"스퍼터링" 검색결과 401-420 / 774건

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  [기계공학실험] 마이크로 표면 측정

  종류를 살펴보면 스퍼터링 (Sputtering), 전자빔 증착 법(E-beam evaporation), 열 증착 법 (Thermal evaporation), 레이저 분자 빔 증착 법

  리포트 | 10페이지 | 2,500원 | 등록일 2013.09.06

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  증착법의 원리와 특징

  장치개념이 가능한 점 등등, 공업생산에 대단히 적합하기 때문에, 과거 10여년 사이에 절삭공구분야를 중심으로 경질내마모 피막 코팅의 양산수단으로서 급속히 이용되기 시작했다.(4) 스퍼터링법스퍼터링법 ... 스퍼터링법은 고체표면에 이온을 충돌시텼을 때에 일어나는 여러 현상가운데서, 고체를 형성하는 입자가 튀어나온다. ... 이 방법에 의하면 스퍼터링법등에 비해, 치밀하고 밀착력이 큰 DLC피막을 얻을 가능성이 있다. 더욱이 본 원리에 의한 DLC성막에는, CH₄가 주로 쓰이고 있다.

  리포트 | 12페이지 | 2,500원 | 등록일 2008.04.21

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  SIMS (Secondary Ion Mass Spectrometry)

  의해 이온화되지 않으므로 분석 불가능.이온화 효율 : 스퍼터링에 의해 특정 원소가 이온화 되는 정도.SIMS의 원리(4)...PAGE:13질량분석.- 일반적, 고체시료를 화학적 처리과정 ... 표층부의입자들에 전파되어 일부 입자들은결합팔(bonding)을 끊고 시효에서방출되는 현상.- 액체나 기체 시료는 분석 불가능.- 고체 시료의 경우, He, Ne, Ar 등 불활성기체는 스퍼터링에 ... 이용Duoplasmatron과표면이온화 일차이온 발생장치등을 이용.Duoplasmatron: 산소이온을 발생시키기 위해.표면이온화 일차이온 발생장치: 세슘을 발생시키기 위해...PAGE:12스퍼터링

  리포트 | 32페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.06.29

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  때려내기에 의한 박막증착

  때려내기에 의한 박막 증착이번 실험에서 우리는 다음과 같은 조건에서 구리의 박막을 증착시켰다.TargetCopperSubstrate (name-orientation)SiDistance between Target and Substrate (cm)3Chamber press..

  리포트 | 2페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.01.31

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  CVD를 사용한 유리기판에 증착된 화합물 반도체 B13P2

  결과 및 고찰박막의 XRD 결과스퍼터링 시간에 따른 원자의 농도5. ... . * MgO의 단점 - 가시광선 대역에서 투과도가 불안정 - 흡수성이 높아 H2O와 같은 불순물의 흡착 - 방전 스퍼터링에 의해 형광체의 색도의 변함.1.

  리포트 | 13페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.12.11

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  온도센서

  SiC는 기계적 강도, 내열성, 내부식성이 뛰어난 매우 안정한 재료고서 고주파 스퍼터링법에 의해 SiC 단결검에 버금가는 안정성을 가진 박막을 얻을 수 있다. ... SiC는 기계적 강도, 내열성, 내부식성이 뛰어난 매우 안정한 재료고서 고주파 스퍼터링법에 의해 SiC 단결검에 버금가는 안정성을 가진 박막을 얻을 수 있다. ... 박막 써미스터는 알루미나, Si 웨이최 등의 기판 위에 스퍼터링(sputtering) 또는 진공증착(evaporation) 등의 방법으로 감열체및 전극을 약 0.1~10의 두께로 형성한

  리포트 | 27페이지 | 3,000원 | 등록일 2010.04.30 | 수정일 2018.04.26

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  압전에너지 하베스팅기술

  압전박막을 결정화하는 3 가지 주요 단계 증착할 원자 혹은 분자 종의 생성 이들을 기질에 이송 및 응축 열처 리 화학적 방법 ( 화학 증기 증착 , 솔 젤 기술 등 ) 물리적 방법 ( 스퍼터링

  리포트 | 14페이지 | 3,500원 | 등록일 2011.12.08

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  DRY ETCHING

  애노드에는 스퍼터링이 없다 .

  리포트 | 26페이지 | 3,000원 | 등록일 2013.05.21

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  나노공정 정리

  스퍼터링 현상을 이용하여 고체 표면을 원자 , 분자의 단위로 제거하는 가공법 나노미터에서 마이크로미터 단위를 가공 이온 빔 가공은 어떤 소재이든 간에 정밀한 가공에 사용전자 빔 가공이란

  시험자료 | 42페이지 | 2,500원 | 등록일 2013.11.21

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  TiN-TiC코팅에 따른 절삭 성능향상

  Ti-N, Ti-C 복합처리에 따른 초경합금의 절삭성능김 영진 2007031109 김 수미 2007031041 김 보현 2005031055 임 찬영 2005031010 연 정흠 2007031110NIUNX-1-한국야금 CVD제조공정목 차개 요 초경 합금이란? 하드코팅 ..

  리포트 | 18페이지 | 1,500원 | 등록일 2009.12.08

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  메모리 반도체 제작 과정 및 이론 설명 ppt

  Chemical vapor depositionLPCVD Working pressure 0.1~10 torrPlasma LPCVDPhysical vapor deposition PVD 스퍼터링법

  리포트 | 72페이지 | 10,000원 | 등록일 2013.04.22 | 수정일 2023.04.24

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  [반도체재료] 박막증착

  축척되어 스퍼터링할 수 없는 경우에 사용한다. ... .■ 이온 스퍼터링이온 스퍼터링은 에너지를 가진 입자에 의해 표면을 bombardment하여 이때의 운동량 교환으로 고체표면으로부터 재료가 이탈, 방출되게 하는 과정이다. ... 다른 방식에 비하여 많은 면적을 동시에 피복시킬 수 있으며, 다른 스퍼터링 방식에 비하여 10배 이상의 스퍼터링 효율이 있고, 피처리물 가열온도를 낮출 수 있어서, 유리판 피복, 열반사도막

  리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2002.05.10

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  수직자기기록 방식(HDD 구조부터 수직자기기록방식의 모든것)-발표용 PPT `Perpendicular Magnetic Recording` 자성물질,하드디스크,고밀도기록

  mgnetism.htm http://moolynaru.knu.ac.kr/second_middle/04electromagnetics/03current_action/21/21c.htm [ 자성박막, 스퍼터링법

  리포트 | 24페이지 | 1,500원 | 등록일 2011.05.15

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  Flexible Display 정의(개요), 핵심 기술, 기술별 국내외 기술 개발 현황, 특허분석, 향후 시장성과 경쟁력 분석 발표 자료

  컬러 구현방법 기술 : 저온 스퍼터링 공정이 가능한 Roll-to-Roll 스퍼터 장치 효과 : 플라즈마를 1 쌍의 스퍼터 건 사이에 구속하여 타겟을 스퍼터링한다 .

  리포트 | 23페이지 | 1,500원 | 등록일 2010.03.02

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  EL 소자 용 형광체 기술

  사용한 EL소자에 관해 조사하였습니다.본 실험에서는 AlN 발광모체를 사용한 플렉시블한 EL소자를 만들기위한 연구를 진행하였고 그림에서 보시다 시피 ITO가 증착된 플라스틱 기판 위 스퍼터링

  리포트 | 9페이지 | 5,000원 | 등록일 2011.04.09

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  태양전지 역사 및 종류, 기술현황, 사례

  (sputtering) 물리적 기상 증착 - 스퍼터링은 글로우 방전에서 발생되는 정이온을 전계에 의해 높은 에너지로 가속시켜 고에너지의 정 이온이 고체의 표면과 충돌하면 고체 표면의 ... 원자 또는 분자가 표면에서 밖으로 튀어나오는 스퍼터링 현상을 이용한 박막제도 방법이다 . 21화학기상 증착 (CVD - Chemical Vapor Deposition) 화학기상 증착 ... 물리적 기상 증착 ) CVD(Chemical Vapor Deposition : 화학적 기상 증착 ) 20물리기상 증착 (PVD – Physical Vapor Deposition) 스퍼터링

  리포트 | 33페이지 | 4,200원 | 등록일 2009.10.06

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  CMOS 집적회로 제작공정

  증착막 재료의 원소가스를 기판 표면위에 흘려 원하는 박막을 형성시키는 방법화학증착법(CVD) - 실리콘 질화막, 폴리실리콘(주로 얇은 질화막)물리증착법(PVD-스퍼터링) - 금속막( ... 스퍼터링증착 - 진공조 내에 아르곤 기체를 주입 → 전장으로 이온화 → 알루미늄 같은 표적에 이온을 충돌 → 금속원자가 튀어나옴 → 큰 운동에너지를 가지고 웨이퍼에 충돌 → 견고한

  리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.04.19

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  CIGS박막태양전지

  진공증착 시켜 CIGS 박막을 제작하는 기술 장점 : 제작공정 간단 단점 : 진공장치 내부의 오염 제작비용 저렴 양질의 박막제장 용이치 않음 대면적화가 어려움 Sputtering(스퍼터링 ... CIGS에 증착 (국내 대학에서 개발)CIGS의 박막기술(국내 기술동향)MOCVD장점 → 성장박막의 물성을 매우 정밀하게 제어, 재현성이 뛰어남, 대형박막 쉽게 제작 → 동시증착과 스퍼터링법에

  리포트 | 13페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.11.11

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  전기도금과 무전해도금

  , 이온플레팅 등)기상도금도장전착도장표면가공양극산화(주로 알리미늄)화성처리식각법습식에칭건식에칭(스퍼터링)전해연마표면처리 과정탈지공정수세제청작업화성피막처리공정전기도금의 원리도금하고자 ... 등을 침투 시켜 표면을 경화 또는 기타의 방법으로 물리적 성질을 향상 시키는 방법표면처리 기술의 분류 이용분류표면처리기술박막형태전기도금무 전해도금용융도금진공증착(PVD) 진공증착(스퍼터링

  리포트 | 25페이지 | 3,500원 | 등록일 2010.06.20

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  디스플레이 물성및재료 반도체 제조공정 디스플레이 제조공정8

  웨이퍼를 가열하고 반구형태를 가진 공정실 안에서 웨이퍼를 회전시킴으로써 가열된 웨이퍼에 의해서 스텝 커버리지를 개선시킨다.문제 9번스퍼터링(sputtering) 에대해 설명하시오 답 ... 웨이퍼에 있는 균일한 막의 증착을 제어하는 능력 금속을 증착하기 전에 자연 산화막과 오염에 의한 웨이퍼 표면을 세정하기 위해서 다중실 클러스터 기술을 사용할 수 있는 능력문제 10번스퍼터링

  리포트 | 10페이지 | 2,000원 | 등록일 2009.05.20

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