"sputter" 검색결과 181-200 / 889건

• 

  반도체식 가스센서 논문(P-type NiO Nanoparticles-decorated N-type Zno Nanograinednanorods를 이용한 가스센서의 수소가스 감지 특성)

  SiO2 Wafer 위에 magnetron sputtering 공정을 거쳐 Au thin film이 코팅된 SiO2 기판을 만든다. ... 소스 미터 장비를 사용하여 300℃에서 1) Air gas 200sccm, H2 gas 0sccm 200초 2) Air gas 0sccm, H2 gas 200sccm 200초로 1) ... ZnO NGLRs were synthesized using a newly designed two-stage process, such as 1) Synthesis of ZnSe nanowire

  논문 | 3페이지 | 8,500원 | 등록일 2023.03.09

  다운로드 장바구니
• 

  건축용 유리제품의 종류와 로이복층유리의 특징

  로이유리의 종류는 코팅 제조방법에 따라 파이롤리틱 공법(pyrolytic process)에 의한 하드 로이(hard low-E)와 스퍼터링 공법(sputtering process)에 ... 의한 소프트 로이(soft low-E)로 구분한다. ... 이후 건물 외관의 개성을 중요시 하고, 성능면에서 단열특성이 요구되어 각종 반사유리, 복층유리, 스팬드럴(spandel)유리, SPG시스템이 나타나게 되었으며, 최근에는 외관뿐만 아니라

  리포트 | 2페이지 | 1,500원 | 등록일 2018.12.18

  다운로드 장바구니
• 

  골프 클럽의 유형

  골프 클럽의 유형골프 클럽: 공을 칠 때 이용하는 길이와 디자인이 다양한 도구.퍼터 (putter)그린 위에서 퍼팅할 수 있도록 그 헤드의 타면이 수직인 클럽.타면 (face)공을 ... 본래 나무 소재로 제작되었으나 근래에는 금속 소재로 제작된다.손잡이 (grip)골프 선수가 손으로 잡고 휘두르는 샤프트의 한 부분.샤프트 (shaft)골프 클럽의 긴 대 부분.

  리포트 | 6페이지 | 2,000원 | 등록일 2017.10.11 | 수정일 2020.10.09

  다운로드 장바구니
• 

  신소재 실험

  yield 감소.② Target의 온도: sputter yield가 아주 높은 경우를 제외하고는 민감하지 않음.③ 이온의 입사각: Max sputter yield –약 80°④ Target ... √이러한 현상 때문에 부도체를 sputtering, etching 등을 할 때는 교류전원을 사용한다. ... Sputter서론반도체, 도체 및 부도체박막의 제조방법으로는 CVD, evaporation, sputtering 등의 다양한 방법이 있다.

  리포트 | 13페이지 | 4,000원 | 등록일 2010.03.01 | 수정일 2018.10.22

  다운로드 장바구니
• 

  때려내기에 의한 박막 증착 (스퍼터링, Sputtering)

  Theories 1) What is sputtering? 2) Example of sputtering 3) Sputtering process 4) Vacuum system 3. ... The sputtered atoms leave with several eV . This high energy is very good for . ... 1. conditionExperiment 2. result Before Aftersummary The sputtering process hit a surface with an ion

  리포트 | 19페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.01.31

  다운로드 장바구니
• 

  증착공정

  증착기법으로는 열증착법(thermal evaporation), 전자빔증발법(e-beam evaporation), 스퍼터링법(sputtering)으로 나눌 수 있다.

  리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2018.01.27

  다운로드 장바구니
• 

  현미경 관찰법 (OM, SEM, TEM)

  그 중 sputtering method가 일반적이다. sputtering method는 먼저 vacumm chamber 안에 sample과 코팅재료(Au)를 둔다. ... 전도성 코팅물질코팅 방법은 일반적으로 sputtering method와 evaporation 방법이 있다. ... Evaporation은 코팅하고자 하는 재료를 녹여 증발 시켜 시편에 코팅을 하는 방법이다.fig8. sputtering method이상적인 코팅 조건은 열 또는 전기가 잘 통해야하고

  리포트 | 14페이지 | 1,500원 | 등록일 2016.04.21

  다운로드 장바구니
• 

  TSP다이아몬드용 DRAG BITS 접착에 이용되는 신 공정의 초기조건 설정에 관한 연구

  한국기계기술학회 김경환, 오유성

  논문 | 6페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.01 | 수정일 2023.04.05

  다운로드 장바구니
• 

  SEM image의 생성원리, charging 현상 해결방안, OM vs SEM 의 image 비교

  증착재료로는 일반적으로 금, 탄소가 많이 사용되고 있다.② Ion sputter법?가장 널리 손쉽게 쓰여 지는 방법이다. ... 이것은 장치의 구조가 간단하고 조작도 쉽기 때문이며 sputter입자는 시료 전 부분 골고루 막을 형성하기 때문에 charge-up 방지효과가 월등하다. ... 상태나 관찰 목적 등 어떤 조건이 있을 경우 Pt나 Au 등으로 코팅을 하여 관찰하면 2차전자 발생효율을 높여서 좋은 상을 관찰할 수도 있다.코팅을 하는 방법은 진공증착법과 Ion sputter법이

  리포트 | 13페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.11.16

  다운로드 장바구니
• 

  콘크리트 SEM&XRD

  차 전자 ) 의 효율을 증가 전자선 및 열로부터 시료표면을 보호 팽창 및 축소 억제 15~40nm 두께로 코팅 금 금 + 팔라듐 백금 백금 + 팔라듐 코팅방법 진공 증착법 Ion sputter

  리포트 | 48페이지 | 5,000원 | 등록일 2018.04.27 | 수정일 2018.04.30

  다운로드 장바구니
• 

  반도체 제조장비

  Jung-Jae Lee반도체 전공정 장비Contents1. 반도체 전공정 장비의 분류2. 반도체 전공정장비Diffusion 장비 Lithography 장비 Etching 장비 Thin Film 장비3. Q A공정단위에 따른 분류 공정기술에 따른 분류반도체 제조 장비공정..

  리포트 | 26페이지 | 2,000원 | 등록일 2018.08.29 | 수정일 2018.09.04

  다운로드 장바구니
• 

  Copper Sputtering

  스퍼터율에 영향을 미치는 주요 요소는 다음과 같다.① Target의 결정 방향 : 침투하기 유리한 결정면 에 대해서는 sputter yield 감소.② Target의 온도 : sputter ... . magnetron sputter를 이용하여 P-type 100 si-wafer(500㎛)에 Power를 변수로 Cu target을 증착시켜 그 증착두께의 변화를 측정하고, 증착두께에 ... 실험 결과, 증착두께는 Aluminium sputter system에서와 마찬가지로 Power에 비례하는 결과가 나왔다.

  리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.09.25

  다운로드 장바구니
• 

  PECVD 공정

  , the latter resulting from intense ion bombardment and consequent sputtering of the deposited molecules ... (vapor) to a solid state on a substrate. ... in showerhead pattern on wafers then need to search for air leaks in gas lines or behind showerhead

  리포트 | 24페이지 | 3,000원 | 등록일 2018.06.15

  다운로드 장바구니
• 

  스퍼터링,비저항

  ◆ DC, RF sputtering◇ DC sputtering회로상에서 target 은 cathode 로 사용되며 높은 음의 전압이 걸린다. ... 전도체여야 한다.장치구조와 조작이 간단한 장점이 있지만, 낮은 증착속도, 높은 기판온도(target으로 부터의 열방사, 2차전자), 에너지의 비효율성, 방전가스의 압력이 높고, 절연체의 sputtering이 ... S로 주어진다.

  리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.10.19

  다운로드 장바구니
• 

  Cu film의 전기적 특성 분석 실험

  높은 working pressure ⇒ 박막의 순도 ↓③ sputter의 종류D.C sputter R.F sputterⅠ) DC sputtering직류전원을 이용한 sputtering ... DC sputtering에서는 target이산화물이나 절연체일 경우 sputtering되지 않는다. ... RF sputtering은 금속 이외에도 비금속, 절연체, 산화물, 유전체 등의 sputtering이 가능하다.

  리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2014.04.03

  다운로드 장바구니
• 

  스퍼터링 타겟재의 응용을 목적으로 하는 탄탈륨 소결체의 제작 및 평가

  한국재료학회 장세훈, 최정철, 최세원, 오익현

  논문 | 6페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

  다운로드 장바구니
• 

  Indium Tin Oxide (ITO) 투광성 박막의 제조 및 전자파 차폐특성

  한국재료학회 김영식, 전용수, 김성수

  논문 | 7페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

  다운로드 장바구니
• 

  플라즈마를 이용한 Sputtering과 식각 (GZO증착)

  Ar : 0.45sccm으로 setting한다.② 유량 setting을 완료 후 chamber 내 가스 문을 개방하여 기압이 150~160mtorr에 도달하면 150v정도의 power를 ... 실험 방법 및 장비설명(1) GZO Sputtering① 이온게이지로 진공도를 확인한다.② 필라멘트 불이 들어오면 아르곤 가스를 6.1sccm 주입한다.③ MKS로 10mmTorr로 ... 설정한 후 유량을 30으로 올린다.④ 전압을 가한다.⑤ 플라즈마가 생성되는 것을 확인한다.⑥ 플라즈마 상태를 유지한 상태에서 6sccm으로 내려준다.⑦ Reflect Power를

  리포트 | 6페이지 | 1,500원 | 등록일 2015.07.01 | 수정일 2019.06.07

  다운로드 장바구니
• 

  강자성 및 증착시 박막 두께 계산

  Sputter이용하여 박막 증착시 두께 계산방법sputter를 이용해서 박막을 증착할 때 증착하는 속도와 시간을 조절하여 증착되는 물질의 두께를 조정할 수 있다. ... 첨정석(尖晶石 spinel) 결정구조를 갖는 이온 화합물도 강자성을 나타낸다. ... 강자성 물질은 다른 물질과는 달리 쉽게 자화(磁化)되며, 강력한 자기장 내에서 포화상태(saturation)라고 부르는 한계값을 갖는다.

  리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.12.11

  다운로드 장바구니
• 

  Sputter Deposition System을 이용한 박막 증착

  PVD법에는 진공증착과 sputter 증착이 있는데 우리는 sputter 증착법을 이용하였다.◎ 실험 과정 :웨이퍼Sputterring된 박막입힌 웨이퍼실리콘(Si)위에를 입히고 Co박막을 ... 실험기구는 sputtering 장비를 사용하는데 main chamber와 loadlock chamber로 나뉜다.를 입힌-wafer를 loadlock chamber에 넣고서 main ... XRD 사용을 하기 위해서 2를 20~80°, scan speed를 5°/s, 40㎸ 100㎃로 한다.◎ 실험 결과◆◇ 결과 분석 ◇◆Hexagonal Coh k l20 0 121.81

  리포트 | 3페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.06.01

  다운로드 장바구니