"Ion Beam Sputtering" 검색결과 41-60 / 125건

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  [박막공학]이온빔의 원리와 스퍼터링

  대신 강한 ion beam 과 Electron beam 을 이용해도 Target 에대한 Sputtering 공정을 형성할수 있다. ... Beam Electron beam Sputter1.Sputtering 공정에는 Plasma 만 이용해도 가능하다. ... Ion beamIon beam SputteringIon Beam Assisted Deposition플라즈마(Plasma)란?

  리포트 | 17페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.12.27

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  진공증착과 음극스퍼터링

  Sputtering은 evaporation 이나 ion plating 과 비교해서 밀착성과 균일성이 우수하므로 얇은 피막을 입히는 전자 및 광학적 용도에 널리 사용되고 있다.1) 원리 ... 가열용해의 방법에 따라서 저항 가열식, 전자beam식, 고주파 유도식, 레이저식 등이 있다. ... 이중에 가장 큰 관심을 대상으로 Sputtering Deposion에 의한 도금이다.이 Sputtering 은 충분한 운동에너지를 가진 이온이나 원자가 물질을 두드려서 물질표면으로부터

  리포트 | 8페이지 | 1,500원 | 등록일 2010.10.11

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  박막증착 공정과 식각 공정 자료입니다.

  One is physical deposition, and another is chemical deposition.Physical deposition (Evaporation and Sputtering ... A common method for accomplishing this is electron beam (e-beam) evaporation. ... rod of material held perature at the end of the rod and creating an atomic beam.In most e-beam evaporators

  리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.06.23

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  연소 화학 기상 증착법(Combustion Chemical Vapor Deposition)

  형상의 제품에 박막을 입힐때 효과적 증발된 입자가 plasma를 통과하면서 ion화 되어 Sputter와 같이 높은 energy 를 가지며 코팅되기 때문에 박막의 접착력도좋다. ... 단점인 낮은 성막속도는 magnetron이나 ECR (Electron Cyclotron Resonance)을 이용한 Sputter로 해결 Ion-plating – 대형제품, 복잡한 ... 발광소자대규모생산성 접착력이 약함 불순물 영향이 큼화합물GaAs,InP,GaSbSputteringDC sputtering RF sputtering Magnetron sputtering Ion-beam

  리포트 | 18페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.12.17

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  MOS 소자 형성 및 전기적 성질 확인

  (Reaction Ion)을 이용하여Oxidation을 형성한다. ... 정도 담궈 준다.(5) 마지막으로 다시 DI water로 행궈주고 질소 gas를 통해 표면에 있는 물기를 제거해준다.2) Oxidation 형성 :는 열산화법을, 물질 X는 RF Sputtering ... 마지막으로 질소로 물기를 제거한다.4) electrode deposition : E-beam evaporation으로 Al을 시편 위에 증착시킨다.

  리포트 | 8페이지 | 1,500원 | 등록일 2013.05.12

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  PVD Evaporation & Sputtering 종류 및 원리,

  (가) 이온빔 스퍼터링 기술 (Ion Beam Sputtering) ... 또한 플레이팅 기술은 열속도보다도 큰 운동에너지로 가속된 원자나 이온을 증착 입자에 포함시켜 박막 형성을 하는 기술이다.기판제어기술은 에너지빔 보조기술로 이온빔보조증착기술(Ion Beam ... DepositionSputteringSputtering 일반Ion Beam SputteringMagnetronMagnetron 일반DC SputteringVHF/RF SputteringReactive

  리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.09.28

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  PVD와 CVD의 비교 및 분석

  가장 적당한 방법 (진공증착법처럼 가열 증발되기 어려운 재료에 적용)반도체 소자 제조의 배선형성기술에 사용Ion PlatingPVD법 중에서 밀착성이 가장 우수하고 수마이크로 이상의 ... 도가니 안에 금속 물질을 넣어 놓고 열을 가하면 금속물이 융점 이상의 온도에서 증발되어 나온 입자를 기판 위에 증착 시키는 기술로 박막을 제조하는 방법이다.가열방식은 주로 전자 Beam ... 장치구성진공장치, 제어부, Load Lock, 반응용기 – Main Frame전원공급부, 증착하고자하는 박막에 따라 용기안에 원하는 종류의 재료를 설치하게 되는 Target진공증착법- e-Beam을

  리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.05.15

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  박막증착 (박막공정)

  이 중 Sputtering의 경우 타겟에 박막의 원하는 물질 넣어주고 챔버 위에 이를 증착시킬 기판을 놓아둔다. ... Epitaxy)MBE (분자빔 에피탁시, Molecular Beam Epitaxy)의 경우 Epitaxy라는 성장(기판 위 얇은 막을 쌓는)이라는 기술을 통해 소스를 분자형태로 쏘아 ... 기계적인 강도가 좋다는 장점을 가지나, 박막 형성 속도가 느리고 공정중에 입을 수 있는 damage의 정도가 심각할 수 있다는 단점이 존재한다.MBE◎ MBE (Molecular Beam

  리포트 | 5페이지 | 1,500원 | 등록일 2009.04.13

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  sputtering

  박막 증착은 특히 반도체 산업에서 핵심적인 분야인데 그동안 이온 빔(ion-beam), 전자 빔(electron-beam) 또는 RF (Radio-Frequency) 스퍼터링(sputtering ... ■ Sputtering이란 무엇 인가? ... 강화된 이온 충돌(2:1)(6) 기판 지역의 이온 충돌discharge current에 선형적 비례계의 총 압력에 큰 영향을 받지는 않는다.(7) target/기판 거리 ↑ → ion

  리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.03.24

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  [LCD실험] Color filter 제작 및 분석

  이는 측정 하려는 용액의 농도에 따라 변하므로 흡광도 A=log(1/광계수, c : 몰농도, l : 샘플의 길이 )공정 process1)증착(Deposition)1) Sputtering ... 산(acid) 계열의 화학 약품을 이용하여 thin film layer의 노출되어 있는(PR pattern이 없는) 부분을 녹여 내는 것을 말하며 dry etching이라 함은 ion을 ... 물질의 target으로부터 입자를 떼어내어 특정 기판상에 옮겨 붙이는 공정이다.2) Evaporation: evaporation의 방법으로는 thermal evaporation과 e-beam

  리포트 | 9페이지 | 10,000원 | 등록일 2013.06.14

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  [OLED, LED] Sputtering을 이용한 박막 증착

  박막증착은 특히 반도체산업에서 핵심적인 분야인데 그동안 이온 빔(ion-beam), 전자 빔(electron-beam) 또는 RF(Radio-Frequency) 스퍼터링(sputtering ... 이처럼 ion이 물질의 원자간 결합에너지 보다 큰 운동에너지로 충돌할 경우 이 ion충격에 의해 물질의 격자간 원자가 다른 위치로 밀리게 되며, 원자의 표면 탈출이 발생하게 되는 현상을 ... Sputtering을 이용한 박막 증착1. 실험목적Sputtering을 이용하여 박막을 증착해보고, Sputtering의 특성을 파악해본다.

  리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.11.05

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  Thermal Evaporation법을 이용한 박막의 제조 예비

  이 분류 중에는 진공증착, 분자선증착, Sputtering, ion plating, ion beam deposition 등이 포함된다.⑴ 진공증착법진공 용기 내에서 원하는 물질을 가열해서

  리포트 | 10페이지 | 1,500원 | 등록일 2013.03.08

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  PVD와 CVD

  그러나 실제 PVD 법에는 여러 가지 방법들이 포함됩니다.대표적인 PVD 코팅법에는 Evaporation, Sputtering, Ion Plating이 있으며 이들 각각에 대한 장치의 ... 증착되는 방법2) Sputtering ProcessPlasma 내의 양이온이 전장에 의해 가속되어 코팅될 물질(target)의 표면을 강하게 치면 target의 원자가 운동에너지를 ... 이들 각 방법에 대한 원리는 간략히 다음과 같습니다.1) Evaporation Process코팅될 물질이 열이나 전자 beam 등에 의해서 증발되어 직선적으로 운동하다가 모재에 충돌하면서

  리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.09.27

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  열처리 온도에 따른 비저항 변화 및 silicide 형성관찰

  이것은 크게 Evaporation Process, Sputtering Process, Plasma Assisted PVD(Ion Plating) 3가지로 나누어진다.첫 번째로 Evaporation ... process는 coating 재료를 여러 가지 방법(direct resistivity, radiation, arc discharge 또는 electric beam)으로 가열 하여 ... 또 다른 특징으로 Sputtering에 의한 모재 표면의 청정화이다.

  리포트 | 6페이지 | 2,000원 | 등록일 2007.09.20

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  SIMS (Secondary Ion Mass Spectrometry)

  beam sourceSource주로 비활성기체를 사용Positive charged ions (Ar+, Xe+)Negative charged ions (Ar , Xe)or N2+, ... 표면정보 (성분 및 조성)을 얻을 수 있는 분석법...PAGE:8SIMS의 원리(1).기본원리.5~20KeV 에너지를 가진이온빔을 고체 sample표면이나내부의 원자들을 이온화 상태로Sputtering한 ... 이용Duoplasmatron과표면이온화 일차이온 발생장치등을 이용.Duoplasmatron: 산소이온을 발생시키기 위해.표면이온화 일차이온 발생장치: 세슘을 발생시키기 위해...PAGE:12스퍼터링(Sputtering

  리포트 | 32페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.06.29

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  박막 증착 기술 (Thin Film Deposition Technology)

  Beam DepositionSubstrateTargetAr+Ion Beam Sputter GunIon Beam Assist Gun++++++++++IBSD The ion beam ... Conventional Sputter Deposition Advantages of Ion Beam Deposition Application of Ion Beam Deposition ... Technology Process of Ion Beam Deposition IBD vs.

  리포트 | 15페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.03.21

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  [반도체A+자료]RIE(Reactive Ion Etching)에 관한 모든것

  etching, RIE) 이온 빔 밀링(Ion beam milling)장치Dry etchingRIEIon beam millingPlasma etching물리적요소화학적요소플라즈마 ... RIE (Reactive Ion Etching)Etching의 정의, 방법 Dry etching의 개요, 분류 Plasma etching, Ion beam milling Reactive ... 식각반응식 CF4 C + 4F4* SiO2 + 4F4 SiF4 + O2 F* : F radical플라즈마SiO2F*CF4SiF4O2F*SiF4O2이온 빔 식각Sputtering과 비슷한방법

  리포트 | 16페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.01.29

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  [공학기술]박막증착 기술보고서<스퍼터링&CVD>

  이론적으로 배웠던 스퍼터링의 종류에 DC planar diode 스퍼터링, Triode 스퍼터링, Magnetron 스퍼터링, RF 스퍼터링, Ion beam 스퍼터링 기술 등이 있다 ... 공정의 단점인 낮은 증착 속도를 높일 수 있어 대부분의 Sputtering 공정에서 이용되고 있는 추세이다.박막증착이 특히 핵심적인 분야인 반도체 산업에서는 RF 스퍼터링 혹은 Ion ... beam 스퍼터링 기술을 이용해왔으나 최근에 엑시머 레이저를 이용한 방법도 개발을 하고 있다.3.

  리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.06.14

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  반도체공정기술

  :고체표면에 고에너지의 입자(전장으로 가속된 정이온)를 충돌시켜 고체표면의 원자or 분자가 충돌입자와 운동량을 교환하여 표면 밖으로 튀어나오는 현상·SPUTTER:Sputtering현상을 ... - Positive PR : 빛을 받은 부분이 Deverop됨.Negative PR : 빛을 안받은 부분이 Develop됨.3.ETCH용어·DRY ETCH:Gas나 Plasma, Beam등을 ... ·DOSE:Ion Implantation등 충격에 의해서 반도체의 불순물을 주입하는 것을 DOSE라고 하며, 그주입량을 DOSE량이라 한다.

  리포트 | 6페이지 | 1,500원 | 등록일 2009.09.12

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  CVD&PVD

  (Sputtering), 전자빔증착법 (E-beam evaporation), 열증착법 (Thermal evaporation), 레이저분자빔증착법 (L-MBE, Laser Molecular ... 이처럼 ion이 물질의 원자간 결합에너지 보다 큰 운동에너지로 충돌할 경우 이 ion 충격에 의해 물질의 격자 간 원자가 다른 위치로 밀리게 되며, 원자의 표면의 탈출이 발생하게 되는 ... 가열 방식은 주로 전자 Beam 가열 방식이 주류를 이루고 있다.

  리포트 | 5페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.05.01

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