"sputter" 검색결과 261-280 / 889건

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  PVD의 종류와 특성, 응용분야

  구조가 간단하며, 가장 표준적인 sputter 장치이다.? 성막속도가 여러 종류의 금속에 대해 거의 일정하다.? ... 스퍼터링(sputtering)이란?스퍼터링이란 간단히 말해 금속판에 아르곤 등의 불활성 원소를 부딪쳐서 금속 분자를 쫓아낸 후 표면에 막을 부착하는 기술이라 할 수 있다. ... 다음과 같이 표현된다.② Small-surface sourcesSmall-surface source로부터 sourc시킬 수 있다.아래 그림은 저항열을 이용한 evaporation의

  리포트 | 21페이지 | 2,500원 | 등록일 2015.01.08 | 수정일 2023.04.29

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  롤투롤 스퍼터 시스템을 이용하여 PET 기판위에 성막 시킨 ITO 박막의 특성 연구

  한국재료학회 조성우, 최광혁, 배정혁, 문종민, 정진아, 정순욱, 박노진, 김한기

  논문 | 6페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

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  원통형 타겟 타입 Pulsed DC Magnetron Sputtering에서 두께 변화에 따른 Al-doped ZnO 박막의 특성 변화

  한국재료학회 신범기, 이태일, 박강일, 안경준, 명재민

  논문 | 4페이지 | 3,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

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  RF-magnetron Sputtering Process를 이용한 a-축 우선 배향된 PLZT(x/0/100)박막의 제조

  한국재료학회 박명식, 강승국, 노광수, 김동범, 조상

  논문 | 7페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

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  반사방지막코팅

  를 높이는 방법 이다 .RF Magnetron Sputtering 25 RF sputtering 은 금속 이외에도 비금속 , 절연체 , 산화물 , 유전체 , 등 의 sputtering ... 공정이 저진공상태에서 수행되므로 다른 불순물에 의한 오염 가능성 .Magnetron sputtering 24 Target 의 뒷면에 영구자석이나 전자석을 배열 함으로써 전기장에 의해 ... (RF 또는 DC)target 로부터 방출되는 전자 를 target 바깥으로 형성되는 자기장내에 국부적으로 모아 Ar 기체원자와의 충돌 을 촉진시킴으로써 sputter yield

  리포트 | 39페이지 | 5,000원 | 등록일 2012.12.24 | 수정일 2013.11.17

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  스퍼터링 장비(펌프,게이지,Sccm)

  예비보고서 (4/27)윤영훈주제 : RF-magnetron sputtering을 이용하여저온증착 ZnO 및 고온증착 ZnO 박막의 증착 및 분석1.

  리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2015.05.18

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  [발광디스플레이실험] Photolithography

  특히 dry etching의 경우 ion 가속만을 이용하는 IBE(ion beam etching)나 sputtering과 같이 magnetron을 이용하는 sputtering etching이 ... 일반적으로 sputtering 방법은 증착 속도가 느리고 증착할 수 있는 두께의 한계가 있으며 alloy나 ceramic 등과 같이 여러 물질이 조합된 물질을 증착할 경우에 조성비를 ... 이용하여 한다.spin coating은 500rpm으로 5sec, 2000rpm으로 30s, 800rpm으로 10s로 코팅한다.

  리포트 | 8페이지 | 10,000원 | 등록일 2013.06.14

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  골프

  There are four types of putters. ... are four types of putters L type - Head of the Hill is close to the shaft T type - Head rests in the ... Easy to use and is characterized by a semicircular head is thick and heavy.GOLF EQUIPMENT PUTTER There

  리포트 | 39페이지 | 3,000원 | 등록일 2012.06.04

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  [박막] RF 마그네트론 스퍼터링을 이용한 ZnO박막에 관한 연구

  {Fig. 1 Schemic diagram of rf magnetron sputtering systems. ... 일반적으로 알곤압력이 증가하면, 플라즈마 방전전류의 증가에 의해서 증착속도가 증가하는 효과와, 스퍼터링된 입자들과 방전 가스와의 스캐터링(scattering)이 알곤압력의 증가에 따라서

  리포트 | 17페이지 | 3,500원 | 등록일 2004.12.05

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  [박막공학]이온빔의 원리와 스퍼터링

  증착시 이온빔의 역활그림12.보조이온빔의 역활보조이온총에서의 이온빔 divergence(발산)가 적어야 되는 이유는 보조빔에 의해 증착된 박막의 선택적인 sputtering이 일어나게 ... 되며 이 선택적 sputtering이 박막의 집합조직 형성에 결정적인 역할을 하기 때문TaegetIon beamIon beamSubstrate그림13.이온빔 스퍼터링 공정Ion Beam ... 저 주파수에서 이온은 single cycle동안 챔버(chamber) 내의 길이만큼 가로지를 수있다.

  리포트 | 17페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.12.27

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  [전자공학]Sputter

  간단하나 sputtering 속도가 느리다. (∵ 대부분의 화합물 target은 sputtering yield 가 작고 이차 전자의 방출량이 많다.)? ... Magnetron sputtering(1) 다른 sputtering 방법과 다른 점① 강한 자기장을 이용하여 플라즈마의 대부분을 target 표면 근처에 묶게 된다. - 방출된2차 ... 전형적으로 ‘racetrack'형태로 sputter erosion이 일어난다. → 고체 원판형 target에서 많은 양의 낭비가 있고, target을 가로질러 sputter된 atom의

  리포트 | 21페이지 | 3,000원 | 등록일 2005.09.13

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  골프 클럽 조사

  헤드의 모양과 재질에 따라 우드 (Wood) 와 아이언 (Iron), 퍼터 (Putter) 등 세가지로 구분하며 , 각기 다른 용도와 기능을 가지고 있다 .골프 클럽의 구성 골프클럽에는 ... v=QwrTjeW5tFY http://story.golfzon.com/1107{nameOfApplication=Show} ... 크게 공을 타격하는 타무면인 해드 (Head) 부분과 골프채의 막대부분인 샤프트 (shaft), 헤드와 샤프트를 연결하는 호젤 ( Hosel ) 그리고 손잡이부분인 그립 (Grip

  리포트 | 15페이지 | 1,000원 | 등록일 2015.11.27

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  Effects of Sputtering Pressure on the Properties of BaTiO3 Films for High Energy Density Capacitors

  한국재료학회 Park, Sangshik

  논문 | 7페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

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  소재공정실험 박막 PVD와 CVD PPT [A+]

  adhesion better adhesion puttering S vsC hemical V apor D eposition rinciple of CVD P 화학기상증착법 이라 하며 ... EP hysical V apor D eposition 높은 에너지를 갖는 미립자들에 의한 충돌에 의해 target 이라 불리는 물질의 표면으로부터 떨어져 나오는 원자를 증착 . puttering ... gas in film larger grain size smaller grain size fewer grain orientations many grain orientations poorer

  리포트 | 13페이지 | 2,000원 | 등록일 2012.11.23

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  Asymmetric FCCL (PCB) 상세소개 자료

  Asymmetric FCCL is fabricated by sputtering the back-side of Single-Side FCCL, which must pass Heat Resistant ... Adhesiveness Test (288 O C for 10Sec. , 0.8kgf/cm or more) The fabricating process of Sputtered FCCL is to sputter ... We have developed Pilot-Plant scale equipment which housed surface treatment (our Technology) process

  리포트 | 14페이지 | 1,000원 | 등록일 2013.10.20

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  85화합물 반도체 공정(유전막 증착)

  기판을 보호하기 위해 이동식 shutter가 있다.DC 스퍼터링장점 구조가 간단, 가장 표준적인 sputter장치 증착속도가 여러 종류의 금속에 대해 거의 일정 전류량과 박막두께가 ... 거의 정비례 높은 에너지의 공정이므로 밀착강도가 높다 단점 Target 재료가 금속에 한정됨 - RF sputtering이 보완함 높은 Ar압력이 필요하다. ... 스퍼터링(sputtering)은 높은 에너지( 30 eV)를 가진 입자들이 target에 충돌하여 target 원자들에게 에너지를 전달해 줌으로써 target원자들이 방출되는 현상1Cue

  리포트 | 43페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.02.18

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  PLED소자제작 결과레포트

  etching과 비선택적(nonselective) etching으로 나뉘는데 아크릴계 모노머를 evaporation 시켜 증착하고 자외선을 가하여 경화시킨 다음, 그 위에 다시 sputtering ... 실험방법1)Scribing & Cleaning먼저 옆의 그림처럼 큰 ITO Glass를 scribing하는 과정을 거쳐서 35mm×35mm로 잘라내야 한다.Glass를 scriber위에 ... 기포가 있으면 그 부분은 도포가 잘 되지 않기 때문이다.②Soft bakingPR코팅을 한 후에는 hot plate를 이용하여 soft baking을 실행한다. spin coating에서

  리포트 | 12페이지 | 1,500원 | 등록일 2016.07.15

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  E-Beam Evaporator를 이용한 박막 증착 원리 이해(결과보고서)

  타겟이 있는 게터 스퍼터(getter sputter), 타겟 자신의 증발 이온으로 타겟을 재차 스퍼터하는 자기 스퍼터(self sputtering)라고 한다. ... 스퍼터 증착한 타겟 물질을 기판 위에 침착시켜서 박막을 형성하는 것을 스퍼터 증착(sputter depostion)이라고 한다. ... 타겟에 조사되면 타겟 표면의 구성 원자/분자와 탄성 혹은 비탄성 충돌을 하여 타겟표면의 원자나 분자는 증발하는 스퍼터 증발(sputtering evaporation) 혹은 조사된

  리포트 | 5페이지 | 1,500원 | 등록일 2011.05.20

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  롤투롤시스템을 이용하여 PET 필름위에 제조된 SiO2-ITO 박막의 색도(b*), 면저항과 투과도 연구

  한국재료학회 박미영, 김정수, 강보갑, 김혜영, 김후식, 임우택, 최식영

  논문 | 8페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

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  롤투롤 스퍼터를 이용하여 PET 기판 위에 제조된 ITO 박막의 색도(b*) 및 투과도 연구

  한국재료학회 서성만, 강보갑, 김후식, 임우택, 최식영

  논문 | 6페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

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