"리소그래피 이빔" 검색결과 81-100 / 124건

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  계면 로터스 이펙트

  하지만 규칙적인 나노 구조물 제작을 위하여 전자빔리소그래피 공정이 필요하게 되어, 고가의 공정비와 더불어 긴 공정소요시간 및 대 면적 공정의 어려움이 있다.4. ... 연잎 표면은 이와 같은 이중적인 소수성 덕분에 ‘초소수성’을 띠는 것이다.3. ... 그런데 연잎 바닥면이 물방울과 접촉하는 각도는 150도 이상이다. 그냥 소수성이 아닌 ‘초소수성’을 갖는다는 뜻이다.이는 연잎 표면에 있는 무수한 미세 돌기 덕분이다.

  리포트 | 6페이지 | 2,000원 | 등록일 2011.06.24

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  광결정에 대하여

  (b) 적층 구조의 리소그래피를 이용한 Wood pile 구조. ... 가능한 구조로 제작되기도 한다.또한 홀로그래피를 이용해 비교적 대면적으로 결함 없는 광결정을 제작할 수도 있는데, 이 방식은 여러 광원으로부터 입사된 빔들의 상호 간섭패턴을 감광성 ... 일반적으로 3D 광결정을 구현하는 top-down 방법은 마이크로 전자공학 기술 발전의 토대를 가져온 다층 박막형성 기술과 포토, 전자 빔을 이용한 리소그라피 기술을 바탕으로 다소

  리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.12.14

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  Soft Lithography

  또는 나노스케일 패턴 구현을 위해 전자빔 리소그래피, 레이저 간섭차를 이용한 리소그래피 등이 사용되고 있다. ... 또한 지수적으로 증가하는 광학 리소그래피의 장비가격에 비해 낮은 인프라 비용이 요구되어, 인프라 비용과 공정비용 측면에서 매력적인 기술이라 할 수 있다.그러나 Soft Lithography는 ... 리소그래피에 적합한 재료가 요구된다.

  리포트 | 8페이지 | 2,000원 | 등록일 2007.02.21

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  NANO과학이란?

  만들때 1:1로 만들수 밖에 없어서, 패터닝에 어려움이 있다.② E-Beam 리소그래피전자빔을 substrate에 주사하여 패터닝을 하는 방식이다. ... 2기의 근본적 과제라고 한다면, 다음 3기에서의 과제는 "양자eam Lithography라고 한다.① EUV(Extream Ultraviolet)리소그래피말그대로 Exposure공정에 ... 하지만 현재 사용되고 있는 리소그래피 장비를 크게 바꾸지 않고 기술을 업그레이드 할수 있다는 장점이 있다.참고로 더 작은 파장을 이용하는 X-Ray Lithography가 있지만 마스크를

  리포트 | 14페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.01.18

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  반도체 나노와이어 특성 및 원리

  SiNW가 분산된 용액을 Si/SiO2 기판 위에 떨어뜨려 SiNW를 정렬 시킨 후, 전자빔 또는 광 리소그래피 방법으로 소스, 드레인 게이트 전극을 형성시킴으로써 소자를 제조한다.박막 ... 그러면, 액체인 금의 밑 바닥에 고체인 실리콘이 결정으로 퇴적되면서 나노크기의 실리콘 나노와이어가 자라게 된다. 그래서 기체-액체-고체 (VLS) 방법이라고 말한다. ... 결국 이 기술은 우선적으로 실리콘 회로를 연결하는데 사용될 수 있을거라고 연구진은 말했다. 이것은 대면적 칩 위에 단일 나노와이어 장치를 조립하는데 이점을 가지고 있다.

  리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.11.14

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  [재료공학]리소그래피

  처음에는 눈에 보이는 파장의 빛(가시광선)을 사용하는 정도였으나, 곧이어 자외선을 사용하게 됐고, 최근에는 필요에 따라 전자빔을 사용해 1μ 이하의 미세한 패턴을 만든다. ... 차세대 리소그래피 공정 기술은 인텔사나 AMD사와 같은 칩 개발 업체에는 필수적인 공정 기술이다. ... 하는데, 원자외선 리소그래피 공정에 사용되는 빛의 파장은 240 나노미터라고 한다.

  리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.05.06

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  신소재개론 기말

  리소그래피- ‘50nm 장벽’을 극복하기 위한 리소그래피- 종류 : EUV, X-ray, E-beam lithography- 장점 : 을 증가시키기 위함인데 Soft Bake, Hard ... 제작과 같은 저가의 대계가 예상되어 나노 기술 개발이 필연적 량 생산 공정 개발이 문제Focused Ion Beam(FIB)- FIB (Focused Ion Beam)는 집속 이온 빔을 ... 지하철 승객들 중 일부가 신문을 보고 있는데, 이 신문이 바로 e-Paper 기술이 상용화된 제품이다.

  리포트 | 14페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.10.29

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  ito(투명전도막)_원리 및 동향

  박막이다.기존의 평판디스플레이의 경우, 금속 산화물 투명전극이 진공 공정을 통해 도포된 유리기판상의 각 화소를 포토리소그래피 공정으로 제조된 박막트랜지스터(TFT : Thin Film ... 자라나고 있는 박막에 이온빔 충격을 주어 증착시키는 방법이다. ... 이온빔 표면 처리이온빔을 통한 표면 처리 및 이온빔 보조 증착은 다양한 분야에 응용되고 있데 특히 AR Coating, Cold Mirror, Hot Mirror, Band Path

  리포트 | 42페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.12.02

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  로터스 이펙트 Lotus Effect

  하지만 규칙적인 나노 구조물 제작을 위하여 전자빔리소그래피 공정이 필요하게 되어, 고가의 공정비와 더불어 긴 공정소요시간 및 대 면적 공정의 어려움이 있다.4. ... 이 SREP라는 명칭도 Wacker사에서 상표권을 가지고 있다. 초창기에는 Munich Paint라고도 불리워졌다.? ... 이때 잎에 앉은 먼지들도 물에 씻겨서 덩달아 떨어지면서 스스로 깨끗하게 씻어내는 것이다. 이런 특징을 학술적으로 ‘연잎 효과(lotus effect)’라 한다.?

  리포트 | 14페이지 | 2,000원 | 등록일 2011.06.24

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  나노임프린트 리소그래피

  커져서 국부적으로 폴리머가 제거되어 패턴이 형성되지 못하는 경우도 있기 때문에 적절한 점도의 폴리머를 사용해야 한다.마지막으로 웨이퍼 전체에 나노 스케일의 패터닝이 된 스탬프는 전자빔 ... 리소그래피로 제작해야하므로 제작시간도 길고 상당히 고가인 문제점이 있다. ... 가한 상태에서 자외선으로 폴리머를 경화시켜서 패턴을 형성하는 UV 나노임프린트 리소그래피(UV-NIL) 방식이다.

  리포트 | 118페이지 | 15,000원 | 등록일 2007.01.27 | 수정일 2014.07.16

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  나노 패터닝 기술

  {{나노 크기의 patterning 기술Nano imprint-------------■ 정 의 : 나노임프린트 기술은 기판 위에 열가소성 수지나 광경화성 수지를 도포한 후 e빔 을 ... -■ 가열방식의 나노임프린트 리소그래피의 문제점과 대안△ 다층(multi-layer)작업시 열변형에 의해 다층정렬이어렵다는 점과, 점도가 큰 레지스트 (resist)를 임프린트하기 ... UV나노임프린트 리소그래피(ultraviolet nanoimprint lithography, UV-NIL)를 대안으로 제시■ UV-NIL의 특징△ 이 공정기술은 UV 경화소재를사용하여

  리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.03.07

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  리소그래피

  수밖에 없어서, 패터닝에 어려움이 있다.2) E-Beam 리소그래피 (전자빔 리소그래피)⇒E-Beam 리소그래피는 전자빔을 substrate에 주사하여 패터닝을 하는 방식이다. ... ◈리소그래피◈- 리소그래피를 정의하기 전에 먼저 알아두어야 할 것은 나노과학, 나노기술이란 무엇인가 하는 것이다. ... ) 라고 불리는 새로운 리소그래피들이 있는데 현재 가장 각광받고 있는 것이 EUV 리소그래피와 E-Beam 리소그래피이다.이 두 가지를 정리해보면,1) EUV 리소 그래피⇒ EUV

  리포트 | 3페이지 | 4,500원 | 등록일 2004.12.20 | 수정일 2021.09.12

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  [공학]박막공정에대해

  이 원자를 기판위에 증착시킨다 열증발 증착법의 분류증기를 발생시키기 위한 열의 생성 수단에 의해 열 증발 증착법 유도열 증발 증착법 전자빔 증발 증착법스퍼터링(Sputtering)충분한 ... 물성을 얻기위하여 덩어리 재료인 기판위에 박막(Thin Film)을 성장시키고 이용박막공정의 순서세척(Cleaning)= 증착(Deposition)= 포토리소그래피(Photolithography ... 단점: 복잡한 장비 구성, 고비용증발 증착법고진공상태에서(오염을 줄이기 위해) 전기저항이나 전자빔등을 이용해서 기판에 증착시키고자 하는 물질의 소스를 가열 고체상태로 부터 기체상태로

  리포트 | 27페이지 | 2,000원 | 등록일 2006.06.16

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  [공학]플라즈마와 투명전극, 투명전극 재료

  강력한 EUV를 내는 광소스는 리소그래피에 사용되며 전자빔, 이온빔과 같은 전하입자 빔은 핵융합, 환경산업 등에 사용되고 있으며, 또한 기존의 플라즈마 소스의 약점을 극복하여 새로운 ... 따라서 전자 혹은 이온빔은 하전입자들의 모임이지만 플라즈마라 정의할 수 없다. ... 응용분야로는 차세대 반도체 공정에서 나노 스케일 반도체 식각 장비, 나노 스케일 증착 공정 및 나노 스케일 리소그래피(Lithography) 공정에서 사용되며 양질의 탄소 나노 튜브

  리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.03.13

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  포토 예비

  사진 기술을 응용한 것이어서 포토리소그래피라고도 한다. ... 기판에 포토마스크(원판)를 통해 자외선을 조사하면 포토마스크에 새겨진 IC의 패턴이 포토레지스트에 전사된다. 1m보다 미세한 패턴을 형성하려면 자외선으로는 한계가 있어 X선이나 전자빔의 ... 조성이 KFe[Fe(CN)6]인 데서 칼리블루라고도 하며, 암모늄염인 (NH4)Fe[Fe(CN)6]을 소다블루라고도 한다.제법 : Prussian blue는 ferrous ferrocyanide

  리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.04.19

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  SiO2 박막의 식각 및 PR 제거

  이용하거나 정밀하게 초점이 맞추어진 빔으로 레지스트 위에 직접기록하거나 마스크를 이용하는 초기의 현상법이다. ... 빔으로 형성된다. ... 최근 연구 활동은 50㎚의 선 폭을 인쇄하기 위해서 248㎚DUB광원, 화학 증폭 DUV 레지스트, 그리고 위상시프트 마스크를 사용한다.① Extreme UV(EUV)광학 리소그래피의

  리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.09.19

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  증착기를 이용한 반도체 공정

  리소그래피 (Lithography)리소그래피는 포토레지스트를 도포하는 공정으로 시작해 노광, 현상, 에칭, 포토레지스트 제거에 이르는 일련의 프로세스이다. ... 단결정조직이 정확하게 정렬되도록 단결정봉을 흑연 빔에 놓은 다음 고도의 절삭 기술을 사용하여 실리콘 단결정봉을 웨이퍼로 바꾸게 됩니다.3. ... 이 공정은 모든 프로세스 기술의 중심이며, 반도체 공장에서도 가장 많은 금액의 투자를 필요로 하는 장치이다.

  리포트 | 7페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.09.21

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  Lithography, 잉크젯프린팅, polyol processing, brookfield 의 원리

  이 기술의 핵심은 짧은 파장의 빛을 사용하여 정밀도를 높이는 것으로, 처음에는 가시광선, 자외선을 사용했으나 최근에는 전자빔을 사용해 더 미세한 패턴을 만든다.1. 건조 단계 ? ... “리소그래피(Lithography)”는 서로 다른 회로 모양을 층층이 쌓아가며 원하는 구조의 다층 회로를 만드는 공정으로서, 금과 같은 고가의 재료를 웨이퍼에 도포한 후 필요한 부분만 ... 이 성질을 점성이라 한다.흐름에 평행인 평면의 단위면적당 내부마찰력을 전단응력이라 하며 흐름에 수직인 방향의 속도기울기를 전단속도라고 한다.

  리포트 | 8페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.10.07

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  [박막공학]박막공정

  포토리소그래피와 식각을 2주와 5주에서 각각 다루었으므로 본 장에서는 증착 과정에 대해 다룰 것임.세 척 (cleaning)포토리소그래피 (photolithography)증 착 (deposition ... 박막 공정(Thin Film Process)목 차개요 박막 증착 물리 기상 증착법 화학 기상 증착법 분자 빔 결정법개 요박막 공정의 정의 박막 증착과 포토리소그래피 기술을 이용하여 ... 사이의 작용에 의해 반도체 성층을 성장 시키는 방법.기본적인 epitaxy 과정의 개념도.분자 빔 형태로 기판에 반도체성 물질을 가함.분자 빔 결정법고체 또는 가스 형태의 소스를 직접

  리포트 | 43페이지 | 1,500원 | 등록일 2005.12.29

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  박막재료의표면처리및식각실험(예비).

  이용한 시스템을 의미한다.응용분야적용기술적용분야반도체 및 Nano 기술-하전 손상(Charge Damage)이 없는 0.1 마이크론 이하의 선폭 식각 기술-50nm 이하의 선폭 리소그래피 ... 기술-나노 스케일 초미세 박막 증착 기술-저온 탄소 나노튜브성장 기술-Organic 기판에 상온 박막 증착 기술핵융합 및 환경기술-고온 플라즈마를 위한 중성입자 빔 heating ... 시스템 기술-전자빔에 의한 하폐수 처리 기술Bio 기술 분야-Biological structure 규명-DNA 합성(2) Lithography의 정의와 과정① 정의•Lithography

  리포트 | 10페이지 | 2,000원 | 등록일 2009.09.23

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