"리소그래피 이빔" 검색결과 61-80 / 124건

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  [공업화학실험] 식각실험 예비보고서

  광 리소그래피 공정마스크 상의 패턴을 웨이퍼 위에 옮기는 공정을 광 리소그래피라고 부르며, 이러한 광 리소그래피 공정을 5~20번 반복함으로써 집적 회로 칩을 완성하게 된다. ... 등방성 식각 성질을 나타내며, 이온빔의 충돌로 인해 발생하는 방사손상이 발생하지 않는다. eon분의 원통형 식각 장치는 0.5~2.0torr의 고압에서 작동된다.2) 하류 식각장치 ... 먼저 광 리소그래피 공정을 하기 위해서는 마스크가 필요하다. 마스크는 크롬이나 산화철 같은 물질이 박막으로 덮여진 얇은 유리판으로 만들어진다.

  리포트 | 12페이지 | 2,000원 | 등록일 2010.07.23

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  SiO2 박막의 식각 및 PR 제거 [예비]

  lithography등이 있다.리소그래피는 포토레지스트를 도포하는 공정으로 시작해 노광, 현상, 에칭, 포토레지스트 제거에 이르는 일련의 프로세스이다. ... 하지만 광학 리소그래피에 비해 높은 가격을 갖기 때문에 웨이퍼 제작에 널리 사용되지 않는다.X-ray 리소그래피의 시스템의 구성은 X-ray를 전달하는 금속 위의 X-ray흡수금속으로 ... Wafer에 Mask패턴을 주사하여 빛에 의해 미세패턴을 형성하는 photolithography와 전자빔에 의한 Electron Beam Lithography, X선에 의한 X-ray

  리포트 | 13페이지 | 1,500원 | 등록일 2010.11.07

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  예비보고서. 은 나노 잉크를 이용한 잉크젯 프린팅

  이 기술의 핵심은 짧은 파장의 빛을 사용하여 정밀도를 높이는 것으로, 처음에는 가시광선, 자외선을 사용했으나 최근에는 전자빔을 사용해 더 미세한 패턴을 만든다.3) lithography ... 잉크젯 프린트 공정을 적용하였을 경우 얻어지는 장점1) 기존 반도체 제조공정의 핵심인 “리소그래피(Lithography)”는 서로 다른 회로 모양을 층층이 쌓아가며 원하는 구조의 다층 ... 이는 종이에 일시적인 전극을 띄워 잉크와 인력이 생기게 하는 방식이다.

  리포트 | 6페이지 | 1,500원 | 등록일 2012.07.22

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  생산기술의 변화

  리소그래피(전자빔, 이온빔, x-ray, UV 등), 박막 적층 및 성장, polymer molding, 기계적 방법(절삭가공, 연삭, 래핑, 폴리싱) 및 전기화학적 방법 등이 대표적인 ... 그러나 우리는 상향식 접근의 핵심 과정 중에 하나인 자기조립(self-assembly)에 대해 논의할 것입니다.- 자기조립나노 기술은 고전적인 하향식 리소그래피와 공학기술(리소그래피와 ... 소프트 리소그래피(마이크로콘택트 프린트, 나노임프린트 등), 자기조립, 로봇조립, 템플리트 성장 등이 대표적인 상향식 공정들입니다.

  리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.04.06

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  노광공정 및 식각공정

  이러한 리소그래피로는 전자빔, 이온빔, 엑스선 등을 광원으로 이용 하는 리소그래피가 있음.전통적인 리소그래피 - 트랜지스터1. ... 전통적인 리소그래피의 정의 리소그래피의 분류 : 광학 리소그래피, 비광학 리소그래피 광학 리소그래피 : 자외선, 전자빔, 엑스선 등을 광원으로 이용하는 리소그래피 전통적인 리소그래피 ... 이식 실리콘 표면에 도펀트를 침투시키는 다른 방법임. 이온 빔으로 실리콘 표면에 충격을 가해 도펀트를 침투시킴.

  리포트 | 29페이지 | 2,500원 | 등록일 2007.05.09

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  플라즈마 생성과 응용

  강력한 EUV를 내는 광소스는 리소그래피에 사용되며 전자빔, 이온빔과 같은 전하입자 빔은 핵융합, 환경산업 등에 사용되고 있으며, 또한 기존의 플라즈마 소스의 약점을 극복하여 새로운 ... 응용분야 중성입자 빔의 응용분야로는 차세대 반도체 공정에서 나노 스케일 반도체 식각 장비, 나노 스케일 증착 공정 및 나노 스케일 리소그래피(Lithography) 공정에서 사용되며 ... 개념의 플라즈마 소스로 대체하는 기술입니다.

  리포트 | 15페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.09.29

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  LED 발전 과정, 최신 동향, 기초 이론, 제조 공정, 측정 분석

  발전 과정 LED 최신 동향 LED 기초 이론 LED 제조 공정 Ⅵ LED 측정 분석 구성 및 목차 Ⅰ 발표분담Ⅰ 발표분담 Wafer 공정 초크랄스키 법 키로플러스 법 FAB 공정 리소그래피 ... 발광현상Ⅱ LED 발전 과정 1900 2010 올레그 로제프 SiC 의 발광현상 관측 1923 년 위를 통해 , 비소화갈륨 p-n 접합에서 고 발광효율이 발견 발광현상에 대한 본격적인 ... Room-temp PL / Low-temp PL ELⅥ LED 측정 분석 SEM Room-temp PL / Low-temp PL EL Scanning Electron Microsocopy 전자빔

  리포트 | 82페이지 | 5,000원 | 등록일 2012.12.24

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  화학신소재개론

  연구개발용 전자빔 리소그래피 장치에서는 서브 0.1 μm 영역의 패턴리고해상도의 패턴을 제작할 수 있는 대체 기술이 개발되었지만, 이러한 기술은 이번에 개발된 기술에 비해 너무 느리다 ... 가우스 빔 방식은 주사전자현미경과 같이 전자총의 소스(crossover)를 자계렌즈로 축소하여 시료면상에 미세 spot 빔 을 형성하는 것으로, 높은 밝기로 probe전류를 크게 얻을 ... Electron beam을 이용하여 프로젝션 형태의 lithography기술의 개발을 말한다. electron beam lithography장치는 lithography방식에 따라 가우스 빔(

  리포트 | 12페이지 | 2,000원 | 등록일 2011.12.17

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  증착법, 스퍼터링, 박막 공정 (THIN FILM PROCESS)의 기초

  박막 증착의 종류 물리 기상 증착법(Physical Vapor Deposition, PVD) 화학 기상 증착법(Chemical Vapor Deposition, CVD) 분자 빔 결정법 ... Thin Film Processing목 차박막 증착물리 기상 증착법(PVD)화학 기상 증착법(CVD)개 요개 요박막 공정의 정의 박막 증착과 포토리소그래피 기술을 이용하여 원하는 형상의 ... cleaning)포토리소그래피 (photolithography)증 착 (deposition)식 각 (etching)박막 증착(Thin Film Deposition)박막 증착의 정의

  리포트 | 41페이지 | 5,000원 | 등록일 2007.10.17 | 수정일 2014.08.27

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  분야별유비쿼터스

  톱다운 방식을 이용한 나노선 FET 바이오센서는 Hewlett-Packard의 Williams 연구팀에서 초기 연구가 이루어졌는데, 전자빔 리소그래피를 이용하여 나노미터 스케일의 선폭을 ... 타개할 수 있는 방법은 리소그래피와 식각 기술을 이용한 톱다운(top-down) 방식의 실리콘 반도체 제작 공정을 사용하는 것이며 이는 기존의 CMOS 공정을 그대로 활용할 수 있어 ... 것이다.

  리포트 | 28페이지 | 2,000원 | 등록일 2011.10.04

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  Bioelectrochemistry

  ·초전도(超電導)박막 등이 진공증착법(증기 건조법)을 위시하여 전기도금법, 기체 또는 액체 속의 산화법, 화합물 열분해법, 전자빔 증착법, 레이저빔 증착법 등에 의해 만들어진다. ... 포토리소그래피(Photolithography)1) Photoresist coat(PR 코팅)PR coating이라 함은 분사된(dispense) liquid(액상) PR을 높은 회전수로 ... process에 대해 모두 논의할 수 없어 thin film HIC의 공정을 중심으로 소개하도록 한다.박막의 형성에는 '세척 (Cleaning) - 증착 (Deposition) - 포토리소그래피

  리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.05.21

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  갈륨비소

  템플릿기술은 단백질+금속복합체(바이오 컨쥬게이트)의 자기복제화와 중성입자 빔 에칭기술을 이용함으로써 처음으로 실현 가능한 미세가공 기술이다. ... 범위의 파장을 가진 빛을 전력으로 변환하거나 보다 단색화된 고강도 빛을 저역치에서 온도 의존성이 없이 발광하는 것을 기대할 수 있기 때문에 그 실용화가 검토되고 있다.그러나, 종래의 리소그래피 ... 그 후, 단백질만을 제거한 금속 미립자를 가공 마스크로서 중성입자 빔에 의한 무손상 에칭을 수행하여 나노미터 크기의 갈륨비소 원반구조를 2nm 간격으로 고밀도 배열시킨 구조를 형성시켰다.바이오

  리포트 | 23페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.02.12

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  photolithography

  사진 기술을 응용한 것이어서 포토리소그래피라고도 한다. ... 기판에 포토마스크(원판)를 통해 자외선을 조사하면 포토마스크에 새겨진 IC의 패턴이 포토레지스트에 전사된다. 1m보다 미세한 패턴을 형성하려면 자외선으로는 한계가 있어 X선이나 전자빔의 ... 이 과정이 photolithograpy에 있기 때문에 photoresist가 사용되는 것이다.

  리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.06.28

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  신의손) 현장실습 결과보고서

  바로 ○○○○○○에서의 인턴생활이었습니다. 저는 이곳에서 크게 두 가지를 배웠습니다.첫째, 포토리소그래피입니다. ... 그리고 필라멘트를 예열하는 이유는 Gun에서 전자빔을 쏠 때 한 번에 아주 높은 Voltage를 쓰게 되니까 Shut-Down이 될 수 있기 때문에 미리 예열하는 것입니다. ... 따라서 필라멘트를 예열한 후 Gun과 필라멘트에 동시에 Voltage를 넣어서 전자빔을 쏘게 됩니다.

  서식 | 4페이지 | 500원 | 등록일 2014.08.18

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  rp의 종류

  이것은 사용가능한 작업재료의 관점에서, 스테레오리소그래피보다 더 용도가 넓은 공정이다. ... 층 두께는 보통 0.075에서 0.50mm정도이다.SLS는 스테레오리소그래피에 대한 대안으로서 Texas대학(Austin)에ㅓ 개발되었고, SLS기계는 현재 DTM사에 의해 판매되고 ... (b)레이져빔으로 둘레를 따라서 자르고, 둘레 외부는 해칭절단을 하여 나중에 제거되도록 한다. 레이저는 전형적으로 25내지 50W의 CO2레이저이다.

  리포트 | 6페이지 | 1,500원 | 등록일 2009.01.19 | 수정일 2014.02.04

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  [공학]반도체 공정중 포토 공정

  리소그래피의 종류에는 포토리소그래피, 전자빔 리소그래피, X선 리소그래피가 있는데 이번 실험에서는 포토 리소그래피에 대해서 알아보았다. ... 리소그래피 기술은 초미세 인쇄기술이라고도 한다. ... Report- 에너지 신소재 실험과 목 :에너지 신소재 실험담당교수 :정승부 교수님학 부 :신소재 공학부학 번 :성 명 :* 포토 리소그래피 (Photo Lithography)- 리소그래피

  리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.12.25

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  [공학]나노패터닝기술의종류와 방법

  E-Beam 리소그래피전자빔을 substrate에 주사하여 패터닝을 하는 방식이다. ... 전자빔 리소그래피를 이용하여 나노 크기의 구조를 전사하고, 이를 반복 사용함으로써, E-Beam 리소그래피의 생산성 문제를 극복하는 것이다. ... E-beam 리소그래피는 가장 많이 연구되어 왔고, 앞으로도 가장 가능성이 있는 리소그래피 기술이다.

  리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.09.18

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  Soft Lithography 와 그의 특징, 종류 및 장․단점,PDMS 물질의 장·단점

  또는 나노스케일 패턴 구현을 위해 전자빔 리소그래피, 레이저 간섭차를 이용한 리소그래피 등이 사용되고 있다. ... 참조)우선 실리콘 웨이퍼 표면에 전자빔 리소그래피를 이용하여 양각 패턴이 새겨진 마스터를 만들고 고무 중합체인 PDMS(Polydimethylsiloxane)의 화학적 전구체를 생성된 ... 리소그래피에 적합한 재료가 요구된다.

  리포트 | 9페이지 | 2,500원 | 등록일 2007.02.21

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  [재료공학실험, 반도체]Lithography

  이온 빔 리소그래피 이온들이 더 큰 질량을 가지고 있어서 전자보다 적게 산란하기 때문에 이온 빔 노광은 광학, 엑스선, 전자빔 노광보다 더 높은 해상도를 얻을 수 있다. . ... Lithography / 리소그래피Lithography(리소그래피)는 반도체 집적 회로를 반도체표면에 그리는 방법 및 과정을 통칭하며, 초미세 인쇄 기술이라 말할 수 있다. lithography ... 리소그래피 종류1.Eletron Beam Lithography (전자빔리소그라피)E-beam Lithograph는 반도체 웨이퍼 위에 전자에 예민한 성질을 가지고 있는 레지스트 (resist

  리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.06.28

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  나노테크놀러지를 읽고

  여기에는 진공 자외선 레이져, 연엑스선, 전자 빔 리소그패피, STM/AFM이 이용된다. ... 리소그래피에서 빛의 회절 한계라는 벽을 타파하고 더한층 미세 가공 기술을 확립하기 위해 2가지 어프로치를 취하고 있다. ... LSI의 개발 및 제조하려면 리소그래피에 의한 미세 가공을 이 나노 스케일로 할 필요가 있다. 그러나 여기에는 매우 큰 기술상의 벽이 있다. 바로 빛의 회절 한계이다.

  리포트 | 2페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.06.16

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