"Photo-lithography" 검색결과 161-180 / 255건

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  실리콘 태양전지의 전면전극 생성 및 이해 예비레포트

  약간 산소 속에서는 빠른 속도로 침투한 것을 알 수가 있다. 100% O2에서 실험을 하게 되면 이러한 전지를 빠르게 생성할 수가 있는 것이다.이러한 전면전극의 형성방법으로는 PL(Photo-lithography ... Pb-Ag합금은 Si-Plane에 피라미드형상을 만들면서 용해된다. 냉각되면서 Ag는 Si-plane에 피라미드 모양으로 결정화된다.c. ... ), BC(Buried-contacts), SP(Screen-printing) 이 있다.

  리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.06.25

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  반도체공정에 관한 작성 문서

  리소그라피기술은 패턴을 형성하는 방법에 따라 광 리소그라피(photo lithography), 전자빔 리소그라피(Electron Beam Lithography, EBL), X-레이 ... 이 공정에서는 마스크에 있는패턴을 photo-lithography 공정을 이용하여 실리콘 wafer 위의 산화막 층으로 옮기는 작업이다.먼저 실리콘 wafer 표면 위에 얇은 산화막 ... 마스크 위의 무늬와 일치하는 것이다.결론적으로, Photo-lithography는 mask 위의 무늬를 silicon wafer 표면 위에 인쇄하는공정이다.■ 에칭(Etching)

  리포트 | 11페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.04.30

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  박막재료의 표면처리 및 식각실험 결과보고서

  실험절차(1) 산화막(SiO2)의 패터닝(patterning) - Lithography 공정 (조교가 수행)(2) 패턴된 산화막의 표면 색깔과 패턴 모양 관찰 - 광학 현미경 사용( ... 마스크 패턴을 제거한 산화막의 표면 색깔과 패턴 모양 관찰 - 광학 현미경 사용5. ... 사용(5) 마스크 패턴의 제거 (O2 plasma ashing) - 플라즈마 ashing 장치를 이용하여 산소 플라즈마를 발생시켜서 적절한 조건에서 마스크 패턴을 제거한다.(6)

  리포트 | 5페이지 | 1,500원 | 등록일 2009.03.20

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  반도체 lithography process (노광공정)

  이때 R(Aryl Sulfonate)이 sensitizer molecule의 용해특성 및 광흡수 특성에 영향을 미치게 된다.Develop 용액에 대한 photo-product 용해특성은 ... Lithography Roadmap ────────────────── 51-2. Lithography History ─────────────────── 71-3. ... E-Beam Exposure Tool2-3. X-ray Lithography2-3-1.

  리포트 | 62페이지 | 3,000원 | 등록일 2007.12.04

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  실리콘 반도체의 한계와 대안

  Ultra clean environment축소에 따라 가장 민감한 것이 lithography이며 지금까지는 빛을 사용하여 photo-resistor를 감광시키는 photo lithography ... 이 방법은 shadow mask의 투명한 사이를 빛이 통과하여 photo-resistor를 감광시키는 것인데 이 shadow mask 사이가 sub micron이므로 resolution을 ... 사용해야 될 것으로 예상된다. 1에 여러 가지 lithography 방법과 그 특성에 대해 요약해 놓았다.EnergySpeedFeatureSizeMaskMaturiye-Beam50

  리포트 | 6페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.06.17

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  photo resist

  Photo Resist(1) 감광막( Photo Resist )이란?PR은 빛이나 방사, 열 등 여러 형태의 에너지에 노출되었을 때 내부구조가 바뀌는 특성을 가진 혼합물이다. ... 구체적인 방법은 아래의 그림(Fig1.1)과 같다.Figure 1.1 Negative lithography2) Positive lithographypositive lithography는 ... 많이 사용되고 있다.Figure 1.2 Positive lithography(3) Photoresist 최근 개발 동향1) RET ( 해상도 향상 기술 .

  리포트 | 7페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.10.07

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  Lithography 및 PR, etchant

  그후 1970년대 중반에는 반도체 대량생산에 획기적인 기여를 하면서 Photo Lithography의 기술개발에 전기를 마련한 Stepper의 시대가 시작되었다. ... Develop 용액에 대한 photo-product 용해특성은 Acid ＞ Resin ＞ PAC+Resin compound 순서의 성질을 갖는다. ... LithographyPhoto lithography와 Soft lithography 두종류로 나뉘며, Soft lithography는 고해상도로 가기위해 새로개발한 방법이다.1-1.

  리포트 | 6페이지 | 2,000원 | 등록일 2007.11.06

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  반도체식각실험 예비보고서(공업화학실험)

  LithographyE-beam lithography 기술은 Optical Lithography에 비해 해상도가 높아, Post-optical lithography 기술로써 인식되었다 ... 실험절차(1) 산화막(SiO2)의 패터닝(patterning) - Lithography 공정 (조교가 수행)(2) 패턴된 산화막의 표면 색깔과 패턴 모양 관찰 - 광학 현미경 사용( ... Tape를 컴퓨터가 부탁된 Pattern Generator에 넣으면 미리 준비된 Emulsion plate나 chrome plate 위에 Emulsion 또는 크롬을 입히고 그 위에 photo

  리포트 | 19페이지 | 2,000원 | 등록일 2009.04.01

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  유기물 절연체를 이용한 고성능 플렉시블 박막 트랜지스터

  이렇게 제조된 웨이퍼를 photo lithography 공정을 이용하여 40㎛의 간격, 3㎛의 지름으로 홀 패턴을 형성하였다. ... 금속표면과 반응하는쪽은 -SH 기를 포함하며, PDMS와 반응하는 쪽은 -OH기를 포함하고 있다그림 2 Decal Tranfer Lithography4) ITO (Indium Tin ... 이 연습용 시편 위에 접착제 역할을 하는 HMDS(Hexa Methyl Di Slazane)용액을 스핀 코팅하고, 그 위에 PR(Photo Resist)을 스핀 코팅해준 후, photo

  리포트 | 9페이지 | 2,500원 | 등록일 2008.06.20

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  리소그래피

  LithographyLithography리소그래피(Lithography)의 정의 - 집적 회로 제작 시 실리콘칩 표면에 만들고자 하는 패턴을 빛으로 촬영한 수지를 칩 표면에 고정한 ... , Laser 2) 작업 마스크(working mask) 제작 레티클로 유리판 위에 반복적인 패턴 형성Photo LithographyPR Coating - 필요한 두께의 감광막을 웨이퍼 ... 처리나 확산 처리하는 기술 이 기술의 핵심은 짧은 파장의 빛을 사용하여 정밀도를 높이는 것으로,처음에는 가시광선, 자외선을 사용했으나 최근에는 전자 빔을 사용해 더 미세한 패턴을 만듦Lithography

  리포트 | 19페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.05.30

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  No.5 나노 크기 패턴을 위한 나노 리소그래피(논문형식자료)

  현재 Photo lithography, Electron beam lithography, Ion beam 패턴 기술에 초점을 맞춘 것이 평범하게 사용되고 있다. ... 그 다음 100nm로 positive photo resist인 PFI-88 A6를 도포하였다. ... NIL method(Nano Imprinting Lithography)2-2-1.

  리포트 | 9페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.11.14

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  박막재료의 표면 처리 및 PR제거

  -Photo Lithography-photo lithography는 광을 사용하여 기판표면에 photo resister가 코팅시키고,을 전사하는 방법이다. ... Top-Down방식에는 photography, EBL, Ion Beam Lithography가 있고, Bottom-up방식에는 Nano lithography, DPN, Micro contact ... 실험절차(1) 산화막(SiO2)의 패터닝(patterning) - Lithography공정 (조교가 수행)(2) 패턴된 산화막의 표면, 표면 색깔과 패턴 관찰 - 광학현미경 관찰(3

  리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.10.20

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  반도체공정 레포트 최종

  Photo Album.1. ... 실험 일자.4월 14일 : Lithography4월 28일 : Thermal evaporation5월 12일 : Sputtering6월 3일 : 비저항 측정.2. ... ), Evaporation(금속공정), Sputtering(금속공정) 그리고 비저항 측정에 대해서 실험을 통해서 알아보았다.1) Photolithography어떤 특정한 화학약품(Photo

  리포트 | 21페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.01.25

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  반도체 공정과 리소그래피 개요

  Photo Lithography반도체 (집적회로) 공정1단계 : 단결정 성장2단계 : 규소봉 절단3단계 : Wafer 표면 연마4단계 : 회로 설계5단계 : Mask 제작6단계 : ... beam lithography X-ray lithography Ion beam, Nano imprint, Dip-penMercury vapor arc lampOptical lithography높은 ... lithographyNon-Optical Lithographyλ=0.7~2nm 빠른 공정, 고해상도 구현 가능 반사, 분사, 회절의 영향이 적음 (∵ X-ray의 파장이 짧기 때문

  리포트 | 27페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.01.18

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  박막적용소자제조회사 조사

  LOZIX : LOZIX high는 반도체 제조 공정 중 lithography lmmersion 공정의 특화된 기능을 탑재하여 최고의 공정 성능을 보장 할 ... FPD 제조장비는 전(前)공정장비로 Photo Full line을 비롯하여, Inline Etcher/Stripper, 세정기(PFC外) 등이 있으며 후(後)공정장비로 셀공정의 Scriber ... 소자 제조업체의 개요 및 생산제품1) 개요회사명 : Sony Coroporation설립일 : 1946년 5월 7일본사 : 1-7-1 Konan, Minato-ku, Tokyo 108

  리포트 | 10페이지 | 3,500원 | 등록일 2012.05.05

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  oled AM PM 방식 보고서입니다

  선형패턴을 가진 음극전극을 형성하는 것이 필요하다.유기재료의 특성상 일반적으로 Wet Etching 공정이 적용되기 어려운 점을 감안하여 ITO 양극전극 위에 유기물을 적층하기에 앞서 Photo-Lithography를 ... Transistor)를 집적화시켜 각 화소가 완전하게 On-Off되고, 아울러 화소 전류를 일정값으 로 유지시킴으로써 Contrast, 소비 전력 등을 향상시키는 방식을 능동 구동이라 ... 의한 Cathode Separator 형성 및 Cathode Patterning* AM 방식PM 문제점을 해결하기 위하여 [그림 가]에 보인 바와 같이 각 화소에 TFT(Thin-Film

  리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.05.12 | 수정일 2019.01.14

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  [디스플레이]전자종이

  Micro-wall의 재료를 선택함에 있어서, 제조공정에 따라 photo- lithography의 경우에는 UV 경화성 고분자로 제한이 되지만, soft- lithography의 경우에는 ... 제조방법 또한 일반적인 반도체공정에서 이용하는 photo-lithography로도 제작 가능하지만, 대면적화/대량생산을 위해서는 soft lithography 또는 imprint- ... Photo-lithography에 비E-beam 레지스트와 Cr이 도포된 마스크를 E-beam을 사용하여 패턴을 전사한 후 E-beam 레지스트를 현상하고 Cr층을 에칭 한 후 잔여

  리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.06.12

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  3D패키징 실험

  전기적 특성 측정◎2주차(9월 29일)1.목표Cu-Ti로 sputtering한 wafer에 Photo lithography의 일부인 PR-coating->노출(Exposing)-> ... 이론◎ Photo lithograpy란? ... 설계 제목- 3D Packaging의 전기적 특성 향상.2.

  리포트 | 8페이지 | 2,000원 | 등록일 2010.10.08

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  재료공학실험 ( 재료의 산화실험( SiO2 ) )

  반도체 공정중 Oxidation 사용분야- 반도체의 단 위공정광학처리(photo-lithography), 산화막형성(Oxidation), 불순물주입(Ion implantation), ... 산화가 다시 시작될 때, 성장 속도에 영향을 주지 않는다.- 할로겐의 첨가는 실리콘의 열산화 속도를 가속시킨다.습식산화 건식산화- 성장률비교- 단시간에 두툼한 산화막이 필요하면 습식 ... - 습식산화가 건식산화보다 빠르다.

  리포트 | 2페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.07.01

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  공학재료와 거동학 Project-모바일,폰

  산화주석 막은 ITO막보다 물리적 강도, 화학적 안정성이 우수하지만 도전율이 ITO막보다 떨어지고, Photo lithography법에 의한 전극 가공에 난점이 있기 때문에 저저항을 ... TFT-Array기판과 CF기판의 허용 정렬오차는 각 기판의 설계에 의해 결정되는 BM과 화소전극의 overlap 정도에 의해 결정되며 기판 assembly 공정에서의 기판 정렬오차는 ... 그럼에도 강화유리를 하우징 소재로 채택하는 이유는 강한 강도와 내마모성 뿐 아니라 미적인 면에서 충족되기 때문이라고 볼 수 있다.Mobile phone 신기술과 재료 - Flexible

  리포트 | 12페이지 | 3,000원 | 등록일 2011.12.21

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