"Soft Lithography" 검색결과 41-60 / 119건

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  soft lithography의 이해 및 응용 <결과보고서>

  soft lithography의 이해 및 응용[실험 결과 문제]a.

  리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2016.12.22

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  [재료공학]Photolithography and Hall effect

  Soft Baking 공정PR의 점착(adhesion)을 좋게 하는 과정이다. PR의 구성성분 중 하나인 solvent를 제거하게 된다. ... resist라 하는데, negative lithography는 이 resist를 이용한다. ... 형상된 PR막이 굳고 나면 결합이 끊어진 PR액을 세척해 제거한다.1) Soft Baking 공정과 차이점① 열에 의해 생기는 감광막이 노출에 대한 영향을 고려할 필요가 없다.② Bake

  리포트 | 8페이지 | 3,000원 | 등록일 2018.09.10 | 수정일 2020.08.05

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  PDMS 패턴 예비

  제목Benchtop Nanoscale Patterning Using Soft Lithography2. ... 목적Soft Lithography에 흔히 사용되는 PDMS를 이용하여 nanoscale master를 만들어 본다.3. ... 원리Soft Lithography기존의 nano pattern 제조공정은 그 비용이 비싸고 크기 역시 기술적 한계에 의해 만족할 정도로 작게 만들지 못하는 치명적인 단점이 존재한다.

  리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.04.19

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  포토리소그라피 공정 반도체 실험 과정과 결과물

  ‘Soft Contact’, ‘Vacuum Contact’, ‘Hard Contact’, ‘Proximity’의 방법이 있다. ... 오염을 방지하고 감광제 반응 특성을 일정하게 유지하기 위함인데 일반적으로 90��110도 정도로 가열하여 용매를 제거하고 PR의 밀도를 높여서 환경 변화에 대한 민감도를 줄이게 된다.Soft ... clear field mask는 gate나 metal interconnating 후에는 감광제에 남아있는 유기 용매(Sorvent)를 제거하고 접합을 향상시키기 위해 건조 과정인 Soft

  리포트 | 22페이지 | 4,000원 | 등록일 2019.02.28 | 수정일 2021.07.07

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  나노임프린트-soft nano lithography

  Soft Nano imprint Lithography 기술의 장? ... 단점Soft Nano imprint Lithography는 딱딱한 재질이 아닌 연성의 재질인 PDMS 몰드를 스탬프로 사용하여 원하는 조성의 화학물질을 기판상에 전이시킴으로써 원하는 ... contact)을 이루면서 패턴을 전사할 수 있으며 Master stamp의 degrading을 방지할 수 있음은 물론, 비구면에 패턴 형성이 가능한 것과 같은 많은 장점들을 가진다.Soft

  리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.11.30

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  나노임프린트-soft nano lithography의 이해

  Soft NanoImprint Lithography 공정시 유의해야 할 사항-위에서 말한바와 같이 PDMS 몰드를 이용한 Soft Nanoimprint Lithography는 PDMS를 ... Soft Nano imprint Lithography 기술의 장단점-나노임프린트 리소그래피는 누르고자 하는 고분자 층에 빛을 조사하여 화학구조를 변형시키는 노광공정과는 달리 열적으로 ... 현재까지 이 스템프의 한계를 극복하기 위한 여러 가지 방안으로써 Soft nanoimprint lithography 는 PDMS를 사용하는 것이고 앞으로 이 스템프의 단점들을 보완할

  리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.11.30

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  [재료공학실험]리쏘그래피 (lithography)

  Soft nano imprint lithography 기술의 장, 단점Soft lithography는 고분자 스탬프 표면에 있는 패턴 형상을 기판에 전사하는 모든 방법을 통칭하는 기술이다 ... 그 종류에는 여러가지가 있는데 그중 soft nano imprint lithography는 기존의 nano imprint lithography에서 문제되었던 고가의 si, quartz ... 손쉽게 복제가 가능한 고분자 스탬프를 마스터스탬프로부터 복제하고 nano imprint lithography 공정에 사용함으로써 마스터 스탬프의 열화를 방지하는 기술이다.

  리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.05.24

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  반도체 제조공정

  WaferSiO2Photo ResistIllumination lightMASKNegative photolithographyLithography 공정CoolingHMDS 도포P / R 도포Soft ... Q AOverview 반도체 제조공정 분류 Oxidation 공정 Lithography공정 Etching 공정 Ion Implantation공정 CVD공정 Metallization공정 ... Solvent 제거가 목적이다 Solvent 잔류할 경우: 노광 시 막 내성이 약화되고 P/R두께가 계속 변함S/B로 Wafer가 팽창되어 있는 상태에서 노광하면 OVERLAY 발생Lithography

  리포트 | 19페이지 | 3,000원 | 등록일 2018.08.29 | 수정일 2018.09.04

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  마이크로니들 패치의 soft lithography적 접근

  나노생명공학 ReportRapidly-Dissolvable Microneedle Patches Via a Highly Scalable and Reproducible Soft Lithography ... 논문에서 사용한 PRINT process는 soft lithography의 ‘top-down’ 방법과 기존의 polymerization을 결합해, 크기, 모양, 화학적 구성을 조절할

  리포트 | 3페이지 | 1,500원 | 등록일 2019.01.03

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  [재료공정] 소프트 리소그라피

  [Soft Lithography]1. ... Whitesides 교수에 의해 최초로 soft lithography 개념을 도입(4) Soft lithography using PDMS- 실리콘계 고무인 poly(dimethylsiloxane ... PDMS 제작 공정- 여러 종류의 Soft Lithography에서 공통적으로 쓰이는 Elastomer mold는 일반적으로 PDMS로 만들어진다.

  리포트 | 3페이지 | 무료 | 등록일 2005.04.01

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  생산공학 연세대 기말고사대비 자료 중요예상문제 및 답안 정리 [A+]

  : 빛에 반응하여 조직이 바뀌는 폴리머 + 감광제 + 감광제와 함께 점도를 조절하는 용매Negative PR은 현상과정에서 현상액에 의해 팽창되어 해상도가 낮아지는 단점이 있다.Soft ... Photo lithography로 몰드를 제작하는 과정을 도식화해서 설명하라.1. 일반적인 포토리소그래피포토리소그래피는 빛을 이용하여 돌판에 그림을 그린다는 의미이다. ... 패터닝이 가능하다. beam focusing 기술과 정밀 제어 기술이 필요하다.전자빔, 이온빔 리소그래피는 진공에서 진행되므로 장비가 매우 복잡해지고 공정시간도 길어진다.Photo lithography로

  리포트 | 6페이지 | 3,000원 | 등록일 2019.06.30 | 수정일 2020.04.07

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  PLED소자제작 결과레포트

  Photo-lithography : 감광액을 Coating한 Substrate에 빛을 조사하여 원하는 Image를 형성하는 기술* Micro-lithography : 미세 Pattern형성을 ... Photo resist를 Coating 한 후, 이 기판 위에 미리 Pattern이 형성된 Photo Mask를 진공으로 밀착시키거나(Contact printing), 가볍게 접합(Soft ... 또한 열처리를 해주면 PR박막과 ITO면 사이의 계면 간격을 좁혀주어 접착력을 높여준다. 100℃에서 10분 동안 실시하여 준다.③UV 노광Soft baking을 마친 ITO glass는

  리포트 | 12페이지 | 1,500원 | 등록일 2016.07.15

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  패터닝 예비보고서(학부 실험)

  세정해야한다.2) 표면처리(HMDS) : 웨이퍼 표면을 화학 처리하여 감광액의 접착성을 증가시킨다.3) 감광액 코팅 : 감광액을 웨이퍼 표면에 마이크로 단위로 코팅하는 공정4) Soft ... Experimental details(1) 산화막(SiO2)의 패터닝(patterning) - Lithography 공정(2) 패턴된 산화막의 표면 색깔과 패턴 모양 관찰 - 광학 ... 주로 진공 증착법이 많이 사용된다.(3) Lithography리소그래피는 돌 표면에 새긴 그림이라는 의미의 기술로서 전체적인 반도체 노광 공정 기술로 쓰이며 미세화의 아주 중요한 기술이다

  리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2018.06.17

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  PDMS 패턴 결과

  제목Benchtop Nanoscale Patterning Using Soft Lithography1.

  리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.04.19

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  sams (Self-Assembled Monolayers )

  [Soft Lithography 의 종류]Ⅰ. ... 제작을 위해서는 반도체와 절연체, 그리고 금속의 박막을 차례로 증착하여 만든다.Soft lithography PDMS[Soft Lithography란?] ... Soft lithography PDMS 7. Microcontact Printing 8. Decal-transfer Printing(DTP) 9.

  리포트 | 59페이지 | 2,000원 | 등록일 2009.05.11

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  ITO Pattering 공정 예비레포트

  Photo resist를 Coating 한 후, 이 기판 위에 미리 Pattern이 형성된 Photo Mask를 진공으로 밀착시키거나(Contact printing), 가볍게 접합(Soft ... Photo-lithography : 감광액을 Coating한 Substrate에 빛을 조사하여 원하는 Image를 형성하는 기술* Micro-lithography : 미세 Pattern형성을 ... Photo lithography에 사용하는 각 공정의 원리와 공정 시 주의점을 습득한다.3.

  리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2016.07.15

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  재공실 - 은 나노 잉크 예비보고서

  Soft Lithography 등으로 다양하게 나눠진다. ... Lithography 공정은 E-Beam Lithography, UV Lithography, Soft Nano Imprint Lithography, Photo Lithography, ... Lithography 공정은 반도체 전체 공정의 30%이상을 차지하는 단위 공정으로, 웨이퍼위에 후속 에칭 공정의 방어막 역할을 하는 유기물의 특정 패턴을 적절한 파장의 빛과 마스크를

  리포트 | 6페이지 | 2,000원 | 등록일 2013.10.29

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  홍익대학교 화학공학과 화공기초실험 MEMS 실험(예비보고서)

  / Soft lithography란? ... 가격이 저렴하고 생체 적합성이 있으며, 밀폐력이 좋아 마이크로플루이딕 시스템에 적합하열 하여서 용배 성분을 날리고 딱딱하게 굳어지는 원리를 말한다.○ Photo lithography ... : 나노미터에서 마이크로미터 크기의 미세한 구조를 제작할 수 있으며, Photolithography / soft lithography 기술을 이용하여 제작된 센서, 밸브, 기어, 반사경

  리포트 | 9페이지 | 1,000원 | 등록일 2015.10.10

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  7세대 노광기(Stepper) 설계 [정밀기계공학 레포트_논문형식]

  Soft Lithography와 Nano imprinting 방법은 인쇄기법과 비슷하게 접촉을 통하거나 molding을 이용하는 면에서 보다 기계공학적이라고 할 수 있다. ... 따라서 향상된 나노패터닝 공정을 개발하기 위해 여러 가지 비전통적 나노리소그래피들이 연구되고 있다.Election Beam Lithography, Extreme UV Lithography ... , X-ray Lithography는 기존 공정에서 사용하는 UV light 파장보다 작은 파장을 이용하여 나노 패터닝을 구현하려는 시도이다.

  리포트 | 7페이지 | 2,000원 | 등록일 2014.06.21 | 수정일 2017.05.14

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  [OLED, LED] Photolithography를 이용한 ITO Pattern 제작

  이때 spin coater의 조건은 500rpm(5초), 2000 rpm(30초), 800 rpm(10초)로 세팅해 놓고 코팅한다.④ PR을 굳히기 위해 Soft baking(110 ... 자주 행하는 공정인데, 크게 PR coating 후의 soft baking, 노광 후의 post exposure baking(PEB), 현상 후의 hard baking이 있다.⑦ SOFT ... 실험원리lithography의 과정① Lift off 고정과 Lithography 공정 비교- Lift off 고정Lift-off공정이란 반도체 공정중 Etching(식각) 공정중에

  리포트 | 8페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.12.19

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