"RF-magnetron sputtering" 검색결과 21-40 / 144건

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  magnetron sputter를 이용한 박막 형성 실험레포트

  본 연구에서는 TFT-LCD용 color filter제조시 ITO 박막 형성을 위해 사용하는 magnetron sputter내부의 플라즈마 분포 및 ion kinetic energy에 ... 등을 Monte Carlo 방법으로 추적하여 sputtering 현상을 유추해 보았다. sputtering현상을 살펴보기 위해 magnetron sputter내 플라즈마밀도, 전자온도 ... 실험 목적현재 magnetron sputter는 반도체, LCD 등을 포함하는 microelectronics 산업에서 박막 형성을 위한 주요 장비로 널리 쓰이고 있으며, 소자의 고집적화

  리포트 | 9페이지 | 1,000원 | 등록일 2014.08.18

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  Ferroelectric 캐패시터의 하부전극에의 응용을 위한 IrO2 박막 증착 및 특성분석

  한국재료학회 허재성, 최훈상, 김도영, 장유민, 이장혁, 최인훈

  논문 | 5페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

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  Cosputtering법으로 증착한 ZnO박막의 Al도핑농도가 미세구조 및 물리적 특성에 끼치는 효과

  한국재료학회 임근빈, 이종무

  논문 | 4페이지 | 3,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

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  p-Si 기판에 성장한 BaTiO3 박막의 두께와 구조적 특성과의 관계

  한국재료학회 민기득, 이종원, 김선진

  논문 | 5페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

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  RF Magnetron Sputtering

  증가 Re-Sputter을 막음 Gas의 Ion의 밀도높여줌Sputter gun 종류Plasma sputter gunIonEtch-GenAtomic Hydorgen sourcee-fluc ... cathode로 하여 sputtering 할때 주파수가 10MHz이상 되어야 효과적인 sputtering이 일어남 (13.56MHz, 27.12MHz의 RF가 사용) 절연체 target은 ... RF Magnetron Sputtering목 차RF Magnetron Sputtering의 원리 RF Magnetron Sputtering equipment RF Magnetron

  리포트 | 35페이지 | 2,000원 | 등록일 2007.04.20

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  마그네트런 스퍼터링법으로 증착한 투명전극용 Al도핑된 ZnO의 공정 분위기에 따른 구조적, 전기적, 광학적 특성비교

  한국재료학회 임근빈, 이종무

  논문 | 3페이지 | 3,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

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  메모리 소자에의 응용을 위한 SrBi2Nb2O9 박막의 성장 및 전기적 특성

  한국재료학회 강동훈, 최훈상, 이종한, 임근식, 장유민, 최인훈

  논문 | 6페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

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  CIGS 개론

  system마그네트론 스퍼터링(magnetron sputtering)이란 발생된 플라즈마를 영구자석에서 발생하는 자속(flux)에 의해 기판에 형성시키는 방법이다. ... Magnetron은 타겟 밑이 놓으며 인가된 전원에 따라 RF-DC magnetron sputtring이라 한다.그림4 magnetron sputteri 스퍼터링법은 시료 물질이 진공 ... RF sputtering법은 다른 디지털 회로에 noise의 발생 원인이 될 수 있으므로 시스템적으로 noise filter나 절연체에 의한 차폐와 접지가 중요하다.그림3 RF sputtering

  리포트 | 18페이지 | 2,500원 | 등록일 2014.02.08 | 수정일 2015.08.24

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  RF-magnetron Sputtering Process를 이용한 a-축 우선 배향된 PLZT(x/0/100)박막의 제조

  한국재료학회 박명식, 강승국, 노광수, 김동범, 조상

  논문 | 7페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

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  DC Magnetron sputtering

  높다.② reactive processDC diode, RF diode, triode, magnetron, modified RF magnetron sputtering다음 두 가지 ... 존재DC magnetron sputtering의 장점① 높은 증착 속도② 낮은 sputtering 압력③ 기판 온도 감소④ 산업적 규모의 공정으로 변환이 용이Unbalanced magnetron ... sputtering system① electron source의 추가로 triode mode에서 수행- hollow cathode enhanced magnetron이온화를 높이기

  리포트 | 12페이지 | 3,000원 | 등록일 2012.12.24 | 수정일 2013.11.17

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  RF sputtering

  biode, RF diode, triode, magnetron, modified RF magnetron sputtering다음 두 가지 방법이 기본이다.(1) metallic cathodetarget은 ... RF sputtering(1) sputtering plasma 발생 oscillating power source를 사용하므로 DC방법보다 많은 장 점이 있다.- 부도체재료를 sputter ... 바로 이것이 self-bias이다.RF discharge에서는 자연 발생적으로 self-bias가 생성되는데, 이 self-bias 때문에 부도체 target을 RF를 이용하여 스퍼터링할

  리포트 | 12페이지 | 3,000원 | 등록일 2012.12.24 | 수정일 2013.11.17

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  AFM 실험결과보고서

  Ar 퍼징 : Ar 60sccm - 10min6. pre - sputtering : 타겟의 산화물이나 이물질 등을 날려버리기 위해 100W 정도로 플라즈마를 생성시킨다.7. ... 실험과정RF magnetron Sputtering system 실험 조건ParameterSubstrateFTO glass (2x2 cm²)Base vacuum3x10-6 torrTargetTiO2 ... 연구목적- 증착시간 변수에 따른 RF Sputtering system을 통한 TCO 기반 TiO2 박막 코팅을 실시함으로써 그 원리 및 작동방법을 이해하고, AFM 및 α - step

  리포트 | 11페이지 | 4,000원 | 등록일 2014.10.12

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  스퍼터링 장비(펌프,게이지,Sccm)

  예비보고서 (4/27)윤영훈주제 : RF-magnetron sputtering을 이용하여저온증착 ZnO 및 고온증착 ZnO 박막의 증착 및 분석1. ... 효율 또한 상당히 높고 크기와 진동이 작은 편이다.1-2. ... 이오닉게이지, 컨벡션게이지, 바라트론 게이지 작동원리2-1.

  리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2015.05.18

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  RF 마그네트론 스퍼터링에서 증착거리와 증착온도가 무기 액정 배향막의 물리적 성질에 미치는 영향에 대한 연구

  한국재료학회 박정훈, 손필국, 김기범, 박혁규

  논문 | 8페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

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  PVD

  Magnetron Sputtering 63구성 : Target[cathode] + Substrate[anode] + RF power supply + impedance matching ... e e e e e e + − −+ V B.C RF Sputtering69 절연물질의 박막화 가능 저압 공정 가능 (up to 1 mTorr ) Low sputtering rate ... 거의 반응이 없는 불에 의해 (RF 또는 DC)target 로부터 방출되는 전자를 target 바깥으로 형성되는 자기장내에 국부적으로 모아 Ar 기체원자와의 충돌을 촉진시킴으로써 sputter

  리포트 | 77페이지 | 3,000원 | 등록일 2012.12.24

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  Cu film의 전기적 특성 분석 실험

  RF sputtering은 금속 이외에도 비금속, 절연체, 산화물, 유전체 등의 sputtering이 가능하다. ... 즉 물질에 따라서 수 10nm/분 ~ 200nm/분의 두께이다.- 타깃은 판상으로 해야 한다.- 기판이 과열되기 쉽다.Ⅱ) RF SputteringDC sputtering에서는 target이 ... ) magnetron sputteringⅣ) Reactivity Sputtering4.

  리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2014.04.03

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  반사방지막코팅

  를 높이는 방법 이다 .RF Magnetron Sputtering 25 RF sputtering 은 금속 이외에도 비금속 , 절연체 , 산화물 , 유전체 , 등 의 sputtering ... 공정이 저진공상태에서 수행되므로 다른 불순물에 의한 오염 가능성 .Magnetron sputtering 24 Target 의 뒷면에 영구자석이나 전자석을 배열 함으로써 전기장에 의해 ... (RF 또는 DC)target 로부터 방출되는 전자 를 target 바깥으로 형성되는 자기장내에 국부적으로 모아 Ar 기체원자와의 충돌 을 촉진시킴으로써 sputter yield

  리포트 | 39페이지 | 5,000원 | 등록일 2012.12.24 | 수정일 2013.11.17

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  ZrO2 MIM 캐패시터의 구조, 표면 형상 및 전기적 특성

  한국재료학회 김대규, 이종무

  논문 | 4페이지 | 3,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

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  85화합물 반도체 공정(유전막 증착)

  증착속도가 여러 종류의 금속에 대해 거의 일정 전류량과 박막두께가 거의 정비례 높은 에너지의 공정이므로 밀착강도가 높다 단점 Target 재료가 금속에 한정됨 - RF sputtering이 ... 기체의 압력과 전류 밀도에 의존한다.target의 pre-sputtering시 기판을 보호하기 위해 이동식 shutter가 있다.DC 스퍼터링장점 구조가 간단, 가장 표준적인 sputter장치 ... 증착속도가 느리다 - Magnetron Sputtering이 보완함RF 스퍼터링RF 스퍼터링 장치는 절연체의 박막을 증착시키기 위해서 개발됨.Target이 절연체일 경우 직류 전압을

  리포트 | 43페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.02.18

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  KLN 스퍼터링용 타겟의 제조 및 코닝 1737 유리 기판위에 성장시킨 박막의 광학적 성질

  한국재료학회 박성근, 서정훈, 김성연, 전병억, 김진수, 김지현, 최시영, 김기완

  논문 | 7페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

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