"Photo-lithography" 검색결과 181-200 / 255건

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  SiO2 박막의 식각 및 PR 제거

  고집적화 (submicron device)로 게이트 산화막의 두께가 6 nm 이하로 줄어들어, 플라스마 손상은 디바이스의 신뢰성을 저하시키는 패터닝이 갈수록 앏아지기 때문이다.Photo-Lithography공정 ... 실험절차(1) 산화막(SiO2)의 패터닝(patterning) - Lithography 공정 (조교가 수행)(2) 패턴된 산화막의 표면 색깔과 패턴 모양 관찰 - 광학 현미경 사용( ... 개념도(1) Lithography의 종류DUV 광원은 200㎚ 또는 그 이하의 CD 선 폭을 인쇄하기 위해서 사용된다.

  리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.09.19

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  반도체 처음부터 끝까지

  (Lithography)감광액(Photo Resistor) 도포 노광(Exposure) 현상(Development) 식각(Etching) P/R 제거Overview of Semiconductor ... Lithography C. Etch D. Ion Implantation E. ... Lithography C. Etch D. Ion Implantation E.

  리포트 | 53페이지 | 4,000원 | 등록일 2008.05.20

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  FED 자료조사

  전자 방출이 좋은 Emitter재료와 FED전용 형광체 개발 고해상도 photo lithography 기술개발 (대형기판 취급가능) 휘도 향상 (고전압을 걸면 가능하지만 수명 단축 ... 특성(3)Spacer 재료가 요구하는 조건 - 기계적인 강도 - 눈에 보이지 않는 작은 크기 - 고진공에서 사용 가능한 절연 재료*Mental Retardation*FED의 재료적 ... 특성(4)형광체(phorsphor) 재료 -저전압 효율과 고전류에 의한 안정도가 커야*Mental Retardation*FED의 특징CRTFEDCathodoluminescence에

  리포트 | 19페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.11.09

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  리소그래피

  가격을 낮추기 위해서 어떻게 하면 값싼 공정으로 이어질 수 있을까 고민하는 것 이다.빛으로 모양을 그릴 때 빛을 받은 부분이 굳어지고 다른 부분이 현상(녹음)되면 negative(-) ... 그게 미세한 회로 단위로 작아졌다 보면 된다.(2)소프트 리소그래피 : 기존의 photo(광학) 공정이 고가인데다가 고 에너지 등이 요구되고 빛의 산란으로 나노 단위 미세 패턴 성형에는 ... 이를 극복하기 위해 나온 방법이 soft Lithography 이다.

  리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.07.19

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  [과제물]MEMS 논문 요약 6

  이외에도 X-ray 자체의 퍼짐 특성, 흡수체 패턴이 치수변화, X-ray에 의한 photo electron 효과 등이 원인이 있을 것으로 보인다. ... multiple X-ray mase LIGA, micro- assembly, rotated/inclined deep X-ray lithography(DXL), moving mask ... Deep X-ray를 이용하여 수직으로 삼각기둥의 모양을 패턴한 후, 부가적인 마스크의 필요 없이 X-ray를 특정한 각도로 기울여 노광하게 되면 남아있던 삼각기둥 중에 X-ray에

  리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.10.05

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  품질경영혁신 사례분석 - 삼성 LDI 사례를 중심으로(6시그마)

  즉, W/F위에 규정된 형상(PATTERN)을 얻기 위한 사진 식각(PHOTO-LITHOGRAPHY)기술 중 SILICON BARE W/F 혹은 특정 FILM이 입혀진 W/F위에 ... /WF) *44.243매 * 12개월 * 1100원(개선 전 제조원가 -개선 후 제조원가) *생산량원가 절감생산성향상LDI PHOTO 생산성 향상금액산출식목표이익효과 산출기준측정항목성과목표 ... 순임Function Development Matrix문제제기 LDI 제품과 LSI제품은 PHOTO 공정 시간에 차이가 있는가?

  리포트 | 41페이지 | 3,000원 | 등록일 2008.12.01

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  [공학]반도체 공정중 포토 공정

  Report- 에너지 신소재 실험과 목 :에너지 신소재 실험담당교수 :정승부 교수님학 부 :신소재 공학부학 번 :성 명 :* 포토 리소그래피 (Photo Lithography)- 리소그래피 ... *포토 레지스트 (Photo Resist)- 리소그래피 공정에서 사용되는 화학 재료 중 핵심에 해당하는 것으로서 설계된 반도체 회로를 기판위에 전사할 때 특정한 파장에 따라 달리 감응함으로써 ... (Lithography)라고 한다면 반도체 집적회로를 반도체표면에 그리는 방법 및과정을 통칭한다.

  리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.12.25

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  [재료공학실험, 반도체]Lithography

  또 카메라는 반사 렌즈 성분을 사용해야만 하고, 반사경들과 공마스크 부분은 다층 코팅 되어야만 하는 어려움이 있다.3.X-ray Lithography (X선 리소그라피)X-ray Lithograph는 ... Lithography / 리소그래피Lithography(리소그래피)는 반도체 집적 회로를 반도체표면에 그리는 방법 및 과정을 통칭하며, 초미세 인쇄 기술이라 말할 수 있다. lithography ... 시킨 후 일정온도에서 baking하여 PR의 용제(solvent)를 기화·제거 시켜 단단하게 만드는 과정을 말한다.PR(photoresist)이란 특정 파장대의 빛을 받으면(노광:photo

  리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.06.28

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  Soft Lithography 와 그의 특징, 종류 및 장․단점,PDMS 물질의 장·단점

  최근에는 mr-I 8000TM및 mr-I 9000TM과 같이 NIL 전용 열가소성 수지 및 열 경화성 Photo Resist를 판매하고 있다. ... Soft Lithography- Soft Lithography와 그의 특징, 종류 및 장?단점에 대하여 조사- PDMS 물질의 장? ... 단점에 대하여 조사- PDMS 물질을 대체하기 위해 개발되고 있는 여러 가지 물질에 대하여 조사- Nano imprint Lithography와 Soft Nano imprint Lithography에

  리포트 | 9페이지 | 2,500원 | 등록일 2007.02.21

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  photolithography

  (두께가 감소됨) prebake시 PR내에의 photo active compound와 resin이 균형을 이루고, 현상에서 resist 접착력을 향상시키며, 도포 중 발생한 shear ... 일반적으로 반도체 소자 제조 공정은 박막 증착(CVD, PVD, Oxidation etc), 사진공정(Lithography), 식각공정(Etching)을 반복적으로 수행으로써 설계된 ... - prebake : 증착시키기 전에 미리 열을 가하는 공정120℃에서 1~2분 PR 도포 후에 resist내에 들어 있는 solvent를 70~90% 정도 제거한다.

  리포트 | 5페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.10.19

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  MOS(Metal-Oxide-Semiconductor)

  분당 3.3nm의 속도로 증착이 된다.(3) Photo-lithography(사진식각공정)① 웨이퍼 위에 PR약을 뿌려 5초 동안은 500rpm, 그 뒤 35초간 3500rpm의 속도로 ... 실험결과(1) C-V, I-V curve 그래프SiO2 산화막의 C-V Curve. ... 실험목적산화막 종류에 따른 MOS(Metal-Oxide-Semiconductor)소자를 직접 제작하고, 작동원리를 이해한다.2.

  리포트 | 6페이지 | 2,000원 | 등록일 2009.05.26

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  [예비 / 결과레포트] 유기물을 이용한 마이크로 패턴 제작

  (Put the glass in petri-dish quickly after cleaning.)- Lithography Process(1) PR doping process : Run ... 3 : RPM 2000, 5 sec(2) Soft baking process : Soft bake on heat plate. (120℃, 90 sec)(3) Photo process ... - Preliminary and Final Report -1.

  리포트 | 10페이지 | 1,500원 | 등록일 2009.12.23

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  [공학]박막재료의 표면 처리 및 PR제거

  있다.5.2.1 Photo LithographyPhoto lithography는 광을 사용하여 기판표면에 photo resist를 코팅시키고, etching을 하여 표면을 산화시켜서 ... 실험절차(1) 산화막(SiO2)의 패터닝(patterning) - Lithography공정 (조교가 수행)(2) 패턴된 산화막의 표면, 표면 색깔과 패턴 관찰 - 광학현미경 관찰(3 ... photography, EBL, ion beam lithography가 있고, bottom-up방식에는 nano lithography, DPN, micro contact printing등이

  리포트 | 12페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.09.06

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  반도체 클림룸의 청정화 기술

  클린룸 내에서의 제조 공정 오염물질의 생성1.노광(Photo Lithography)공정공정 설명 : 빛에 의해 Mask상의 기하학적 모양을 반도체 웨이퍼 표면에 도포되어 있는 감광재료 ... 청정기술P.O.U(Point-Of-Use) 저감장치(Abatement)POU장치의 분류 1. Wet Scrubber System 2. ... (Ex)스모크(Smoke), 흄(Hum), 미스트(Mist), 연무(Fog) … -종류-에어로졸반응에어로졸응축에어로졸동종응축이종응축4.청정생산기술반도체 클린룸 배기가스의 오염제어 및

  리포트 | 20페이지 | 3,000원 | 등록일 2011.06.06

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  Soft Lithography

  최근에는 mr-I 8000TM및 mr-I 9000TM과 같이 NIL 전용 열가소성 수지 및 열 경화성 Photo Resist를 판매하고 있다. ... Soft Lithography에는 프린팅 방식의 Microcontact Printing이 있으며, Molding 방식의 Transfer Printing, Near-Field Lithography ... Lithography라고 한다.

  리포트 | 8페이지 | 2,000원 | 등록일 2007.02.21

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  [로봇공학] 로봇시장의 성장과 발전 / 로봇의 종류와 특징

  crystalizationWaferDiffusionEtchingPhoto lithography(mask)Photo lithography(on silicon)AssemblyTestingElectronicsMagnetic ... 1장 [산업용 로봇의 개요]* 로봇의 탄생- 인류는 오래전부터 자신을 대신해서 무엇인가를 해주는 인조인간, 즉 로봇을 만드는 꿈을 추구.- 작품속의 로봇 : 황금의 소녀 로봇, Frankenstein ... *산업용 로봇의 정의- 로봇 용어의 유래 : 20세기초 체코슬로바키아의 희곡작가 Karel Capek의 희곡“Rossum'sUniversal Robots"에서 유래됨.- Robota

  리포트 | 67페이지 | 2,000원 | 등록일 2009.02.22

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  박막의 표면처리 및 식각 실험 예비보고사

  /실험절차/(1) 산화막(SiO2)의 패터닝(patterning) - Lithography 공정(2) 패턴된 산화막의 표면 색깔과 패턴 모양 관찰 - 광학 현미경 사용(3) 패턴된 ... N-type 도핑으로 전기 소자의 특성을 만들어 준다.④화학기상증착(CVD)다시 산화과정 및 Photo, Etch 공정을 거쳐 Field Oxide(FOX) 및 Gate Oxide를 ... 비해 Step Coverage가 좋고, 주로 Poly Si이나 SiO2를 증착할 때 사용한다⑤금속 배선(Metallization)CVD 및 Photo, Etch, CMP 과정을 거쳐

  리포트 | 13페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.06.04

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  반도체 공정[비디오 시청 감상문]

  신소재 공학관 1층에 있는 실험실에서 실험을 하는데 비디오에서 나왔던 공정 중에 lithography, PR(photo resist)...등은 우리가 하는 실험과 거의 동일한 모습이었다 ... 사실 신소재 공학관 1층에서 하는 실험을 통해서 그 원리를 알 수는 있었지만 장비가 다소 현재 실제로 기업체에서 사용하는 것과는 다르다는-다소 뒤떨어진- 생각을 항상 하고 있었기 때문이다 ... 어떻게 보면 우리가 배우는 것의 궁극적인 부분일 수 있는 P-N junction에 대한 설명을 이해할 수 없었기 때문이다.

  리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.06.20

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  [반도체공학]박막 재료의 표면처리 및 식각 실험

  printing등이 있다.photo lithography는 광을 사용하여 기판표면에 photo resister가 코팅시키고, etching을 하여 표면을 산화시켜서 pattern을 ... Top-Down방식에는 photography, EBL, Ion Beam Lithography가 있고, Bottom-up방식에는 Nano lithography, DPN, Micro contact ... 실 험 절 차(1) 산화막(SiO2)의 패터닝(patterning) - Lithography 공정 (조교가 수행)(2) 패턴된 산화막의 표면 색깔과 패턴 모양 관찰 - 광학 현미경

  리포트 | 18페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.02.27

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  [전자공학]ELECTROFORMING기술을 이용한 신재료 개발 및 응용

  레이져로 선택(패턴)부분을 제거하기도 하고 photo-etching이라는 방법을 이용하여 제작하기도 한다. ... Mandrel의 형태에 따라서 도금층의 형태가 달라지며 복잡하고 작고 얇은 형태로도 제조할 수 있다.현재 LIGA(LIthographie Galvanoformung, und Abformung ... 하지만 이러한 기존의 방법은 패턴의 내벽면이 불균일하고 미세패턴의 구현이 어렵다.그래서 electroforming기술과 lithography기술을 응용하면 미세패턴구현과 균일한 내벽면을

  리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.06.12

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