"스퍼터링" 검색결과 381-400 / 774건

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  Wafer Cleaning & oxidaton

  표적 재료로 고순도 실리콘을 써서 스퍼터링을 하기도 하는데 이 때에는 삱소의 부분압 속에서 행해진다. ... 일반적으로 스퍼터링 공정에서는 참여하는 원자들이 그대로 웨이퍼에 도달하여 박막을 형성하며 기판의 가열이 불필요하다.250~260°C사일레인(silane, SiH4)의 산화에 의한 증착방법 ... 주변에 있는 매엽식 세적 장치에 대해서 많은 관심을 가지는 것이 바람직 하다.⑦ DRY CLEANINGdry cleaning을 chemical 실리콘 산화막 형성의 재료로 사용된다.스퍼터링

  리포트 | 12페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.09.26

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  cvd pvd

  스퍼터링 기술 중에는 이온원에서 발생한 이온을 고진공조 내에 놓여진 타겟에 충돌시켜 증착 입자를다. ... PVD 기술에서 종래의 가장 기본적인 증착 기술은 진공증발 기술이었으나, 현재는 많은 응용분야가 스퍼터링 기술로 이전되어 있는 상태이다. ... 동시에 스퍼터링 증착 기술의 특징을 살린 자기기록 재료, 투명 도전막 혹은 탄성 표면파 디바이스 등 일렉트로닉스 소자의 박막 형성 등으로 응용이 확대되었다.

  리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.07.17 | 수정일 2015.11.03

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  디스플레이 공정

  에너지를 갖는 입자가 target에 충돌하면 target로부터 원자 또는 분자가 튀어 나오는 현상을 스퍼터링(sputtering)이라고 부른다.스퍼터링 중성기체 발생에 관한 목표물 ... 운동에너지를 열에너지로 변하화여 증착시키는 방법이다.전자빔 증착유도 가열 증착RF 유도 가열 코일을 BN으로 만들어진 도가니 주위에 감아 RF 전류를 흘려 가열시키는 방법이다▣ 스퍼터링높은

  리포트 | 20페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.10.09

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  태양전지

  Physical Vapor Deposition)- 스퍼터링(sputtering) 물리적 기상 증착 : 스퍼터링은 글로우 방전에서 발생되는 정이온을 전계에 의해 높은 에너지로 가속시켜 ... 고에너지의 정 이온이 고체의 표면과 충돌하면 고체 표면의 원자 또는 분자가 표면에서 밖으로 튀어나오는 스퍼터링 현상을 이용한 박막제도 방법이다.?

  리포트 | 10페이지 | 3,000원 | 등록일 2010.05.23 | 수정일 2024.05.02

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  ITO 필름 시장 동향

  디지텍시스템스 (파주); 국내1위 터치스크린 회사, 96만㎡/년 국내 최대 생산량, 삼성전자에 납품추진.2) SKC하스 (천안); 이미 국내에서 미국 BSF의 ITO필름사업을 인수하여 스퍼터링

  리포트 | 8페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.04.07

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  박막증착 개론

  DC diode, RF diode, triode, magnetron, modified RF magnetron 스퍼터링 장치가 반응성 스퍼터링 장치로 이용될 수 있다. ... 반응성 sputtering은 금속 target을 이용하여 스퍼터링 할 때 불활성 가스(주로 Ar)와 동시에 반응성이 있는 가스를 흘려줌으로써 화합물 박막을 형성하는데 주로 사용된다. ... 어떤 물질이든지 반응성 스퍼터링 동안 박막은 반응성 가스의 입자가 금속 박막에 섞여 있는 고용체 합금(solid sol荷重)을 제거한 후 남은 영구 피트의 표면적(表面積)으로 하중을

  리포트 | 9페이지 | 2,000원 | 등록일 2009.11.26

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  LOW-E 유리

  -코팅막의 균진성이나 단열성이스퍼터링 방법에 에 비해 떨어짐방사율-방사율(Emissivity) : 0.1~0.03-방사율(Emissivity) : 0.15~0.2비 고-타워팰리스 : ... soft 코팅 제품이 우수-생산 가격이 hard 코팅 제품보다 soft 코팅 제품이 약 1.6배 다소 높음■주요설비 보유 현황구 분-E 유리Hard Low-E 유리제조방법-마그테크론 스퍼터링

  리포트 | 19페이지 | 4,000원 | 등록일 2012.06.28

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  태양전지의 원리 및 미래 태양전지 기술

  스퍼터링법은 증착속도가 빠르고 저온에서도 대면적에 균일한 박막을 얻을 수 있어 상업적으로 가능한 공정이나 H2Se는 독성이 매우 강해 주의를 요하고 있으며, Solaion은 폴리머기판

  리포트 | 15페이지 | 1,500원 | 등록일 2014.12.16

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  각종 진공 펌프 원리 사용 방법 sputter 1

  스퍼터링에 의한 증착과정2) 스퍼터 장비의 구성그림 6. 스퍼터장비의 구성1. ... 열어서 chamber의 진공을 약 5~10분 정도 뽑아준다.Roughing 밸브를 닫고 foreline 밸브를 연후에 main 밸브를 열어서 chamber의 진공을 뽑는다.ⅲ) 스퍼터링

  리포트 | 7페이지 | 2,000원 | 등록일 2011.06.03

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  반도체공정-유전체증착

  박막증착방법물리증착 (PVD) 증발법 (Evaporation method) 스퍼터링증발법 (Evaporation method) - 반응로내를 고진공으로 유지하거나 박막을 입히는 상대물질을 ... 단순하며 타겟 물질의 열적 , 화학적변형이 적 고 널리 쓰이는 공정 - 대량의 제품을 코팅시에 각각의 막의 두께가 다를 공산이 크며 대량생산 시 고진공을 요하기 때문에 경제성이 떨어짐스퍼터링

  리포트 | 26페이지 | 2,000원 | 등록일 2011.05.19

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  반도체공정순서 및 박막 증착법

  챔버내에 진공을 만들고 원하는 진공상태에서 보트에 전원이 공급되면 금속이 증발하게되는 것이지요.스퍼터링(Sputtering) :스퍼터링에서는 이온을 생성하기 위해 플라즈마를 사용하는데 ... 소스 물질과 기판은 그림에서와 같이 고전압 전원에 연결된 반대편의 평행판 위에 놓여지게 되는데 증착되는 과정은 먼저 챔버를 진공으로 만든 다음 낮은 압력의 스퍼터링 기체, 보통 아르곤을 ... 유지되므로 아르곤 이온은 소스물질이 덮여있는 플레이트로 가속되게 되는데 아르곤 이온의 충격으로 소스원자와 분자들은 플레이트로 부터 방출되어 웨이퍼로 날아가 증착이 되는 것입니다.DC 스퍼터링의

  리포트 | 24페이지 | 2,000원 | 등록일 2009.09.25

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  기계공작법 프로젝트(집속이온빔)

  퇴적된 금속은 빔의 스퍼터링 현상으로 인해 샘플 아래층의 파괴로부터 보호 할 수 있어서 매우 유용하다. ... 또한 갈륨이온은 전자보다 무겁기 때문에 시료를 구성하는 원자를 튕겨내는 스퍼터링(sputtering)현상이 발생한다. ... 이 원자는 2차 이온이 되어 시료에서 떨어져 날아간다. 2차 이온을 센서로 검출하고 2차원분포를 구하여 시료표면의 현미경상을 관찰할 수 있고, 스퍼터링 현상을 가공에 응용한다.2)

  리포트 | 12페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.12.05

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  PVD (Physical Vapor Deposition), 물리 증착법

  산업분야에서 많은 기여를 이루고 있는 첨단 기능성 표면처리 방법이다.공해가 없는 환경 친화적인 공정에 의해 피복이 이루어지는 등의 장점을 가진다.최근에는 모재와 코팅 층 사이에 스퍼터링 ... 감소한다.그림과 같은 상teringion platingElectron Beam Ion plaingCathodic arc ion plating◎ Evarporation진공 증발 기술은 후술하는 스퍼터링

  리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.07.05

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  각종 진공 펌프 원리 사용방법 sputter

  스퍼터링된 티타늄은 펌프의 내부구조에 증착되는데 거기에서 기체분자와 화학 결합을 하여 기체분자를 고체로 전환시키는 것이 가능하다. ... 효과적으로 하기 위한 뜨거운 필라멘트 소스가 필요하지 않으므로, 이 공정을 냉음극 방전이라고 한다.비교적 무거운 입자인 양이온은 (-)전가를 띤 티타늄 음극 안으로 가속되는데 이 충돌은 스퍼터링을

  리포트 | 8페이지 | 2,000원 | 등록일 2011.06.03

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  Development of high-efficiency flexible Cu(In,Ga)Se2 solar cells 해석

  알칼리 규산염의 얇은 유리층(ASTL)이 Mo 접촉 층의 스퍼터링 전에 기질에 있었다.ASTL의 사용과 향상된 전지 효율성은 CIGS에 In/Ga 혼합물의 비율과 관계없이 입증했다.The

  리포트 | 7페이지 | 2,000원 | 등록일 2013.05.26

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  각종 진공 pump 원리 및 사용 방법

  스퍼터링의 장접과 단점1) 장점: 넓은 면적에서 균일한 박막두께 증착 가능박막 두께의 조절이 비교적 용이함진공증착에 비하여 보다 정확한 합금 성분 조절 가능2) 단점: 고가장비낮은 ... 유지(mTorr)10) 플라즈마를 아용한 스퍼터를 준비하기 위해 DC 파워를 넣는다.11) 암페어 미터와 볼트미터를 적당히 조절하여 원하는 파워에 위치시킨다.12) 셔터를 열고 스퍼터링

  리포트 | 7페이지 | 1,500원 | 등록일 2011.06.03

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  산화공정 (Oxidation)

  PVD법은 화학 반응을 수반하지 않는 증착기술로서 주로 금속 박막의 증착에 사용되며, 이에는 진공 증착(vacuum evaporation)법과 스퍼터링(sputtering)법 등이 ... hydroxyl을 형성1/2H2 + O - Si ↔ Si - OH산화 막의 성장방법에는 여자가지가 있는데 온도로서 구분 지어진다.200도 이하 - 양극 산화- SiO2 진공증착- 스퍼터링

  리포트 | 22페이지 | 3,000원 | 등록일 2011.05.10

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  ZnO 기판 기술현황 및 문제점

  중국)Si와 SiO2 기판상에서 각각 ZnO 에피층 성장ZnO 기판 기술적 문제점고품위의 ZnO 계열 에피층 성장기술p형 ZnO 제조 기술MBE, PEMBE, LMBE, PLD, 스퍼터링

  리포트 | 4페이지 | 2,000원 | 등록일 2011.11.30

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  Sputtering의 종류와 메카니즘

  기판이나 덩어리에 에너지를 가하여 운동에너지를 가지는 해당물징이 물리적으로 분리되어 다른 기판에 쌓이게 함으로 박막층이 만들어지게 하는 방법을 물리 기상증착법(PVD)이라고 한다.크게 스퍼터링 ... 스퍼터링(sputtering)고 에너지의 입자를 원하는 박막과 동질인 물질로 이루어진 기판에 충돌시켜 그곳으로부터원자와 분자가 떨어져 나와 박막을 만드는 방법을 말한다.VLSI의 금속 ... 박막 증착에 많이 사용되어지며, 경우에 따라서 Si, SiO2 등의 박막형성에도이용된다.스퍼터링 방법은 다음과 같은 장,단점이 있다.장점:- 넓은 면적에서 균일한 박막두께 증착 가능

  리포트 | 12페이지 | 1,000원 | 등록일 2003.09.11

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  정전분무증착, SOFC증착

  스퍼터링법 (sputtering Method)이 방법은 고에너지를 가진 입자를 고체의 표면에 충돌시킨 다음 고체 표면의 원자와 분자가 운동량을 교환하여 표면에서 밖으로 튀어나오는 방법으로 ... 입사로 인한 기판의 손상과 높은 작업 압력 때문에 박막의 순도가 떨어지는 단점을 가지고 있다.라디오파 스퍼트링은 거의 모든 종류의 물질을 증착할 수 있는 장점이 있지만, 라디오파 스퍼터링시

  리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.10.01

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