스퍼터링은 ... 때까지 불어넣고, 표적재료에 높은 부전압(-500∼-5000V)을 걸어 음극으로 만든다. ... 그러나 이온 집중이 플라즈마 환을 형성하여 음극마모가 심하고 표적재료가 많이 소모되는 단점이 있다.
    리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2002.05.10
  • pvd,cvd
    PVD (Physical Vapor Deposition)PVD에 해당하는 증착법에는 스퍼터링 (Sputtering), 전자빔증착법 (E-beam evaporation), 열증착법 ( ... 따라서 Si가 약 1wt% 함유한 Al을 써서 증착하면 얕은 접합을 파괴하지 않을 수 있다.Sputter증착은 Ar이온을 전장으로 가속하여 음극의 피증착물에 충돌시켜 뛰어나간 물질을
    리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.12.09
  • [PDP]PDP정의,특성,작동원리,종류,제조공정소개
    음극과 양극에 전압을 가하면 씨앗전자가 전기장에 의한 가속을 받게되고, 가속된 전자들은 충돌을 통해 주위의 중성입자를 이온화시키게 되며, 이온화를 통해 얻어진 이온과 자유전자들 역시 ... MgO보호막은 PbO유전층을 이온의 스퍼터링으로부터 보호하여 주며, 또한 방전시 낮은 에너지의 이온이 표면에 부딪혔을 때 비교적 높은 이차전자 발생계수의 특성을 가져 방전 플라즈마의 ... 방전을 막기 위해 방전 셀 간을 분리하는 격벽(Barrier)을 설치하여 Panel 구조가 복잡하다.- DC형 구조는 각 셀이 격벽에 의해 독립되어 있고, 전후면 Panel에 양극과 음극
    리포트 | 16페이지 | 5,000원 | 등록일 2005.07.08
  • [공학]Thermal Evaporation법을 이용한 발광박막의 제조-알루미늄(Alq3)
    있다.⑵ 0.1eV 정도의 낮은 에너지로 기판에 손상을 주지 않는다.⑶ 고진공이므로 순수한 박막을 얻을 수 있다.이에 반하여 진공 증착은 다음과 같은 문제점들을 내포하고 있다.⑴ 스퍼터링에 ... 유기 전계발광 소자의 기본구조유기 전계발광 디스플레이 소자는 유기 발광재료를 음극과 양극사이에 여러 층의 유기재료를 샌드위치로 형성된 구조로 되어 있다. ... 화가 가능하므로 EL에 대한 연구가 활발히 진행되고 있으며 이들 연구에서 해결되는 문제들은 디스플레이 개발에 직접 응용될 전망이다.유기 전계발광 소자는 발광성 유기화합물을 양극과 음극사이에
    리포트 | 9페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.01.03
  • [방막공학] 박막제조
    방법이다.a Sputtering의 원리Sputtering은 진공 중에서 불활성 기체 (주로 Ar, Kr, Xe 등)의 글로 방전(Glow discharge)을 형성하여 양이온들이 음극 ... 스퍼터링된 원자들은 운동량 전달에 의해 비교적 높은 운동에너지를 가지므로 기판 표면에서 증착층을 형성할 때 열역학적으로 안정한 위치로 표면확산이 일어나게 되며, 따라서 치밀한 조직을 ... 스퍼터링 공정에서의 증착n은 금속재료를 증착시키기 위해 고진공(5x10-5 ~ 1x10-7torr)에서 전자빔이나 전기 필라멘트를 이용해 보트를 가열하여 보트위에 금속을 녹여 증류시키는
    리포트 | 7페이지 | 1,500원 | 등록일 2005.06.04
  • SBT 박막제조와 누설전류, 정전기용량 측정 결과 보고서
    플라즈마에 노출시키고 장비의 아래에 음극을.. ... 가열중(온도 70°)세 정 중세정이 끝난후의 시편③ RF/DC Magneton Sputter (2개의 DC, 1개의 RF)Ti 증착 : DC Sputtering 두께 400Å 상향 스퍼터링 ... 위쪽에 양극으로 전극을 걸어주게 되면 음극에서 나온 전자는 아르곤 가스를 이온화시키고 인력으로 밑으로 내려온 아르곤 가스는 타켓을 때리게 되는데 이때 타켓이 스푸터링 되어 기판에 증착되게
    리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.11.20
  • [자연과학](고급물리학 실험) Vacuum Evaporation
    증발과정이 열교환 과정이라는 점이 스퍼터링법과 다른 점이기는 하지만 이렇게 하여 만들어진 박막을 진공증착박막이라 한다. ... TV나 모니터 등에 사용되고 있는 진공관은 음극관에서 나온 전자가 충돌로 인하여 스크린에 도달하지 못하는 것을 방지하며 대형 입자 가속기에서도 같은 이유로 높은 진공도가 필요한 것이다
    리포트 | 20페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.05.04
  • 박막의 증착 실험
    음극스퍼터링(cathode sputtering)고체의 표면에 고에너지의 입자를 충돌시키면 target 물질의 원자가 완전탄성충돌에 의해 운동량을 교환하여 표면에서 밖으로 튀어나오게 ... 박막 증착에서 sputtering이라 하면 target 원자의 방출과 그 원자의 substrate에의 부착이라는 2가지 과정을 포함하는 개념으로 볼 수 있다.1 직류스퍼터링(DC sputtering ... 간단하고, 대전류가 얻어지며, 수명이 긴 LaB6-Ta의 복합음극을 개발하여 방전플라스마류(流)를 만들어 전자빔 대신 플있다.
    리포트 | 11페이지 | 1,500원 | 등록일 2004.09.29
  • PDP와VFD
    스퍼터링법은 인라인 제조 프로세스에는 유리하나 MgO 박막의 형성속도가 전자 빔증착법보다 1/10정도 느린 단점이 있다 이에 증착공간에 플라즈마를 발생시킴으로써 MgO를 용사하여 MgO ... 기본적으로 전면과 배면 유리 및 격벽에 의 해 밀봉된 가스에다 음극/양극에 의해 전압을 가해 네온 발광을 일으켜 이 발광을 표시에 이용하는 것이다. ... 원리 및 구조PDP(Plasma DIsplay Panel)는 전면유리와 배면유리 및 그 사이의 칸막이에 의해 밀페된 유리사이에 Ne+Ar , Ne+Xe 등의 가스를 넣어 양극과 음극
    리포트 | 9페이지 | 1,500원 | 등록일 2006.10.17
  • 아이템매니아 이벤트
  • 유니스터디 이벤트
AI 챗봇
2024년 09월 16일 월요일
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- 작별인사 독후감
방송통신대학 관련 적절한 예)
- 국내의 사물인터넷 상용화 사례를 찾아보고, 앞으로 기업에 사물인터넷이 어떤 영향을 미칠지 기술하시오
5글자 이하 주제 부적절한 예)
- 정형외과, 아동학대