"리소그래피 이빔" 검색결과 101-120 / 124건

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  sams (Self-Assembled Monolayers )

  실리콘 웨이퍼 표면에 전자빔 lithography를 이용하여 양각 pattern이 새겨진 master 만듦. Ⅱ. ... 리소그래피에 적합한 재료가 요구된다.Microcontact PrintingSoft한 유기물질을 사용 Soft lithography의 한 종류 복잡한 장치 사용하지 않고 pattern과 ... 및 열경화성 Photo Resist를 판매하고 있다.Ⅱ 경우, Lift-off 공정을 위한 패턴형성 재료 역시 건식 식각 마스크 재료와 유사하나, 보다 세밀한 가공이 가능한 전자빔

  리포트 | 59페이지 | 2,000원 | 등록일 2009.05.11

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  [공학]디스플레이 재료및 공정

  리소그래피공정(Lithography Process)1)식각 - Plasma etching진공공정(vacuum process)진공이란 말은 희랍어로“비어 있다”라는 뜻이다. ... (Lithography Process)리소그래피는 포토마스크 기판에 그려진 VLSI의 패턴을 웨이퍼 상에 전사하는 수단이다. ... 리소그래피비선택적(nonselective) etching으로 나뉘는데 선택적 etching이라 함은 여러 layer 중에서 다른 layer에는 영향을 주지 않고 표면의 layer에만

  리포트 | 33페이지 | 2,500원 | 등록일 2006.02.22

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  나노 반도체

  SiNW가 분산된 용액을 Si/SiO2 기판 위에 떨어뜨려 SiNW를 정렬 시킨 후, 전자빔 또는 광 리소그래피 방법으로 소스, 드레인 게이트 전극을 형성시킴으로써 소자를 제조한다.박막 ... 그러면, 액체인 금의 밑 바닥에 고체인 실리콘이 결정으로 퇴적되면서 나노크기의 실리콘 나노와이어가 자라게 된다. 그래서 기체-액체-고체 (VLS) 방법이라고 말한다. ... 전압이 이 디바이스에 인가되면 이 디바이스는 CCD 카메라로 찍은 그림 (e)에 보이는 것과 같은 피크 파장의 길이가 약 380 나노미터인 자외선 빛을 방출한다.

  리포트 | 3페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.08.19

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  [전자공학]ELECTROFORMING기술을 이용한 신재료 개발 및 응용

  이 기술의 핵심은 짧은 파장의빛을 사용하여 정밀도를 높이는 것으로, 처음에는 가시광선, 자외선을 사용했으나 최근에는 전자빔을 사용해 더 미세한 패턴을 만든다.3. ... 치수의 정확도는 위에서 설명한 리소그래피를 이용한 LIGA공정이나 SIGA공정 등 여러 방안들이 대두되고 있다.2. ... LIGA process는 리소그래피공정과 도금공정, 주형공정이 일괄적으로 이루어지는데 쉽게 설명하면 micro-molding을 이용해서 micro-device부품을 제조할 수 있다.최근

  리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.06.12

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  No.5 나노 크기 패턴을 위한 나노 리소그래피(논문형식자료)

  수평정상파의 간섭주기는로 계산될 수 있다. λ는 Laser빔의 파장이며, θ는 두 입사 빔 교차 각의 1/2이다. ... 나노 크기 패턴을 위한 나노 리소그래피Nano lithography for nano size patterningAbstractLithography for nano patterning ... 그리고 p는 두 입사 빔의 간섭으로 생긴 수평정상파의 주기이다.Fig. 1-2 Experimental detail of Lloyd's mirror interference2-1-2.

  리포트 | 9페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.11.14

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  [공학기술]공명터널링 다이오드

  Ion Etching) 11번 층(AuGe/Ni)이 마스크 역할을 함.게이트 적층 '전자빔 적층'을 이용하여 기판의 윗면에 크롬 적층 (12번 층) 폴리이미드를 이용하여 식각된 면을 ... 영역 Ⅳ는 양자 장벽 사이에 위치하며, 전자는 이 영역에 구속된다. ... 기판의 윗면에 AuGe, Ni 층을 적층 (11번 층 ) 리소그래피를 통해 AuGe/Ni 점을 형성 (OHMIC LIFT-OFF)공명 터널링 다이오드식각 비등방 RIE (Reactive

  리포트 | 16페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.06.02

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  박막재료의 표면 처리 및 PR제거

  이 기술의 기본은 미세한 회로 패턴을 새기는 리소그래피 기술이다.이제까지는 포토마스크를 통해 빛으로 감광재료에 노광하는 광리소그래피 방식이 이용되었으나, 점차 고밀도 패턴을 작성하는 ... 줄일 수 있는 등의 장점이 있기 때문에 플라즈마를 이용한 초경피막 기술 등이 산업체에서 쓰여지기 시작하고 있다.4) 환경 정화- 전자빔이나 글로 방전 플라즈마를 이용하여 공장의 배기가스 ... 원형 ·직사각형의 스포트라이트로 패턴의 노광부분을 빈틈없이 덮어버리는 벡터 주사방식으로 나눈다.패턴의 해상한계는 빛의 경우, 빛의 파장(약 0.5 μm )에 의해 주어지며, 전자빔의

  리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.10.20

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  포항 방사 가속기

  예견아래 일본, 미국, 유럽 등에서는 X선 리소그래피 (lithography)라고 불리우는 기술개발에 많은 투자를 하고 있다. ... 유감스럽게도 국내에서는 기업체들이 X선 리소그래피에 아직 관심을 보이지 않고 있으나 외국에서는 방사광의 중요한 이용 분야 중 하나로 꼽히고 있다.초고집적 회로보다는 스케일이 큰 편이지만 ... 이러한 전자석들에 의하여 저장되어 있는 전자빔은 매우 작은 크기의 단면을 유지하면서 안정된 궤도로 회전하게 됩니다.진공장치공기 중에서 빛의 속도로 움직이는 전자는 공기입자들과 충돌하여

  리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.02.02

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  나노 실리카

  반복사용함으로써 전자빔 리소그래피의 생산성 문제를 극복하는것이다.감광액반도체 제조 시 원판 표면 위에 미세한 회로를 그리기 위하여 빛을 이용하는 광학 공정에 사용되는 액체. ... 이 자기조립의 원동력은 자연적인 원자들 간의 결합력으로 정확한 메커니즘은 아직 연구중이다. ... 가장기초적인 구조를 만들고 점점 쌓아가는 형식이다이것은 최고상태의 크기까지 계속 진행된다.마지막은 외부적인 힘이 만드는것이다.

  리포트 | 29페이지 | 1,500원 | 등록일 2010.07.06

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  [공학기술]박막 공정,PVD,증착,진공증착,스퍼터링 보고서

  포토리소그래피63p11. 식각66p그림목차그림 1. 증착법의 종류6그림 2. 세척 장비7그림 3. 증착법 도표8그림 4. 온도와 코팅 두께의 상관 관계8그림 5. ... 이온빔 스퍼트링(Ion Beam Sputtering)39p4.4.5. Bias Sputtering39p4.5. 이온도금40p4.6. 이온 빔 증착40p5. ... 진공증착법-전자빔 증발 증착법22p4.4. 스퍼터링- 음극스퍼터링(cathode sputtering)24p4.4.1. 직류스퍼터링(DC sputtering)34p4.4.2.

  리포트 | 70페이지 | 3,000원 | 등록일 2007.08.16

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  [과학] 나노 테크놀리지

  NIL)는 나노 패터닝 기술의 하나이는 리소그래피에서 나타나는 회절, 스케터링, 화학 반응 등의 문제점들을 해결나노 각인 리소그래피(Nano-Imprint Lithography:NIL ... Lithography : IL)가 마련 필요[전자선(E-beam), 극자외선(Extreme Ultra Violet : EUV), X선, 이온 빔 등] 주사형 탐침 현미경(Scanning ... SPM SPM은 100nm에서 0.1nm에 이르는 영역을 관찰 나노 리소그래피, 나노 영역에서의 조작 빛 핸들링 등의 기능SPM의 종류원자현미경 중 최초인 STM 부도체 시료의 측정을

  리포트 | 23페이지 | 1,500원 | 등록일 2005.06.01

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  [반도체] 반도체 공정

  .② 높은 해상도를 얻을 수 있다.- 전자빔의 에너지가 100keV일 경우, 전자의 파장은 3.7pm 이므로 보통의 NA(Numerical Aperture)를 가정할 경우,해상도는 ... E-beam lithography◎ 장점 :① 전자빔을 직접 제어하고 CAD 프로그램을 이용하여 패턴 모양을 임의적으로 쓰거나 수정할 수 있다.- 마스크 제작을 위한 추가 비용이 없다 ... 하기 쉽다.④ 193nm 또는 248nm 리소그래피에 사용된 photoresist가 EUV 리소그래피에 적용할 수 있다.단점 :① EUV 시스템에 들어가는 거울(Mirror)을 제작하기

  리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2003.12.01

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  리소그래피

  LithographyLithography리소그래피(Lithography)의 정의 - 집적 회로 제작 시 실리콘칩 표면에 만들고자 하는 패턴을 빛으로 촬영한 수지를 칩 표면에 고정한 ... 후 화학 처리나 확산 처리하는 기술 이 기술의 핵심은 짧은 파장의 빛을 사용하여 정밀도를 높이는 것으로,처음에는 가시광선, 자외선을 사용했으나 최근에는 전자 빔을 사용해 더 미세한 ... low molecular weight polymer(MW=5,000~10,000) 2) Negative resist UV 광이 감응제에 흡수되면 N-N 결합이 깨어지고 대단히 활성인

  리포트 | 19페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.05.30

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  박막의 표면처리 및 식각 실험 예비보고사

  추진전자빔원이온주입입자가속입자빔 가공(2) Lithography의 정의와 과정집적 회로를 만들 때 기판에 패터닝을 하는 공정을 일컬으며 다음과 같은 단계로 진행한다.실리콘 단결정 ... Film)를 만든다마스크를 통하여 자외선을 박막이 덮힌 시편 위에 조광한다.감광된 부분을 전용 현상액으로 씻어내면 그림과 같이 회로에 패터닝(전사 공정)이 끝이 난다.여기까지가 리소그래피 ... 방전관표면개질네온사인플라즈마 CVD전기레이져플라즈마 에칭오존발생기플라즈마디스플레이(태양전지, LCD, LSI연소배기가스천리자외선원DRAM 등의 제작)유기용매처리X선원자동차의 배기가스처리이온빔원스퍼터링로켓

  리포트 | 13페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.06.04

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  [화학공학] [실험보고서]박막의표면처리 및 식각 보고서

  리소그래피공정 : 레지스트 처리 ---- 레지스트도포, 베이크, 현상, 큐어, 레지스트제거.패턴 에칭 ---- 드라이에칭, 웨트에칭.노광기술 ---- 자외선, 전자빔, X선 ,등◆ ... 리소그래피 기술 (Lithography)- 리소그래피는 포토레지스트를 도포하는 공정으로 시작해 노광, 현상, 에칭, 포토레지스트 제거에 이르는 일련의 프로세스이다. ... 수 있는 등의 장점이 있기 때문에 플라즈마를 이용한 초경피막 기술 등이 산업체에서 쓰여지기 시작하고 있다.④ 환경 정화 - 전자빔이나 글로 방전 플라즈마를 이용하여 공장의 배기가스

  리포트 | 10페이지 | 2,000원 | 등록일 2005.06.14

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  [반도체공정]Photo lithography

  Photolithography리소그래피는 포토레지스트를 도포하는 공정으로 시작해 노광, 현상, 에칭, 포토레지스트 제거에 이르는 일련의 프로세스이다. ... Phothlithography 과정. clean wafers세정은 리소그래피를 처음으로 하는 각 공정 사이에서 반드시 행해야 하는 것으로, 표면 청정화를위한 공정이다. ... 크기와 포토레지스트층과 빔의 상호작용에 의해 제한된다.

  리포트 | 13페이지 | 2,000원 | 등록일 2004.07.22

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  [미세가공] 맴즈와나노

  현미경을 응용하는 방식은 특수한 디바이스를 제조하는데 한계가 있을 것으로 보인다.소프트 리소그래피(soft lithography)전자빔 방식 리소그래피를 비롯한 기타 관련 기술에 의해 ... 제조업자들은 나노크기의 구조물을 생산하는데 전자빔이나, X-선, 극자외선 등을 이용하여 이 기술을 개조할 수 있다.개조시 비용이 많이 들며 기술적으로 여러 가지 어려움이 따른다. ... 수 있어 반도체 일괄 가공방식에 의한 장점을 최대한 살릴 수 있다는 점이다.③ 초단파장의 X-RAY 리소그래피를 이용한 LIGA 기술 : LIGA 가공기술은 구조물 제작에 빛(X-선

  리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2003.05.18

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  박막재료의 표면처리 및 식각실험(예비)

  기술-나노 스케일 초미세 박막 증착 기술-저온 탄소 나노튜브성장 기술-Organic 기판에 상온 박막 증착 기술핵융합 및 환경기술-고온 플라즈마를 위한 중성입자 빔 heating ... 이용한 시스템을 의미한다.응용분야적용기술적용분야반도체 및 Nano 기술-하전 손상(Charge Damage)이 없는 0.1 마이크론 이하의 선폭 식각 기술-50nm 이하의 선폭 리소그래피 ... 백금, 구리 등 금속 물질은 대부분 도체고, 나무, 바위, 옷감 등은 부도체다.

  리포트 | 10페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.07.28

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  [공학]Spin coating 법을 이용한 발광박막의 제조

  증착법, 레이저빔 증착법 등에 의해 만들어진다. ... 박 막의 형성에는 '세척(Cleaning) - 증착(Deposition) - 포토리소그래피 (Photolithography) - 도금 (Plating) -에칭 (Etching) - ... 자성(磁性) 박막 ·유전체(誘電體)박막 ·집적회로 ·초전도(超電導)박막 등이 진공증착법(증기 건 조법)을 위시하여 전기도금법, 기체 또는 액체 속의 산화법, 화합물 열분해법, 전 자빔

  리포트 | 8페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.12.22

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  [공학] 펄스파워

  ,의료용)X선(바이오의료용, X선레이저리소그래피, X선현미경, X선뢴트겐사진)물질처리▷pulse laser - 고체 레이저(Nd : YAG)기체 레이저(엑시머, 질소)자유전자 레이저 ... 에너지변환)으로써는 고 에너지밀도 플라즈마, 전자기가속, 전자빔, 이온빔, 방전과 같은 것이 있다. ... 또한 이들의 1차, 3차 에너지변환을 생각할 수 있다. 예를 들어 전자빔 에너지에 의해 균일한 방전 플라즈마를 생성하는 2차 에너지변환, 방전플라즈마를 사용하여 엑시머레이저와 N

  리포트 | 2페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.01.05

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