"magnetron sputtering" 검색결과 161-180 / 228건

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  진공증착 (Sputtering)_pre

  이 과정을 스퍼터 식각, 리버스 스퍼터링(reverse sputtering) 또는 이온 밀링(ion milling)이라 한다.트라이오드 스퍼터링은 가스를 이온화시키는데 필요한 전자를 ... 마그네트론 스퍼터링 시스템은 타겟의 뒤, 때로는 옆에도 자석을 설치해서 이러한 전자들을 제거한다. 이 자석은 떠도는 전자를 타겟 근처에 가두어 놓는다. ... ℃203060605020-195℃656570706090위 표는 실온과 액체질소 온도 하에서의 전형적인 TSP pumping speed를 나타낸 것으로, TSP pumping speed는

  리포트 | 9페이지 | 5,000원 | 등록일 2011.06.10

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  Sputter

  Magnetron SputteringMagnetron Sputtering이란 target(cathode)의 뒷면에 영구자??? ... Bias SputteringBias sputtering은 sputter 하기 전 기판에 (-) bias를 걸어주어 기판을 sputter하는 sputter etch와 sputtering하는 ... sputtering을 이용한다.

  리포트 | 2페이지 | 1,500원 | 등록일 2006.12.24

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  로이 유리(Low-E Glass)

  √방법: 완제품 상태의 판유리를 Ar기체로 채워진진공 chamber에 고전압을 걸어 이온화된Ar양이온이 target코팅물질에 강한 운동에너지로 충돌(sputter)하여 target에서방출된 ... 진공 증착밥(Magnetron Sputtering, Soft-coationg)√진공증착법 이란? ... - Low-E-Saint Gobain - Planitherm-VIRACON종합검토의견-전반적인 광학적 성능이 soft 코팅 제품이 우수-생산 가격이 hard 코팅 제품보다 soft

  리포트 | 18페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.09.20

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  [공학]Al thin film and PVD

  planar magnetrons 1) issues : (trade off) film deposition rate and film thickness uniformity - deposition ... Reactive sputtering ex. ... Vapor deposition (PVD) by sputtering4.

  리포트 | 25페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.02.05

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  박막증착 (박막공정)

  물리 증착은 증발(evaporation), 스퍼터링(sputtering), 이온 플레이팅(ion plating), 아크증착(arc deposition), 이온 빔 보조증착 (ion ... PVD (Physical Vapor Deposititon)PVD(physical vapor deposition, 물리 기상 증착)은 보통 evaporation, sputtering ... DC 또는 RF magnetron을 이용하여 증착하고자 하는 물질의 target으로부터 입자를 떼어내어 특정 기판 상에 옮겨 붙이는 공정이다.

  리포트 | 5페이지 | 1,500원 | 등록일 2009.04.13

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  플라즈마 공정

  또한 이 장치는 반응성 스퍼터링(reactive sputtering)에는 적합하지 않은데, 특히 타겟 표면에 절연물을 형성함으로써 타겟의 오염을 유발시킬 수 있기 때문이다.RF스퍼터링RF스퍼터링 ... 3가지 상태가 복합적으로 일어나고 있다.반발이온화여기와 반발플라즈마의 특성전기적 특성 화학적 특성 물리적 특성 자기적 특성DC스퍼터링DC스퍼터링 (D.C Glow Discharge sputtering ... 낮은 압력에서도 사용 가능 - 단점 : 생성된 막이 타겟 물질의 조성과 반드시 일치하지는 않음 공정상 정밀제어와 주의 요함 ▶Magnetron 스퍼터링 - 소스 타겟 뒷면에 영구자석이나

  리포트 | 31페이지 | 2,000원 | 등록일 2010.01.16

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  [공학기술]박막 공정,PVD,증착,진공증착,스퍼터링 보고서

  또한 step coverage가 좋아서 균일한 성막이 가능하다. sputter 방법이 갖는 단점인 낮은 성막 속도는 magnetron 이나 ECR (Electron Cyclotron ... 이 sputtering 방법은 보통의 sputtering과 동일하나, sputter 기체로서의 Ar 외에도 미량의 산소나 질소를 함께 공급해서 원하는 화합물의 박막을 얻을 수 있다.스퍼트 ... 스퍼터링- 음극스퍼터링(cathode sputtering)24p4.4.1. 직류스퍼터링(DC sputtering)34p4.4.2.

  리포트 | 70페이지 | 3,000원 | 등록일 2007.08.16

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  [신소재 설계입문] PEMFC 연료전지 수소연료전지 설계 프로젝트 발표보고서

  Magnetron sputtering ) Chemical vapor deposition(CVD) Electroless deposition for Ni-Ph alloy ． ． ． ． ... [ 분리판 ] 접촉저항 문제 해결 Coating layer Coating process Stainless steel Physical vapor deposition(PVD) (eg. ... 그라파이트 스테인리스강 대량 생산가능전체 공정의 설계 직접코팅법 (CCM) 가열압착법 (CCG) MEA 접합공정 Catalyst slurry membrane Dry 5-layer MEA

  리포트 | 38페이지 | 3,000원 | 등록일 2011.06.23

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  MOS소자

  있으dation: furnace를 이용하여 oxide를 성장시킴(3) Photo-lithography: 절연체 위에 원하는 형상의 pattern를 형성(4) Deposition: DC sputter를 ... 직류가 아닌 교류를 가함.- Magnetron Sputter : DC Sputtering과 유사. ... 제거하여 감광막 성질을 유지After spinning; 15% solvent & Built-in stress- 감광막의 건조- 접착력 향상- annealing 효과 ⇒ 응력 완화장비

  리포트 | 11페이지 | 1,500원 | 등록일 2010.07.04 | 수정일 2016.04.25

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  Low E 유리

  스퍼터링공법(sputtering process)에 의한 소프트 로이(soft low-E)와 파이롤리틱 방법(Pyrolytic process)에 의한 하드 로이(hard low-E) ... 스퍼터링(Magnetron Sputtering)법으로 제조된 스퍼터 로이 유리로 대별된다.①열분해(Pyrolytic) 로이 유리 : 고온으로 달궈진 유리상에 기채 액체 또는 분말상의 ... 결로 저감⑤ 다양한 색상 가능5.Low E 유리 제법(1) 제법에 따른 분류현재 상업화된 로이 유리는 제조방법에 따라 열분해(Pyrolytic)법으로 제조된 파이로리틱 로이 유리와 마그네트론

  리포트 | 13페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.12.08

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  [sputter]sputter 종류와 mechanism

  만일 충돌하는 입자들이 양의 이온(positive -ion)이라면 cathodic sputtering이라고 부르는데, 대부분의 스퍼터링은 cathodic sputtering이다.보통 ... Target을 cathode로 하여 스퍼터링 할 때 주파수가 10 MHz 이상 되어야 효과적인 sputtering이 일어난다. ... 중성 원자를 쓰던 또는 이온을 쓰던 같은 질량과 같은 에너지를 가지고 있다면 sputter yield에 영향을 미치지 않기 때문에 별다른 의미가 없다.

  리포트 | 11페이지 | 2,000원 | 등록일 2006.02.26

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  스퍼터링

  sputtering yield 특징 ? ... 그 cathodic sputtering이다. ... 일반적으로 sputtering yield는 이온의 에너지와 질량이 증가하면 증가한다.그러나, 이온의 에너지가 너무 크면 이온 주입이 일어나 오히려 sputtering yield는 감소한다

  리포트 | 23페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.04.13

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  산화아연의 전망

  Ryu등9)은 PLD 법을 이용하여 GaAs 기판에 의한 As 도핑 방법을 이용하여 p-형 ZnO 박막을 제조하였다고 보고하였으며, RF magnetron sputter 법을 이용하여 ... coater를 이용하여 3000 rpm에서 20 sec 동안 glass substrate에 3.2에서 만들어진 용액을 코팅한다.⑤ Heating만들어진 film에 있는 소자가 개발되었다 ... 하기 위한 glass substrate를 거즈를 이용하여 다음과 같은 과정으로 깨끗이 세척한 후, Kimwipes를 이용하여 수분을 제거한다.

  리포트 | 28페이지 | 3,000원 | 등록일 2010.06.29

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  필름의 두께와 annealing 온도가 SiNx의 광학적특성(optical property)에 미치는 영향

  Schematic of low-frequency inductively coupled plasma assisted rf magnetron sputtering system* A mixture ... (a) (150 nm) SiO2 film.The strongest emission is observed in the spectral range 600–-620 nmThe strongest ... Recently, a substantial effort has been focused on nanoparticle films owing to apparent simplicity and

  리포트 | 12페이지 | 2,500원 | 등록일 2008.06.02

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  CBD실험 예비레포트

  , magnetron, ion and laser deposition.Biotechnology- Interactions of DNA and RNA with complementary strands ... 응용 요 이점은 분자의 label free detection을 할 수 있다는 점입니다.Thin Film thickness monitoring in thermal, e-beam, sputtering ... formation of biofilmsFunctionalized surfaces- Creation of selective surfaces- Lipid membranes- Polymer

  리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.01.16

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  NH3.H2O 솔루션을 통해 조합되는 ZnO 나노 결정체 배열의 형태 변경

  Lee, Deposition of ZnO thin films by magnetron sputtering for a film bulk acoustic resonator, Thin Solid ... Kim, S.G. Kim, C.S. Hwang, S.H. Hong, Y.H. Shin, N.H. ... Lin, Fabrication and ethanol sensing characteristics of ZnO nanowire gas sensors, Appl. Phys.

  리포트 | 14페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.06.04

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  [재료공학]박막의 증착 공정

  diode, RF diode, triode, magnetron, modified RF magnetron sputtering다음 두 가지 방법이 기본이다.(1) metallic cathode ... 필요(2) compound-coated cathode간단하나 스퍼터링 속도가 느리다. (∵ 대부분의 화합물 타겟은 sputtering yield 가 작고 이차 전자의 방출량이 많다. ... - 타겟이나 기판에 직접적인 화합물 형성에 참여하지 않음․불활성 기체로 Ar이 탁월 - 값이 싸고, 무거워서 sputtering yield가 높다.② reactive processDC

  리포트 | 14페이지 | 1,500원 | 등록일 2006.04.09

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  evaporator의 원리 및 이론

  E-beam Evaporation증착방법에 따른 굴절률 (TiO2)- E-beam evaporation, ARE : 2.2~2.35 IAD : 2.35~2.5 IP, Ion beam sputter ... LaserDC RF Pulsed DC Magnetron ReactiveReactive Cathodic arc3. ... Evaporation9) E-beam source2.

  리포트 | 31페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.12.24

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  [물리]스퍼터링에 의한 박막 증착, 예비보고서

  실험제목: 때려내기에 의한 박막 증착실험목적: 박막 성장 방법 중의 하나인 '때려내기(sputtering)에 의한 박막 증착' 방법의 원리를 이해하고, sputtering 장비를 이용하여 ... 음극과 양이온으로 덮인 플라스마 사이에는 어두운 공간이 있으며 이를 음극 덮게(sheath)라 한다. ... 따라서 sheath의 강한 전기장에 의하여 플라스마의 양이온은 음극 덮개를 지나 음극으로 운동하게 된다.

  리포트 | 23페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.09.03

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  Thermal evaporation system

  따라서 이런 경우에는 오염의 염려가 없는 환경이 필요한 것이다.둘째는 적절한 환경 제공이다.예를 들어 sputtering을 이용할 때는 수 m torr의 기압이 필요하나 CVD(chemical ... micron) 두께로 특정 기판 상에 올리는 일련의 과정을 지칭하며 이러한 방법으로는 thermal evaporation(열증착), e-beam evaporation(e-beam 증착), sputtering ... 증착(Deposition)1) Sputtering : DC 또는 RF magnetron을 이용하여 증착하고자 하는 물질의 target으로부터 입자를 떼어내어 특정 기판상에 옮겨 붙이는

  리포트 | 10페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.05.16

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