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"반도체패터닝" 검색결과 301-320 / 336건

  • [공학]반도체 박막 재료의 표면 처리 및 PR 제거
    식각 전후의 산화막의 색깔 변화를 관찰하여 식각 여부를 확인하고 식각에 의하여 형성된 패턴의 모양을 관찰한다.■ 실험 절차(1) 산화막(SiO2)의 패터닝(patterning) - ... 정의와 반도체 제조 공정① 반도체의 정의- 일반적으로 전기전도도가 도체와 부도체의 중간정도 되는 물질을 반도체라고 한다. ... 이처럼 도체와 부도체의 장점을 다가지고 있는 것이 바로 반도체이면 전기전도도의 조절 용이성이 바로 반도체의 무한한 가능성을 의미한다고 할 수 있다.② 반도체 제조 공정a.
    리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.12.15
  • [공학]반도체소자공학의 모든것 총정리
    박막증착에 대해 설명하시오.바깥으로 소자 구조를 연결시키기 위해서는 금속층의 증착과 패터닝이 요구된다. ... 그러나 대부분의 소자에서 소자의 능동영역은 결정질반도체에 의해 만들어진다. 오늘날 만들어지는 소자의 절대 다수는 결정질 반도체를 이용한다.2. ... 반도체의 격자구조에 대해 설명하시오.실리콘(그리고 게르마늄)격자구조는 다이아몬드격자구조 단위셀로 표현된다.
    리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.04.22
  • [과학] 나노 테크놀리지
    기술의 하나이는 리소그래피에서 나타나는 회절, 스케터링, 화학 반응 등의 문제점들을 해결나노 각인 리소그래피(Nano-Imprint Lithography:NIL) 는 나노 패터닝 ... Microscope : SPM)을 이용한 리소그래피나노 각인(Nano-imprint)을 이용하는 방법나노 각인 리소그래피(Nano-Imprint Lithography : NIL)는 나노 패터닝 ... 소재 및 구조 기술 - 세라믹, 유리, 금속, 폴리머, 반도체 등의 합성 물질 - 나노 결정, 막대, 박막, 섬유, 입자, 층, 튜브 2.
    리포트 | 23페이지 | 1,500원 | 등록일 2005.06.01
  • 나노바이오기술
    고밀도, 고집적의 나노어레이 제작을 위해서는 기존 로보틱스 형태의 어레이어로는 한계가 있기 때문에 이러한 생체물질의 패터닝 기술은 미세 바이오칩 제작에 대단히 중요한 기술로 평가되고 ... 기술의 발전 단계 및 현황MEMS (micro electro mechanical system)란 반도체 공정기술을 기반으로 하는 ㎛에서 mm 스케일의 초소형 정밀기계 제작기술을 말한다
    리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.12.25 | 수정일 2017.03.28
  • [반도체공정] 새의 부리현상
    그 모습이 새의 부리 모양이라 하여 Bird's Beak 이라하며, 이 Bird's Beak의 영역이 넓어지면 미세마이크로패터닝이 어려워진다.Bird's Beak 영역의 변수는 시간새의 ... 반도체 집적회로 공정학번 이름문제 제기? 당시 반도체 회로의 선폭을 머리카락 두께인 1㎛ 이하로는 만들지 못했다. ... 반도체의 성분인 실리콘이 산소와 반응하면 ‘새의 부리’ 모양으로 산화막이 만들어지면서 부피가 커졌기 때문이다.Bird's Beaksilicon이 산소와 만나 Si의 40% 소비하면서
    리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.01.26
  • [공업화학실험]박막 재료의 표면 처리 및 PR 제거
    식각 전후의 산화막의 색깔 변화를 관찰하여 식각 여부를 확인하고 식각에 의하여 형성된 패턴의 모양을 관찰한다.■ 실험절차(1) 산화막(SiO2)의 패터닝(patterning) - Lithography ... 끝으로 산화물 식각과 resist를 제거 한다, 이것을 asher라고 한다.● 반도체의 정의와 반도체 제조 공정○ 반도체의 정의상온에서 도체보다도 전하를 잘 이동시키지는 못하나 부도체 ... 웨이퍼 가공은 웨이퍼 표면에 반도체 소자난 IC를 형성하는 제조공정을 일컫는다..
    리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.06.25
  • [공학]박막재료의 표면 처리 및 PR제거
    실험절차(1) 산화막(SiO2)의 패터닝(patterning) - Lithography공정 (조교가 수행)(2) 패턴된 산화막의 표면, 표면 색깔과 패턴 관찰 - 광학현미경 관찰(3 ... 생산성과의 균형 때문에 보통 0.1 μm 정도의 해상도를 가진다.5.3 반도체 제조 공정과 정의5.3.1 반도체의 정의전기전도가 전자와 정공에 의해 이루어지는 물질로서 그의 전기저항률 ... 반도체나 절연체의 경우는 외부로부터의 빛이나 열 등의 자극이 가해질 경우 비저항이 크게 변하는 특징이 있다.
    리포트 | 12페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.09.06
  • [전자정보]투명전극
    따라서 탄소나노을 패터닝하는 공정은 감광제 (photoresist)를 이용한 사진 식각공정(photolithography)과 에칭공정으로 구성된다. ... 마이크론 단위 이하의 선폭과 이방성 에칭의 요구가 엄격하지 않은 소자의 패터닝에는 습식에칭이 이용되는데 이는 간단하며 공정속도가 빠르고 경제적이라는 이유에서이다. ... 전극 패턴 형성 시 에칭에의 난점과 고저항의 단점을 지닌다.(3)ZnO이에 비하여 ZnO(zinc oxide)는 3.4 eV 근처의 band gap을 갖는 전형적인 n-type 반도체로서
    리포트 | 13페이지 | 1,500원 | 등록일 2005.12.25
  • 박막재료의 표면처리 및 PR실험
    실험절차(1) 산화막(SiO2)의 패터닝(patterning) - Lithography 공정 (조교가 수행)(2) 패턴된 산화막의 표면 색깔과 패턴 모양 관찰 - 광학 현미경 사용( ... 우리주위의 모든 전자제품에는 반도체로 만든 조그마한 부품들이 들어 있으므로 우리는 반도체라는 물건에 둘러싸여 사는 셈이다.반도체를 마법의돌 전자 산업의 꽃, 산업의 쌀, 20세기 최대의 ... 그런데 이세상에는 제작자의 의도에 의해 도체도 될수있고 부도체도 될수있는 성질을 가진 것이 있는데 이것을 반도체라고 부른다반도체는 원하는 대로 저항의 크기를 조절하거나 빛을 내는등
    리포트 | 13페이지 | 1,500원 | 등록일 2006.11.24
  • [자연과학]Nano에 대해서
    여기서 유용하게 쓰이는 기술이 나노 패터닝이라는 기술이다최근에 초고용량 하드디스크들이 많이 쏟아져 나오고 있는데 이러한 하드디스크들을 살펴보면 GMR헤드라는 것을 가지고 있다. ... 산업에서 비롯되었다고 할 수 있다.즉, 반도체 산업의 기반인 반도체 제품을 제초하기에 앞서서, 실리콘 웨이퍼(S술과 ... 예를 들자면, 분자를 배치하여 반도체를 만드는 기술을 이용하여 손톱만한크기의 칩에 수백 메가를 저장할 수 있다.
    리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.10.18
  • [디스플레이]유기 EL
    특성상 유기층을 형성 한 후에 음극과 패터닝 작업이 가능하다. ... 유기 EL 역시 자연색과 같은 색감과 발광의 효율성을 극대화 할 수 있는 유기물과 고분자 재료에 대한 연구가 절실한 상황이다.- 가공기술 : 패터닝, 보호층, 프린팅 기법 등유기 EL의 ... 언제 어디에서나 많은 정보를 손쉽고 빠르게 얻는 것이 중요하기 때문에 멀티미디어용 고성능 평판 표시소자의 중요성이 더욱 커지고 있습니다.특히, 정보화사회의 기반을 제공해주는 기술인 반도체
    리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.04.02
  • CNT FED
    터닝 및 소자 제조 공정에 있어서 공정의 난이도와 가격 경쟁력 보유.CNT형 소자기존의 실리콘 팁, 탄소 박막 등에서 보고되고 있는 전자 방출전압과 전자 방출 전류 밀도 수준에 비해서 ... 높은 색순도 -넓은 시야각 고유의 sub-pixel redundancy -10%의 emitter가 손상되어도 단위 픽셀동작에 자장이 없음 동작 속도가 매우 빠름 동작온도영역이 넓음 반도체
    리포트 | 26페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.04.11
  • [반도체]국내 메모리 반도체 현황과 발전전략
    에서 2010~2013년 사이 32nm~22nm 패터닝이 현실화 될 것이라고 밝힌 바 있어, 일본 기업들의 계획보다는 1단계 먼저 선두 기업들이 나갈 것으로 보여, 선두기업과 후발업체간 ... DRAM 수요 및 공급 7 반도체 진입장벽 분석 13 반도체 기존 기업간의 경쟁 분석 14 반도체 공급자의 교섭력 분석 14 반도체 구매자의 교섭력 분석 15 반도체의 대체재 위협분석 ... 반도체 기술발전의 역사 22.2. DRAM Technology Road Map22.3. 반도체 집적도와 기술 이슈33. 반도체 시장현황43.1.
    리포트 | 23페이지 | 3,000원 | 등록일 2006.02.11
  • 리소그래피
    레이아웃에 있어서도, 인접 패턴간의 상호 작용에 의한 패터닝 왜곡을 미리 보상하여 주는 OPC(Optical Proximity Correction) 기술의 도입이 필수적인 것으로 판단되며 ... DRAM 한개 제조에 대략 70번 정도의 리소그래피 공정이 필요하다이 리소그래피는 반도체 제조에 있어 빠트릴 수 없는 중요한 공정이다. ... 열로 인한 온도 상승은 반도체 동작을 방해하고 이상동작, 심지어 회로 파괴로 이어지므로 패키지에 쓸 물질이 방열을 잘할수 있도록 해야한다.2.
    리포트 | 2페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.06.01
  • [반도체공학]박막 재료의 표면처리 및 식각 실험
    실 험 절 차(1) 산화막(SiO2)의 패터닝(patterning) - Lithography 공정 (조교가 수행)(2) 패턴된 산화막의 표면 색깔과 패턴 모양 관찰 - 광학 현미경 ... 그러기 위해서는 문양을 사진으로 찍어 축소한 마스크를 마치 사진인화할 때의 필름처럼 사용한다.◎ 반도체 제조 공정반도체는 일반적으로 크게 다음과 같은 과정으로 나눌수 있다.1단계 . ... 3μm 이상인 반도체 소자 제작등과 같은 공정에 주로 사용되어 진다.
    리포트 | 18페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.02.27
  • [화학공학]각막의 처리 - 박막 재료의 표면처리 및 식각 실험
    실험절차산화막(SiO2)의 패터닝(patterning) - Lithography 공정 (조교가 수행)패턴된 산화막의 표면 색깔과 패턴 모양 관찰 - 광학 현미경 사용패턴된 산화막을 ... 대부분은 웨이퍼 그 자체도 상품이 된다.5.3.4 웨이퍼 가공웨이퍼 가공은 웨이퍼 표면에 반도체 소자난 IC를 형성하는 제조공정을 일컫는다.(1) 웨이퍼 용어전형적인 반도체 웨이퍼를 ... 반도체 기술에서의 배선은 SiO2나 Si3N4위에 적층된 알루미늄 박막으로 형성된다.
    리포트 | 20페이지 | 10,000원 | 등록일 2005.10.31
  • [화학공학] 박막의 표면처리 및 식각공정(예비)
    식각 전후의 산화막의 색깔 변화를 관 찰하여 식각된 두께를 측정하고 식각에 의하여 형성된 패턴의 모양을 관찰한다.◈ 실험절차(1) 산화막(SiO2)의 패터닝(patterning) - ... 이것은 반도체 제조업자들에게 거의 완벽한 수직 식각 높다. ... 즉 UV의 노출은 [그림.4] Lithography 결과 photoresist가 developing 용액에서 용해되게 한다.(3) 반도체 제조 공정과 정의반도체 집적회로는 손톱만큼이나
    리포트 | 8페이지 | 1,500원 | 등록일 2005.07.04
  • Soft Lithography 와 그의 특징, 종류 및 장․단점,PDMS 물질의 장·단점
    Soft Lithography는 대면적 고분해능 패터닝ing (printing 방식)Microcontact Printing(이하μCP)에 대해서 간단하게 말하자면, 도장을 찍는 과정과 ... stamp에 잉크처럼 묻혀서 alkanethiol이 찍히는 부분에 ‘ink molecule’이 전달되도록 하는 것이다.이는 resolution의 범위가 100nm이하로 내려가면서 새로운 반도체
    리포트 | 9페이지 | 2,500원 | 등록일 2007.02.21
  • [신소재] 나노기술
    작을수록 실온에서 작동양자크기효과에 의한 전기적 광학적 성질 연구..PAGE:12리소그래피에 의한 첨단 나노패터닝 기술을 이용한 미국 Harvard 대학의 Westervelt 그룹의 ... 전자 산업분야의 나노 기술점점 더 좁은 영역에 많은 소자를 집접반도체의 소량화->MOSFET 한계에 도달 ->나노기술 이용한 단전자 트랜지스터로 극복단전자트랜지스터 : 입자크기가 ... : 자철을 수십 나노미터 크기로 만든 후 계면 활정제등으로 안정화하여 콜로이드 상태로 만들면 형성된다.액체베어링등 공업적 응용암을 진단하는 자기 진단 시약에 사용..PAGE:11반도체
    리포트 | 17페이지 | 1,000원 | 등록일 2003.10.13
  • [미세가공] 맴즈와나노
    기술에 나노 구조를 제작(반도체), 대단히 정확하나 가격이 너무 비쌈기존의 반도체 집적공정기술의 연장선상에서 생각하는 것으로, 즉 박막을 증착하고, 리소그래피 패터닝(lithographic ... form-locking 현상이나 이형시 발생하는 문제점을 감소시킬 수 있는 장점을 가지고 있다.3) NANO 가공기술(1) 위에서 아래로의 접근(top-down approach)⇒ 패터닝 ... 이 방법은 기존의 반도체 집적공정에 통상적으로 사용되어온 것으로서, 이미 그 체계가 확실하게 잡혀있는 기술이다.
    리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2003.05.18
  • 아이템매니아 이벤트
  • 유니스터디 이벤트
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2024년 09월 16일 월요일
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- 국내의 사물인터넷 상용화 사례를 찾아보고, 앞으로 기업에 사물인터넷이 어떤 영향을 미칠지 기술하시오
5글자 이하 주제 부적절한 예)
- 정형외과, 아동학대