"magnetron sputtering" 검색결과 21-40 / 228건

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  Low-Temperature Deposition of Ga-Doped ZnO Films for Transparent Electrodes by Pulsed DC Magnetron Sputtering

  한국재료학회 Dongkeun Cheon, Kyung-Jun Ahn, Woong Lee

  논문 | 7페이지 | 4,000원 | 등록일 2023.04.05

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  [기초공학실험]Cu film의 전기적 특성 분석 실험

  종류 ① DC sputtering직류전원을 이용한 sputtering 방법이다. ... DC sputtering에서는 target이 산화물이나 절연체일 경우 sputtering되지 않는다. ... RF sputtering은 금속 이외에도 비금속, 절연체, 산화물, 유전체 등의 sputtering이 가능하다.?

  리포트 | 8페이지 | 3,200원 | 등록일 2019.09.02 | 수정일 2020.08.10

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  이공계(반도체,전기전자,화학공학 등) 대학원 교수님 컨택메일 예시

  000대학교 (LAB 이름) Lab.안녕하십니까 교수님.저는 2024년 2월에 00대학교 00학부 00공학전공 졸업예정인 00학번 홍길동이라고 합니다.

  자기소개서 | 2페이지 | 4,500원 | 등록일 2023.07.12 | 수정일 2023.07.18

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  [재료공학실험]투명전극재료의 합성 및 물성 평가

  전극으로 사용되고 있다.일반적으로 박막의 제작에는 저항 가열법(thermal evaporation) 과 전자선 가열법(eletron beam evaporation) 그리고 스퍼터링(sputtering ... 여기서, 측정시료의 형상이 단면적 S로 일정한 길이 L의 도선이라고 하면, 비 저항은 다음과 같이 구할 수 있다.ρ = (S/L)R = (S/L)(V/I)그림 2 point probe ... 마그네트론 Sputtering 법에 의한 ITO 박막의 합성1) RF, DC, Pulse DC-Sputtering System으로 건조시킨 glass 기판 사용하여 합성다.

  리포트 | 6페이지 | 2,500원 | 등록일 2022.02.20 | 수정일 2022.02.22

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  A review of gas sensors based on carbon nanomaterial

  한국탄소학회 Indah Raya, Hamzah H. Kzar, Zaid Hameed Mahmoud, Alim Al Ayub Ahmed, Aygul Z. Ibatova, Ehsan Kianfar

  논문 | 26페이지 | 6,400원 | 등록일 2023.05.08

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  기판 인가 전압에 따른 IWO 박막의 전기적, 광학적 특성

  한국재료학회 최재욱, 이연학, 박민성, 공영민, 김대일

  논문 | 5페이지 | 4,000원 | 등록일 2023.11.06

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  신소재프로젝트3 광전자 A+ 예비레포트

  솔라시뮬레이터의 분광조사강도 측정을 위해서는 분광복사계(spectroradiometer)라는 측정기와 표준전구(standard lamp)라는 표준기(standard)가 요구되는데, ... 실리콘 계열 및 대다수 화합물 박막 태양전지는 대부분 수십 μsec 이하의 매우 빠른 광 응답속도를 가지고 있다. ... CZT(S,Se) 박막 태양전지의 기본 구조는 p-n 접합 구조와 이의 양면에 각각 음극 전극으로 사용되는 금속전극과 양극 전극으로 사용되는 투명전극으로 구성된다.

  리포트 | 14페이지 | 3,000원 | 등록일 2023.10.07

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  삼성전자 설비기술 합격 자기소개서

  비전도성을 띄는 황동 필름의 증착을 위해 RF magnetron sputtering, 감지체 역할을 하는 황동 나노플레이크의 형성을 위해 열 산화과정을 적용했으며, 산화과정은 일반 ... 팀원들과 silane을 다공성 막에 얇고 균일하게 입히기 위한 방안을 모색하던 중, 반도체 공정의 박막증착법에서 아이디어를 얻어 연구실 내 감압장치를 활용하고 해결할 수 있었습니다. ... 이처럼 E, S, G의 균형 있는 발전을 추구하여 존중 받고 존경 받을 수 있는 기업이 될 수 있다고 생각합니다.글자수1,010자1,694Byte4.지원한 직무 관련 본인이 갖고 있는

  자기소개서 | 5페이지 | 3,000원 | 등록일 2023.02.06

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  [고분자공학실험및설계] OMO 구조에서 상하부 층의 두께 변화에 따른 유연투명전극 연구

  Reference[1] Aluminum basedZnO/Al/ZnO flexible Transparent Electrodes Fabricated by Magnetron sputtering ... (하부 고정) Sheet Resistance 값 계산하부고정V(A)I(V)R(ohm)R _{s}(ohm/sq)5/15/305.63.8183E-071*************17.745 ... (상부 고정) Sheet Resistance 값 계산상부고정V(A)I(V)R(ohm)R _{s}(ohm/sq)5/15/305.63.8183E-071466621336042217.7410

  리포트 | 12페이지 | 2,500원 | 등록일 2021.12.21

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  재공실 실험2 예보 - RF-Magnetron Sputter를 이용한 박막 증착 원리 이해

  이러한 현상은 DC sputtering 의 경우 sputter 초기부터 target 뒷면의 영구자석을 회전시켜 주거나, 자석의 전류를 변화시키면 개선할 수 있다▶Magnetron Sputtering마그네트론 ... DC magnetron sputtering이라 한다.그림 4 Magnetron Sputtering System출처 : en.wikipedia.org/wiki/Sputteringhttp ... 스퍼터링(magnetron sputtering)이란 발생된 플라즈마를 영구자석에서 발생하는 자속(flux)에 의해 기판에 형성시키는 방법이다.

  리포트 | 6페이지 | 2,000원 | 등록일 2013.10.29

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  표면개질공학 sputtering 원리와 특징, 현상과 응용

  원형, 2차원 마그네트론 음극 개략도-마그네트론의 제한과 전자궤도를 설명 앞에서 본 바와 같이 magnetron target은 전형적으로 ‘racetrack' 형태로 sputter ... , RF plasma sputtering, magnetron sputtering등이 있다. ... 낮은 sputtering 압력?기판 온도 감소?산업적 규모의 공정으로 변환이 용이⑤ Unbalanced magnetron sputteringa. 특징?

  리포트 | 9페이지 | 1,000원 | 등록일 2016.01.05

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  재공실 실험2 결보 - RF-Magnetron Sputter를 이용한 박막 증착 원리 이해

  작동원리의 차이점은 E-beam evaporator는 음극 필라멘트에서 직접 전자가 발생되어서 자기장을 이용해서 직접 전자가 타깃 물질을 쳐서 증발시켜 시편에 증착시키는 것이고, sputtering ... RF-Magnetron Sputter를 이용한 박막 증착 원리 이해1. ... 그림에서 보이는 것처럼 shutter는 증착이가지 않도록 제어함으로써 증착시간을 조절해 주는 역할을 하며 substrate rotation은 chamber 위쪽에 달려있으며 기판을

  리포트 | 3페이지 | 2,000원 | 등록일 2013.10.29

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  [예비보고서] RF-Magnetron Sputter를 이용한 박막 증착 원리 이해

  인가된 전원에 따라 RF·DC magnetron sputtering이라 한다.나. ... RF sputtering법은 다른 디지털 회로의 noise 발생 원인이 될 수 있으므로 시스템적으로 noise filter나 절연체에 의한 차폐와 접지가 중요하다.마그네트론 스퍼터링 ... (magnetron sputtering)이란 발생된 플라즈마를 영구자석에서 발생하는 자속(flux)에 의해 집진하여 기판에 성막시키는 방법이다.

  리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.07.21

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  결과보고서 2. RF-Magnetron Sputter를 이용한 박막 증착 원리 이해

  RF-Magnetron Sputter를 이용한박막 증착 원리 이해신소재공학부1. ... 타겟이 있는 게터 스퍼터(getter sputter), 타겟 자신의 증발 이온으로 타겟을 재차 스퍼터하는 자기 스퍼터(self sputtering)라고 한다. ... sputtering)이라고 하며 표에서 글로우방전 스퍼터를 말한다.특징을 정리해 보면, 먼저 장점으로는 여러 가지 다른 재료에서도 성막속도가 안정되고 비슷하며 균일한 성막이 가능하고step

  리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.07.21

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  sputtering (스퍼터링)

  않아 균일한 두께의 증착이 어려움스퍼터링 (sputtering)의 종류1) DC sputtering소스2) RF sputtering부도체 박막을 증착 시키기 위해 개발된 방법으로, ... DC sputtering에서는 target이 산화물이나 절연체일 경우 sputtering 되지 않는다. ... 크게 sputtering과 evaporation으로 나눌 수 있다.스퍼터링 (sputtering)의 원리스퍼터링은 DC 또는 RF 전원이 두 전극 사이에 가해지면 음극에서 방출, 가속된

  리포트 | 2페이지 | 1,000원 | 등록일 2015.12.07

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  재공실 - sputtering 결과보고서

  RF Magnetron Sputter를 이용한 박막 증착 원리 이해1. sputter의 각 부분의 명칭과 기능sputter system 위 그림처럼 크게 6개의 파트로 나눌 수 있는데 ... 타겟이 있는 게터 스퍼터(getter sputter), 타겟 자신의 증발 이온으로 타겟을 재차 스퍼터하는 자기 스퍼터(self sputtering)라고 한다. ... sputtering)이라고 하며 표에서 글로우방전 스퍼터를 말한다.

  리포트 | 3페이지 | 2,000원 | 등록일 2013.10.29

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  투명전극(ITO)과 진공펌프 및 게이지와 스퍼터링의 종류들과 원리

  Reactive sputtering에 적합③DC/RF 마그네트론 스퍼터링 장치기존 스퍼터링 방법에 자기장을 사용하면 마그네트론이라는 단어를 붙여 마그네트론 스퍼터링 방법의 특징을 띄게 ... Reactive sputtering : RF보다 불리함-RF sputtering-a. 전도체, 절연체, 비금속, 유전체b. HIP 또는 sintered powderc. ... 된다.마그네트론 스퍼터링 장치는 타깃 표면에서 Ar 양이온의 충돌로 발생한 2차 전자를 자기장을 이용하여 방전 공간 안에 가둬둠으로써 매우 효과적으로 플라즈마를 형성할 수 있어 1mtorr

  리포트 | 22페이지 | 2,500원 | 등록일 2019.07.03 | 수정일 2019.07.04

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  PVD의 종류와 특성, 응용분야

  구조가 간단하며, 가장 표준적인 sputter 장치이다.? 성막속도가 여러 종류의 금속에 대해 거의 일정하다.? ... 스퍼터링(sputtering)이란?스퍼터링이란 간단히 말해 금속판에 아르곤 등의 불활성 원소를 부딪쳐서 금속 분자를 쫓아낸 후 표면에 막을 부착하는 기술이라 할 수 있다. ... 이러한 문제점들 또한 마그네트론을 사용하여 해결할 수 있다.마그네트론 스퍼터 건의 내부구조마그네트론 스퍼터링의 장점? Sputtering yield가 증가된다.?

  리포트 | 21페이지 | 2,500원 | 등록일 2015.01.08 | 수정일 2023.04.29

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  반도체제작공정-박막증착공정

  Processing LaboratoryMagnetron sputter박막 증착 공정Materials Processing LaboratoryDC RF Magnetron sputter박막 ... PLD MBEFilm quality : evaporation sputtering PLD MBEGrowth rate : evaporation sputtering PLD MBEChemical ... 증착 공정Materials Processing LaboratoryRF sputter박막 증착 공정+-+++-+++substrate + chamber-+---+---targetTimeMaterials

  리포트 | 25페이지 | 2,000원 | 등록일 2010.09.09

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  [고체 물리] 스퍼터링 결과 보고서

  토의사항우리 실험의 목적은 박막 성장 방법 중의 하나인 sputtering을 이용해 substrate 물질인 silicon에 target물질인 구리를 증착시키는 것이다. ... 그리고 이러한 둥근 모양은 heat distribution이 골고루 잘 되게 한다.그리고 이 실험이 오래 걸렸던 이유 중 하나는 온도가 떨어질 때까지 기다려야했기 때문인데, sputtering에 ... 실리콘은 melted sand로부터 만들어 지는데, 이 것이 적정한 온도까지 올라갔을 때 crystal seed(씨 결정)을 melted sand에 떨어뜨리면, 결정이 자라나면서 회전하게

  리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2018.07.30

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